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          IC業(yè)在拐點(diǎn)生存

          作者:本刊記者 迎九 時間:2008-08-14 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏
          拐點(diǎn)挑戰(zhàn)之四:DFM

            關(guān)于拐點(diǎn)的另一方面是如何定義它。Cadence Design Systems公司DFM部市場行銷總監(jiān)Nitin Deo認(rèn)為,在今天,設(shè)計(jì)的最終實(shí)現(xiàn)在很大程度上依賴于制造工藝,這是Cadence認(rèn)為的拐點(diǎn)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/86940.htm

            回顧以往的技術(shù)節(jié)點(diǎn),像130nm或更早的180nm等,它們與當(dāng)今先進(jìn)的節(jié)點(diǎn)相比有一個顯著的差別,那就是在兩種不同設(shè)計(jì)的老節(jié)點(diǎn)之間,當(dāng)它們都通過了DRC(設(shè)計(jì)規(guī)則校驗(yàn))以及時序檢測后投入生產(chǎn),它們在產(chǎn)量上基本相同;兩者在設(shè)計(jì)上的差異與其成品在性能表現(xiàn)上的差異是相吻合的。而到了90nm及以后的更高級的節(jié)點(diǎn)處,事情開始發(fā)生改變。當(dāng)兩種不同的設(shè)計(jì)都通過了DRC及時序檢測并投入生產(chǎn)后,兩種成品的產(chǎn)量不相同;在時序方面,兩者在設(shè)計(jì)上的差異與其成品在性能表現(xiàn)上的差異不相吻合。為什么會這樣?芯片上的圖案(pattern)在制造過程中開始發(fā)生改變,產(chǎn)生了與設(shè)計(jì)圖不符的現(xiàn)象。也就是說設(shè)計(jì)的最終實(shí)現(xiàn)在很大程度上依賴于制造工藝,這就是拐點(diǎn)。

            當(dāng)這個拐點(diǎn)出現(xiàn)時,我們需要做些什么?拐點(diǎn)也許出現(xiàn)在系統(tǒng)級,或從RTL到GDS的轉(zhuǎn)化階段,或在GDS之后,或在產(chǎn)品的后處理階段,這需要進(jìn)一步的探討。這種探討要以設(shè)計(jì)的復(fù)雜性、應(yīng)用及預(yù)期的價值為基礎(chǔ)。對于及以后的節(jié)點(diǎn)來說,設(shè)計(jì)的復(fù)雜性逐步升級,原因不僅僅是結(jié)構(gòu)差異的增加以及芯片上的晶體管數(shù)目的增加,還有許多應(yīng)用定制化的出現(xiàn)。例如PDA(個人數(shù)字助理)集計(jì)算機(jī)、消費(fèi)電子產(chǎn)品和通信工具于一身,在單一芯片內(nèi)由許多功能塊在執(zhí)行這些功能,顯然,這增加了芯片的復(fù)雜性。越來越多的證據(jù)表明,芯片的單一功能高,其制造可預(yù)測性越高;芯片的非單一功能升高,其不可預(yù)測性升高。

            綜上所述,逐步升級的復(fù)雜性導(dǎo)致了使用高級節(jié)點(diǎn)技術(shù)的芯片在制造過程中出現(xiàn)物理失效或電性故障,這需要設(shè)計(jì)師通過使用可演進(jìn)發(fā)展的設(shè)計(jì)方法找到具有革命性的解決方案;找到產(chǎn)品的可預(yù)測性并把其帶入設(shè)計(jì)流程是設(shè)計(jì)師所需要的。

            目前的狀況是,對于以前的設(shè)計(jì),使用DRC,即以標(biāo)準(zhǔn)為基礎(chǔ)(rule based)的檢測就足夠了;這些標(biāo)準(zhǔn)在不斷演化,變得越來越復(fù)雜,不過對于常規(guī)的類似空間關(guān)系的檢測還是足夠的。但當(dāng)元件尺寸變得越來越小時,隨機(jī)缺陷開始出現(xiàn)了。隨機(jī)出現(xiàn)的疵點(diǎn),即在晶圓片上丟失或多出的小點(diǎn)使芯片在可制造性方面出現(xiàn)問題。從開始,對設(shè)計(jì)進(jìn)行以模擬為基礎(chǔ)的檢測是必不可少的。原因是,兩個設(shè)計(jì)不同的芯片雖然都通過了DRC檢測,但它們的成品產(chǎn)量卻不同。很明顯,DRC的檢測標(biāo)準(zhǔn)不完善,它有一些漏檢的項(xiàng)目。雖然我們可以不斷增加檢測規(guī)則的復(fù)雜性,但那于事無補(bǔ),因?yàn)樾酒系膱D案在不斷地更新,制定標(biāo)準(zhǔn)來覆蓋所有這些圖案是不可能的。而這些圖案的復(fù)雜性決定了芯片的可制造性。在制造過程中,不同的操作條件、不同的聚焦和散焦條件、不同的劑量條件和不同的加工設(shè)備等都會帶來各種各樣的復(fù)雜性。結(jié)果是,我們需要使用以模擬為基礎(chǔ)的檢測,使在設(shè)計(jì)中標(biāo)定的性能得以最大限度地體現(xiàn)在成品芯片中。無論在設(shè)計(jì)中所標(biāo)定的性能是什么,所標(biāo)定的產(chǎn)值是多少,你都應(yīng)該能夠最大限度地將它們體現(xiàn)在成品芯片中。我們用模擬檢測來增強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)檢測。

            問題是,不管你從何處開始設(shè)計(jì),可能是在C/C++階段,或是RTL階段,當(dāng)進(jìn)入具體物理實(shí)現(xiàn)階段,都要在兩個獨(dú)立的檢測中合格(圖6),一個是電性簽核(electrical sign off ),另一個是物理簽核。然后你就會把這個設(shè)計(jì)交給制造商,他們開始全權(quán)負(fù)責(zé)產(chǎn)品的生產(chǎn)。在施用RET(分辨率增強(qiáng)技術(shù))的過程中錯誤開始出現(xiàn)了。這種情況在某些高級技術(shù)節(jié)點(diǎn)的應(yīng)用中出現(xiàn)的頻率越來越高。這些錯誤可能只是物理失效,這是在進(jìn)行產(chǎn)量分析時要考慮的問題;也可能是電性故障方面的。關(guān)于電性故障,制造商不一定知道你的設(shè)計(jì)是什么,它是如何構(gòu)成的,以及是什么造成了錯誤。要改變這種狀況需要解除阻礙設(shè)計(jì)者與制造者溝通的屏障。


          圖5 可制造性解決方案
          (注:PPC為Cadence下一代OPC工具)

            另一方面就是引入DFM。Cadence認(rèn)為DFM已經(jīng)在IC-CAD行業(yè)引起了革命。事實(shí)上,在130nm和90nm及以后的高級技術(shù)節(jié)點(diǎn)的應(yīng)用中,作為工具供應(yīng)商的Cadence等公司和半導(dǎo)體制造商走得越來越近了。兩者之間的協(xié)作越來越多了。實(shí)際情況是,需要對所有影響產(chǎn)品成功制造的因素進(jìn)行建模,并將這些模型引入設(shè)計(jì)流程,用以增強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)檢測。這些因素中有些可能只是隨機(jī)缺陷,或技術(shù),或CMP(化學(xué)機(jī)械研磨)等等,它們在設(shè)計(jì)之初就應(yīng)該被考慮在內(nèi)。這樣做才能將設(shè)計(jì)者與制造者之間的屏障解除,使設(shè)計(jì)處在一個可預(yù)測的制造環(huán)境中。

            也就是說,你不能把設(shè)計(jì)的制造性放在最后才考慮。

          在拐點(diǎn)生存

            電子高峰會議期間,還有多家IC服務(wù)公司介紹了其拐點(diǎn)創(chuàng)新策略。

            · 結(jié)構(gòu)化:界于和基于單元之間
            e公司CEO Ronnie Vasishta介紹了其結(jié)構(gòu)化ASIC的優(yōu)勢。過去幾年來,新開工的ASIC和ASSP設(shè)計(jì)數(shù)量一直在快速下降,照此發(fā)展下去,到2030年左右就只會有250個設(shè)計(jì)項(xiàng)目。主要原因是不斷攀升的設(shè)計(jì)費(fèi)用和風(fēng)險。不過,通過對和基于單元的ASIC技術(shù)的取長補(bǔ)短,結(jié)構(gòu)化ASIC技術(shù)可以較大幅度地降低定制芯片的整體制造成本、縮短生產(chǎn)周期,并可高效利用標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)工藝。

            · 價值鏈制造商提供服務(wù)
            eSilicon公司總裁兼CEO Jack Harding介紹,該公司是價值鏈制造商(VCP),提供包括設(shè)計(jì)、產(chǎn)品化和制造的服務(wù)。該公司2007年成功實(shí)現(xiàn)了20多個設(shè)計(jì),其中大部分是65nm及以下工藝。如今實(shí)現(xiàn)65nm及以下設(shè)計(jì)已經(jīng)很困難,已經(jīng)近乎不可能,因此該公司目前看好65nm服務(wù)。

            · 防漏電
            Tela Innovations公司著重降低漏電方面。公司創(chuàng)始人兼CEO Scott Becker說,該公司提供下一代亞波長、低K1的45nm設(shè)計(jì),基于on-grid(柵格上)的一維布局結(jié)構(gòu),來進(jìn)行優(yōu)化布局。通過采用Tela Authoring System進(jìn)行預(yù)定義、可預(yù)測的拓?fù)浼夹g(shù),可減少柵格上的一維線條,從而使泄露降低2.5倍左右,從而達(dá)到減少漏電的巨大改進(jìn)。

            · 內(nèi)部互聯(lián)設(shè)計(jì)工具
            Silistix公司CEO David Fritz說目前89%的項(xiàng)目不能按時交貨,平均延遲高達(dá)40%以上,究其原因,就是傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)方法顯得越來越落后了。該公司側(cè)重其專用的內(nèi)部互連設(shè)計(jì)工具,可以實(shí)現(xiàn)30%的功耗較低。性能可以提高50%,設(shè)計(jì)周期加快40%。

            會議舉辦地—日式“歌舞伎(Kabuki)”酒店旁邊是我國舊金山領(lǐng)事館(居民板樓前的白平房,左側(cè)白色高大建筑是教堂)。盡管她看似普通,卻是許多華人的熱土,也是外國人辦理來華簽證的地方。北京奧運(yùn)火炬在北美唯一的傳遞地是舊金山,為此,領(lǐng)事館工作人員付出了巨大的努力。

            參考文獻(xiàn):
            1,張健,‘ASIC在創(chuàng)新中迎接PLD挑戰(zhàn)’,電子設(shè)計(jì)應(yīng)用,2008.5


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