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          高通獲供貨華為許可后,臺積電、ASML都明白怎么回事了

          • 高通獲供貨華為許可在今年6月2日舉辦的鴻蒙系統(tǒng)發(fā)布會上,華為除了推出備受期待的鴻蒙OS2.0正式版之外,還發(fā)布了好幾款新品。其中最引人注意的就是新款MatePad Pro,它不僅是華為的第一款鴻蒙平板,還透露出了一個重要信號:高通已經(jīng)獲得供貨華為許可。之所以這樣說,主要是因為10.8英寸的MatePad Pro,搭載的是閹割后的高通驍龍870處理器,不支持5G網(wǎng)絡(luò),只是一款4G芯片。但這足以證明高通與華為建立了合作關(guān)系,如果沒有得到美國的許可,在相關(guān)規(guī)則的作用下,高通肯定無法向華為出貨。大家都知道,自去年
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          為什么ASML加速來華?

          • 芯片雖小,制造難度卻很大,而且芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備光刻機的缺乏,更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵,讓我國半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的問題越加明顯,那就是在芯片制造的設(shè)備上,我國依然受制于人的問題相當嚴重。為什么ASML加速來華?北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實,國產(chǎn)光刻機突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片,令一眾對手刮目相看,但是沒有臺積電為其代工生產(chǎn),沒有屬于中國自己的高端光刻機,就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進的芯片制造企業(yè)中芯國際,因為沒有高端光刻機,至今仍然沒
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          ASML正式承認,芯片技術(shù)開始轉(zhuǎn)移

          • 在遭遇了西方的芯片技術(shù)封鎖后,我國自主研發(fā)高端光刻機的呼聲越來越高,雖然近日來很多權(quán)威人士對這樣的做法潑來了冷水,但是國際巨頭ASML卻對國產(chǎn)高端光刻機的研發(fā)充滿了“信心”。眾所周知,我國在光刻機研發(fā)領(lǐng)域起步較晚,相比于西方仍然具有較大差距,并且根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計,一臺EUV光刻機價值上億美元,并且零件數(shù)量高達上萬件,分別來自全球5000多家供應(yīng)商。更不利的是,美國、日本、德國都是光刻機核心零件的主要供應(yīng)國,而目前它們對中國的科技發(fā)展態(tài)度并不友好,所以這也給國產(chǎn)光刻機零件的供應(yīng)增添了不少難度。即便如此,國產(chǎn)光刻
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          臺積電、ASML陸續(xù)加入“美國”半導(dǎo)體聯(lián)盟

          • 近日,美國以為了振興制造業(yè)為由,組成了半導(dǎo)體聯(lián)盟,但是明眼人都能看得出來,此舉明顯是針對國產(chǎn)芯片制造業(yè)崛起的手段。對于半導(dǎo)體聯(lián)盟,全球芯片巨頭也紛紛站隊“美國”,包括高通、臺積電、微軟、谷歌、asml、三星等64家芯片半導(dǎo)體廠商陸續(xù)宣布加入。放眼望去,儼然一副對國產(chǎn)芯片形成包圍圈的樣子。不過,所謂半導(dǎo)體聯(lián)盟,實際是暗流涌動。?以“美國”為首的半導(dǎo)體聯(lián)盟暗流涌動“美國”對我們科技產(chǎn)業(yè)的壓制,在近些年一直沒有停止,甚至眼下的華為仍然受到芯片限制的影響。但在全球一體化的情況下,對華為和國產(chǎn)芯片進行壓制,完全是“
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          ASML CEO:施加限制將使中國搞出替代產(chǎn)品 我們會徹底失去該市場

          • 繼本月15日就EUV光刻機出口管制發(fā)表看法后,荷蘭ASML(阿斯麥)CEO溫彼得(Peter Wennink)在23日再次表達了自己的意見。他強調(diào)的一個重點是,這樣做只會加快中國自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認為知識產(chǎn)權(quán)保護力度要保持,但他并不認可切斷高端技術(shù)出口的做法?!叭绻悴扇〕隹诠苤拼胧⒅袊袌鼍苤T外,這將迫使他們爭取技術(shù)自主權(quán)……在15年的時間里,他們自己將能夠做出所有的這些東西,而且他們的市場(針對歐洲供應(yīng)商的市場)將徹底消失?!睖乇说迷诎⑺果溈偛克诘亍商m費爾德霍芬與媒體交流時時作出該表
          • 關(guān)鍵字: ASML  5nm  光刻機  

          ASML:如美國繼續(xù)對華“卡脖子”,歐洲芯片的中國市場會消失

          • 據(jù)美媒Politico報道,荷蘭光刻機制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示,美國針對中國的芯片出口禁令傷害了歐洲半導(dǎo)體行業(yè),“15年之內(nèi),中國將有能力制造所有產(chǎn)品。到那時,歐洲供應(yīng)商的中國市場將會消失?!薄 貙幙苏f,歐盟不應(yīng)根據(jù)美國戰(zhàn)略而限制高端技術(shù)向中國出口,這樣會加速幫助中國實現(xiàn)“科技自主”?! 〗陙?,隨著美國對中興通訊、華為以及眾多中國高科技公司的打壓,歐洲一些芯片制造關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品未獲得美國許可,無法出口給中國。這種針對中國的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤下降明顯,其中原因是歐洲對
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          ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

          •   近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了EUV光刻機,中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機?!钡沁@一說法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)。  可能很多網(wǎng)友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實際上也是如此?! SML澄清與中
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          ASML 5nm光刻機搶破頭:臺積電一開口就18臺 三星英特爾急了

          • 如今全球芯片短缺,不僅僅已經(jīng)嚴重影銷到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè),就連汽車產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增,目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求,如此之大的需求量可以說是史上的天量,三星英特爾急了。ASML光刻機搶破頭  因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家,在剛剛過去的2020年當中,ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機,也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話,就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多?! 《鴮τ谡诓?/li>
          • 關(guān)鍵字: ASML  5nm  光刻機  

          中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

          • 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報,這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機,中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?! ∮腥苏f阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司,這一點也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機,是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花。  如果有任何廠商的光刻機設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻,廠商就要付給他們以小時計的美金?! ≡?jīng),某上市公司的光刻機出問題后,排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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          全球最大光刻機廠CEO:拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢

          • 拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國在包括光刻機在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域,仍將出現(xiàn)進一步的對抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」?  離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?! ≡谶^去川普任職期內(nèi),中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一。  由于美國政府的壓力,其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售?! ∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
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          中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷

          •   今年7月,在中國科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進展,中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報》(Nano Letters)上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團隊研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報》(NanoLetters)。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng)  消息一經(jīng)發(fā)出,外界一片沸騰,一
          • 關(guān)鍵字: 中科院  光刻技術(shù)  ASML  

          荷蘭巨頭1nm光刻機迎新突破!中國訂購的EUV光刻機呢?

          •   據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報道,近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)又送來一則好消息,該司已經(jīng)與比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機的設(shè)計工作?! ?jù)了解,先進制程的光刻機對于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時,ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計工作。按照阿斯麥的計劃,預(yù)計相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準備好之后,會在2022年實現(xiàn)商業(yè)化?! ∪欢?,這家荷蘭企業(yè)的光刻機制造技術(shù)卻變得重大突破之際,我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據(jù)悉,中芯
          • 關(guān)鍵字: ASML  IMEC  光刻機  中芯國際    

          阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發(fā)貨

          • 14日訊,《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進機器匹配套準精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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          華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機?ASML華裔工程師:天方夜譚

          • 9月16日,中國科學(xué)院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱,“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進行布局,集中全院力量聚焦國家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱,從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此,首先要進行體制機制改革。他稱,目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機構(gòu),目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置。“這個工作還沒有完,只是進行了一部分,所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構(gòu)全部做完,
          • 關(guān)鍵字: 華為  中科院  EUV  光刻機  ASML  

          臺積電采購30臺EUV光刻機沖刺7/5nm,ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心

          • 臺積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣,已經(jīng)成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶,累計已經(jīng)購買了 30 臺 EUV 設(shè)備。日前,ASML 繼在韓國成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后,也在臺積電先進制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南,成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng),重量高達 180&nbs
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