繼本月15日就EUV光刻機出口管制發(fā)表看法后，荷蘭ASML（阿斯麥）CEO溫彼得（Peter Wennink）在23日再次表達了自己的意見。他強調的一個重點是，這樣做只會加快中國自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認為知識產權保護力度要保持，但他并不認可切斷高端技術出口的做法?！叭绻悴扇〕隹诠苤拼胧⒅袊袌鼍苤T外，這將迫使他們爭取技術自主權……在15年的時間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場（針對歐洲供應商的市場）將徹底消失?！睖乇说迷诎⑺果溈偛克诘亍商m費爾德霍芬與媒體交流時時作出該表
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ASML 5nm 光刻機
據美媒Politico報道，荷蘭光刻機制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示，美國針對中國的芯片出口禁令傷害了歐洲半導體行業(yè)，“15年之內，中國將有能力制造所有產品。到那時，歐洲供應商的中國市場將會消失?！薄 貙幙苏f，歐盟不應根據美國戰(zhàn)略而限制高端技術向中國出口，這樣會加速幫助中國實現“科技自主”。 近年來，隨著美國對中興通訊、華為以及眾多中國高科技公司的打壓，歐洲一些芯片制造關鍵技術和產品未獲得美國許可，無法出口給中國。這種針對中國的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤下降明顯，其中原因是歐洲對
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ASML
近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發(fā)關注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機?！钡沁@一說法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術的現有協(xié)議相關?！ 】赡芎芏嗑W友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實際上也是如此?！ SML澄清與中
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中芯國際 ASML DUV EUV
如今全球芯片短缺，不僅僅已經嚴重影銷到了科技數碼產業(yè)，就連汽車產業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求量可以說是史上的天量，三星英特爾急了。ASML光刻機搶破頭 因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過去的2020年當中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機，也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話，就占盡了全球半導體新工藝產能的半數以上還要多?！ 《鴮τ谡诓?/li>
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ASML 5nm 光刻機
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺?！ ∮腥苏f阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司，這一點也不夸張。阿斯麥所生產的光刻機，是半導體工廠生產芯片的最關鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花?！ ∪绻腥魏螐S商的光刻機設備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠商就要付給他們以小時計的美金?！ ≡洠成鲜泄镜墓饪虣C出問題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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EUV 光刻機 ASML
拜登上任在即，他會緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國在包括光刻機在內的半導體領域，仍將出現進一步的對抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開源指令集架構RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」？ 離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了?！ ≡谶^去川普任職期內，中美之間的貿易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一?！ ∮捎诿绹膲毫?，其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售?！ ∮捎诖ㄆ盏呐e動常常出其不意而且瘋狂
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EUV 光刻機 ASML
今年7月，在中國科學院官網上發(fā)布了一則研究進展，中科院蘇州所聯(lián)合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報》（NanoLetters）。圖截自官網ACS官網 消息一經發(fā)出，外界一片沸騰，一
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中科院 光刻技術 ASML
據TechWeb網站11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作?！ 私?，先進制程的光刻機對于曝光設備的分辨率要求更高。與此同時，ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線準備好之后，會在2022年實現商業(yè)化?！ ∪欢@家荷蘭企業(yè)的光刻機制造技術卻變得重大突破之際，我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據悉，中芯
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ASML IMEC 光刻機 中芯國際
14日訊，《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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ASML EUV 光刻機
9月16日，中國科學院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經設立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學中心和特色所四類機構，目的是根據科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置?！斑@個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完，
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華為 中科院 EUV 光刻機 ASML
臺積電在高端制程技術上沖鋒陷陣，已經成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶，累計已經購買了 30 臺 EUV 設備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術培訓中心后，也在臺積電先進制程的重鎮(zhèn)臺灣臺南，成立 EUV 技術培訓中心。一臺EUV系統(tǒng)需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng)，重量高達 180&nbs
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EUV 臺積電 ASML
日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設備，EUV技術已經被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產量已經達到1000萬片。他說，EUV已經成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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Intel 臺積電 ASML EUV 光刻 摩爾定律
提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應商，7nm及以下的工藝生產都要靠他們的設備。不過ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個新產品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進工藝，使得產能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復雜，這也會導致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術的檢測系統(tǒng)，內部也有復雜的光電子系統(tǒng)，能夠產生、控制多個電子束，然后根據反射回來的電子束成像來分析晶圓質量，并有
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5nm ASML 產能
據外媒報道，由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導體設備供應商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績預期。不過，這家生產極紫外線(EUV)光刻設備的荷蘭公司補充說，該公司的設備訂單依然強勁，需求也沒有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說：“需求前景沒有變化，今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當前形勢充滿挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務。”但溫寧克補充說：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場、我們的制造能力以及
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光刻機 ASML
作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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