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asml 文章 進(jìn)入 asml技術(shù)社區(qū)
Imec與ASML聯(lián)手，EUV成主流技術(shù)工具
- 日前，有消息稱，比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)Imec和微影設(shè)備制造商ASML計(jì)劃成立一座聯(lián)合研究實(shí)驗(yàn)室，共同探索在后3nm邏輯節(jié)點(diǎn)的奈米級(jí)元件制造藍(lán)圖。此次雙方這項(xiàng)合作是一項(xiàng)為期五年計(jì)劃的一部份，分為兩個(gè)階段： 首先是開(kāi)發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn)，包括最新的EUV設(shè)備準(zhǔn)備就緒?！ ∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤?shù)值孔徑(NA)的EUV微影技術(shù)潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級(jí)元件，從而推動(dòng)3nm以后的半導(dǎo)體微縮?！ O紫外光(EUV)微影技術(shù) EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長(zhǎng)為10-14 nm的極紫外
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ASML看好中國(guó)市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華
- 中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?！ ”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂(lè)觀?！ 〈饲坝邢⒅赋?，中芯國(guó)際(SMIC)今年已向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)明年交付，用于7nm節(jié)點(diǎn)?！ ⊥瑫r(shí)，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開(kāi)始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會(huì)在中國(guó)市場(chǎng)上也見(jiàn)到
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迫于美國(guó)政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國(guó)員工 ...
- 在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來(lái)加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工?！ ≡诠饪虣C(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來(lái)加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工?！ ∪绻f(shuō)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說(shuō)是皇冠上的明珠，因?yàn)楣饪虣C(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認(rèn)證
- 業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris(納斯達(dá)克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設(shè)備制造商之一的ASML密切合作而開(kāi)發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認(rèn)證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品。 隨著半導(dǎo)體行業(yè)開(kāi)始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM)，對(duì)EUV光罩無(wú)缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要嚴(yán)格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝
- 據(jù)外媒報(bào)道，光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開(kāi)始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī))，可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)?！ XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充，畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！ ⊥瑫r(shí)，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！ SML將于本季度末開(kāi)始量產(chǎn)Twin
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ASML載具供應(yīng)商家登精密談中國(guó)EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰(zhàn)
- 載具對(duì)于曝光機(jī)發(fā)揮保護(hù)、運(yùn)送和存儲(chǔ)光罩等功能十分重要。家登精密多年來(lái)致力于研究曝光機(jī)載具，并為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML提供載具相關(guān)技術(shù)。 我們主要研究EUV的配套技術(shù)，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進(jìn)階的突破口。隨著5nm技術(shù)的升級(jí)，EUV的重要性逐漸凸顯出來(lái)，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過(guò)去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術(shù)產(chǎn)品已經(jīng)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，這是一個(gè)值得自豪的成績(jī)。未來(lái)，7nm工藝逐漸向5nm升級(jí)，技術(shù)的研究會(huì)越來(lái)越困難
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看好中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)騰飛，ASML南京分公司近日開(kāi)業(yè)
- 據(jù)南京日?qǐng)?bào)報(bào)道，8月18日，全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)在南京的分公司正式開(kāi)業(yè)。作為臺(tái)積電的重要合作伙伴及上游供應(yīng)商，該企業(yè)選擇落戶在南京江北新區(qū)研創(chuàng)園孵鷹大廈。 跟隨臺(tái)積電的步伐，ASML在南京的布局在一年前啟動(dòng)。去年11月考察江北新區(qū)研創(chuàng)園后，被園區(qū)前端的產(chǎn)業(yè)定位、創(chuàng)新的整體設(shè)計(jì)、完善的軟硬件配套所吸引。今年8月，ASML南京分公司完成了750平米辦公設(shè)施搭建，以及服務(wù)工程師、裝機(jī)工程師、應(yīng)用工程師等多職能覆蓋的團(tuán)隊(duì)組建。談及ASML未來(lái)對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)前景的展望，該公司
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EUV需求看俏 ASML頻傳捷報(bào)
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財(cái)報(bào)。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機(jī)目前第二季已累積27臺(tái)訂單總計(jì)28億歐元。 ASML 第二季營(yíng)收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。 ASML預(yù)估2017第三季營(yíng)收凈額(net sales)約為22億歐元，毛
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EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財(cái)報(bào)。ASML第二季營(yíng)收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。 預(yù)估2017第三季營(yíng)收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因?yàn)槭袌?chǎng)需求和第二季的強(qiáng)勁財(cái)務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年?duì)I收成長(zhǎng)可達(dá)25%。 ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得指出:“ASML今年的主要營(yíng)收貢獻(xiàn)來(lái)自內(nèi)存芯片客戶，尤其在DRAM市場(chǎng)需求的驅(qū)動(dòng)下，這部分的
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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償
- 北京時(shí)間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對(duì)荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國(guó)光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。 尼康稱，已在荷蘭、德國(guó)和日本對(duì)阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟?？柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。” 當(dāng)前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場(chǎng)
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光刻機(jī)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)接近世界先進(jìn)水平，9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開(kāi)幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡(jiǎn)稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國(guó)的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機(jī)被稱
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