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asml 文章 進(jìn)入 asml技術(shù)社區(qū)
上海微電子與芯片制造設(shè)備廠商ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄
- 3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領(lǐng)先的芯片制造設(shè)備的領(lǐng)先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。 “全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍(lán)圖進(jìn)來(lái)一步縮小芯片尺寸，為商業(yè)和消費(fèi)者用戶提供更性能更強(qiáng)但節(jié)能的電子組件。這一技術(shù)藍(lán)圖的有效執(zhí)行需要精密復(fù)雜的制造技術(shù)，這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機(jī)構(gòu)和院
- 關(guān)鍵字： SMEE ASML
半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計(jì)2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問(wèn)世以來(lái)，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進(jìn)發(fā)展，過(guò)去數(shù)十年來(lái)包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破，才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進(jìn)，進(jìn)而帶動(dòng)全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進(jìn)。 但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進(jìn)行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺(tái)積電、英特爾(Intel)等
- 關(guān)鍵字： ASML EUV
尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉？
- 日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來(lái)可能進(jìn)行人事調(diào)整，以數(shù)位相機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主，希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營(yíng)。 根據(jù)報(bào)導(dǎo)，日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計(jì)劃，1970年代由官方與民間合作的結(jié)果，建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康，借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置，制造精密半導(dǎo)體的線路，是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國(guó)平起平坐的主因。 但是，1984年從荷蘭電機(jī)大廠飛利浦(Philips)獨(dú)立的ASML，由于積極與外界學(xué)校及廠商合作，
- 關(guān)鍵字： 尼康 ASML
ASML 10億歐元現(xiàn)金收購(gòu)蔡司半導(dǎo)體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商阿斯麥(ASML) 和德國(guó)卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導(dǎo)體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購(gòu) Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán)，以強(qiáng)化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)方面的合作，發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng)，讓半導(dǎo)體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒(méi)有進(jìn)一步股權(quán)交換的計(jì)劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長(zhǎng)期策略合作伙伴，30 多年來(lái)，為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
- 關(guān)鍵字： ASML 蔡司
ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的問(wèn)題：如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸，一面增加它們的性能。 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的過(guò)去發(fā)展均照著摩爾定律在走，這個(gè)由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增，且性能也會(huì)隨之提升。 不過(guò)，英特爾執(zhí)行長(zhǎng)科再奇去年警告，經(jīng)過(guò)幾十年的快速發(fā)展，未來(lái)半導(dǎo)體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會(huì)出現(xiàn)過(guò)去那種進(jìn)展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù)，能延后半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時(shí)間。主導(dǎo)ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
- 關(guān)鍵字： ASML 摩爾定律
ASML最先進(jìn)EUV出貨，臺(tái)積電5納米有譜
- 全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺(tái)積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來(lái)最昂貴的設(shè)備，一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9,000 萬(wàn)歐元(約新臺(tái)幣36億元)，這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示，臺(tái)積電本季將會(huì)再增購(gòu)一臺(tái)EUV設(shè)備，不過(guò)臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)
- 關(guān)鍵字： ASML 臺(tái)積電
ASML接獲設(shè)備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步
- 微影設(shè)備制造商ASML近期宣布，接獲美國(guó)一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺(tái)訂單，并將于今年底開(kāi)始陸續(xù)出貨;同時(shí)間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開(kāi)宣布，該公司與美國(guó)一家主要客戶已簽屬協(xié)議書(shū)，將提供至少十五臺(tái)的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺(tái)，以支援不斷增加的制程開(kāi)發(fā)活動(dòng)和未來(lái)世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
- 關(guān)鍵字： ASML 微影系統(tǒng)
ASML估Q1營(yíng)收未達(dá)標(biāo)
- 歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營(yíng)收低于預(yù)期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。 艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預(yù)期2014年前3個(gè)月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下，彭博社匯編12位分析師的預(yù)測(cè)均值為17.1億歐元。艾司摩爾預(yù)測(cè)毛利率42%左右，相較于調(diào)查預(yù)估中值42.5%。 艾司摩爾指出，首季利潤(rùn)率預(yù)測(cè)包括EUV系統(tǒng)的負(fù)面影響，若不含EUV，利潤(rùn)率將提高1.9個(gè)百分點(diǎn)。在
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體設(shè)備
為量產(chǎn)10nm制程鋪路 ASML攜手IMEC建置APC
- 艾司摩爾(ASML)與比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進(jìn)曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進(jìn)奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)及其設(shè)備更臻成熟，加速制程微縮技術(shù)的商用化。 ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)Martin van den Brink表示，長(zhǎng)期以來(lái)，該公司與IMEC的合作，已促成半導(dǎo)體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案，預(yù)期將進(jìn)一步加快先進(jìn)奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備
- 關(guān)鍵字： 10nm ASML
ASML提升新EUV機(jī)臺(tái)技術(shù)生產(chǎn)效率
- 微影設(shè)備大廠ASML積極提升極紫外線(EUV)機(jī)臺(tái)技術(shù)的生產(chǎn)效率，在2012年購(gòu)并光源供應(yīng)商Cymer后，大幅提升光源效率，從2009年至今光源效率分別為2009年2瓦、2010年5瓦、2011年10瓦，2012年提升至20瓦，目前已達(dá)55瓦，每小時(shí)晶圓產(chǎn)出片數(shù)為43片，預(yù)計(jì)2013年底前，可達(dá)到80瓦的目標(biāo)，2015年達(dá)250瓦、每小時(shí)產(chǎn)出125片。 半導(dǎo)體生產(chǎn)進(jìn)入10納米后，雖然可采用多重浸潤(rùn)式曝光方式，但在一片晶圓上要進(jìn)行多次的微影制程曝光，將導(dǎo)致生產(chǎn)流程拉長(zhǎng)，成本會(huì)大幅墊高，半導(dǎo)體大廠為
- 關(guān)鍵字： ASML EUV
莫大康：縮小半導(dǎo)體工藝尺寸能走多遠(yuǎn)？
- 推動(dòng)半導(dǎo)體業(yè)進(jìn)步有兩個(gè)輪子，一個(gè)是工藝尺寸縮小，另一個(gè)是硅片直徑增大，而且總是尺寸縮小為先。由半導(dǎo)體工藝路線圖看，2013年應(yīng)該進(jìn)入14納米節(jié)點(diǎn)，觀察近期的報(bào)道，似乎已無(wú)異議，而且仍是英特爾挑起大樑。盡管摩爾定律快“壽終正寢”的聲音已不容置辯，但是14nm的步伐仍按期走來(lái)，原因究竟是什么? 傳統(tǒng)光刻技術(shù)與日俱進(jìn) 當(dāng)尺寸縮小到22/20nm時(shí)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已無(wú)能力，必須采用輔助的兩次圖形曝光技術(shù)。 提高光刻的分辨率有3個(gè)途徑：縮短曝光波長(zhǎng)、增大鏡頭數(shù)值孔徑NA
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體
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