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EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼

- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財(cái)報(bào)。ASML第二季營收凈額21億歐元,毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單,讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺,總值高達(dá)28億歐元。 預(yù)估2017第三季營收凈額約為22億歐元,毛利率約為43%。因?yàn)槭袌鲂枨蠛偷诙镜膹?qiáng)勁財(cái)務(wù)表現(xiàn),ASML預(yù)估2017全年?duì)I收成長可達(dá)25%。 ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻(xiàn)來自內(nèi)存芯片客戶,尤其在DRAM市場需求的驅(qū)動下,這部分的
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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償
- 北京時(shí)間4月24日晚間消息,尼康今日宣布,已對荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟,指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。 尼康稱,已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟??柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱:“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下,在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。” 當(dāng)前,光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體,而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場
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光刻機(jī)領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進(jìn)水平,9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開幕日即3月14日,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布,SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU),為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄,ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后,進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機(jī)被稱
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上海微電子與芯片制造設(shè)備廠商ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄

- 3月14日,上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)宣布,與世界領(lǐng)先的芯片制造設(shè)備的領(lǐng)先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU),為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。 “全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍(lán)圖進(jìn)來一步縮小芯片尺寸,為商業(yè)和消費(fèi)者用戶提供更性能更強(qiáng)但節(jié)能的電子組件。這一技術(shù)藍(lán)圖的有效執(zhí)行需要精密復(fù)雜的制造技術(shù),這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機(jī)構(gòu)和院
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半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計(jì)2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進(jìn)發(fā)展,過去數(shù)十年來包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破,才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進(jìn),進(jìn)而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進(jìn)。 但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展,光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠,因此芯片制造商也正在苦思試圖進(jìn)行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革,即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù),該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉?
- 日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來可能進(jìn)行人事調(diào)整,以數(shù)位相機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主,希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營。 根據(jù)報(bào)導(dǎo),日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計(jì)劃,1970年代由官方與民間合作的結(jié)果,建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康,借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置,制造精密半導(dǎo)體的線路,是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 但是,1984年從荷蘭電機(jī)大廠飛利浦(Philips)獨(dú)立的ASML,由于積極與外界學(xué)校及廠商合作,
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ASML 10億歐元現(xiàn)金收購蔡司半導(dǎo)體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導(dǎo)體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布,由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán),以強(qiáng)化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)方面的合作,發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng),讓半導(dǎo)體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進(jìn)一步股權(quán)交換的計(jì)劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長期策略合作伙伴,30 多年來,為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
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ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的問題:如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸,一面增加它們的性能。 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的過去發(fā)展均照著摩爾定律在走,這個(gè)由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出,每隔兩年,晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增,且性能也會隨之提升。 不過,英特爾執(zhí)行長科再奇去年警告,經(jīng)過幾十年的快速發(fā)展,未來半導(dǎo)體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會出現(xiàn)過去那種進(jìn)展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù),能延后半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時(shí)間。主導(dǎo)ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
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ASML最先進(jìn)EUV出貨,臺積電5納米有譜
- 全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布,在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下,最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成,本季底前將完成三臺最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備,一臺售價(jià)高達(dá)9,000 萬歐元(約新臺幣36億元),這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備,因此發(fā)展進(jìn)度,一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 臺積電共同執(zhí)行長暨劉德音表示,臺積電本季將會再增購一臺EUV設(shè)備,不過臺積電將會于5奈米制程才會導(dǎo)入生產(chǎn)
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ASML接獲設(shè)備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步

- 微影設(shè)備制造商ASML近期宣布,接獲美國一家主要客戶十五部EUV機(jī)臺訂單,并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時(shí)間,日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司,致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑,為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布,該公司與美國一家主要客戶已簽屬協(xié)議書,將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺,以支援不斷增加的制程開發(fā)活動和未來世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
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