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生產(chǎn)力提升15% ASML交付首臺(tái)極紫外光刻機(jī)
- 芯研所消息，ASML第一臺(tái)全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)系統(tǒng)已經(jīng)交付給客戶，和前代產(chǎn)品相比生產(chǎn)力提高了約15-20％，套刻精度提高了約30％。據(jù)了解，本次交付的TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機(jī)的EUV光源波長(zhǎng)13.5nm左右，物鏡NA數(shù)值孔徑0.33，第二代EUV光刻機(jī)將會(huì)是NXE:5000系列，物鏡NA提升到0.55，進(jìn)一步提高光刻精度。ASML表示，正努力增加EUV光刻機(jī)在存儲(chǔ)行業(yè)的量產(chǎn)應(yīng)用，計(jì)劃協(xié)助三個(gè)DRAM內(nèi)存芯片客戶在未來(lái)的工藝節(jié)點(diǎn)中導(dǎo)入EUV。
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高通獲供貨華為許可后，臺(tái)積電、ASML都明白怎么回事了
- 高通獲供貨華為許可在今年6月2日舉辦的鴻蒙系統(tǒng)發(fā)布會(huì)上，華為除了推出備受期待的鴻蒙OS2.0正式版之外，還發(fā)布了好幾款新品。其中最引人注意的就是新款MatePad Pro，它不僅是華為的第一款鴻蒙平板，還透露出了一個(gè)重要信號(hào)：高通已經(jīng)獲得供貨華為許可。之所以這樣說(shuō)，主要是因?yàn)?0.8英寸的MatePad Pro，搭載的是閹割后的高通驍龍870處理器，不支持5G網(wǎng)絡(luò)，只是一款4G芯片。但這足以證明高通與華為建立了合作關(guān)系，如果沒(méi)有得到美國(guó)的許可，在相關(guān)規(guī)則的作用下，高通肯定無(wú)法向華為出貨。大家都知道，自去年
- 關(guān)鍵字： 高通 華為 臺(tái)積電 ASML
為什么ASML加速來(lái)華？
- 芯片雖小，制造難度卻很大，而且芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)的缺乏，更是成為限制我國(guó)高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵，讓我國(guó)半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的問(wèn)題越加明顯，那就是在芯片制造的設(shè)備上，我國(guó)依然受制于人的問(wèn)題相當(dāng)嚴(yán)重。為什么ASML加速來(lái)華？北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實(shí)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片，令一眾對(duì)手刮目相看，但是沒(méi)有臺(tái)積電為其代工生產(chǎn)，沒(méi)有屬于中國(guó)自己的高端光刻機(jī)，就等同于一張“紙老虎”。作為中國(guó)大陸最先進(jìn)的芯片制造企業(yè)中芯國(guó)際，因?yàn)闆](méi)有高端光刻機(jī)，至今仍然沒(méi)
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ASML正式承認(rèn)，芯片技術(shù)開(kāi)始轉(zhuǎn)移
- 在遭遇了西方的芯片技術(shù)封鎖后，我國(guó)自主研發(fā)高端光刻機(jī)的呼聲越來(lái)越高，雖然近日來(lái)很多權(quán)威人士對(duì)這樣的做法潑來(lái)了冷水，但是國(guó)際巨頭ASML卻對(duì)國(guó)產(chǎn)高端光刻機(jī)的研發(fā)充滿了“信心”。眾所周知，我國(guó)在光刻機(jī)研發(fā)領(lǐng)域起步較晚，相比于西方仍然具有較大差距，并且根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，一臺(tái)EUV光刻機(jī)價(jià)值上億美元，并且零件數(shù)量高達(dá)上萬(wàn)件，分別來(lái)自全球5000多家供應(yīng)商。更不利的是，美國(guó)、日本、德國(guó)都是光刻機(jī)核心零件的主要供應(yīng)國(guó)，而目前它們對(duì)中國(guó)的科技發(fā)展態(tài)度并不友好，所以這也給國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)零件的供應(yīng)增添了不少難度。即便如此，國(guó)產(chǎn)光刻
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臺(tái)積電、ASML陸續(xù)加入“美國(guó)”半導(dǎo)體聯(lián)盟
- 近日，美國(guó)以為了振興制造業(yè)為由，組成了半導(dǎo)體聯(lián)盟，但是明眼人都能看得出來(lái)，此舉明顯是針對(duì)國(guó)產(chǎn)芯片制造業(yè)崛起的手段。對(duì)于半導(dǎo)體聯(lián)盟，全球芯片巨頭也紛紛站隊(duì)“美國(guó)”，包括高通、臺(tái)積電、微軟、谷歌、asml、三星等64家芯片半導(dǎo)體廠商陸續(xù)宣布加入。放眼望去，儼然一副對(duì)國(guó)產(chǎn)芯片形成包圍圈的樣子。不過(guò)，所謂半導(dǎo)體聯(lián)盟，實(shí)際是暗流涌動(dòng)。?以“美國(guó)”為首的半導(dǎo)體聯(lián)盟暗流涌動(dòng)“美國(guó)”對(duì)我們科技產(chǎn)業(yè)的壓制，在近些年一直沒(méi)有停止，甚至眼下的華為仍然受到芯片限制的影響。但在全球一體化的情況下，對(duì)華為和國(guó)產(chǎn)芯片進(jìn)行壓制，完全是“
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ASML CEO：施加限制將使中國(guó)搞出替代產(chǎn)品 我們會(huì)徹底失去該市場(chǎng)
- 繼本月15日就EUV光刻機(jī)出口管制發(fā)表看法后，荷蘭ASML（阿斯麥）CEO溫彼得（Peter Wennink）在23日再次表達(dá)了自己的意見(jiàn)。他強(qiáng)調(diào)的一個(gè)重點(diǎn)是，這樣做只會(huì)加快中國(guó)自主研發(fā)的速度。雖然溫彼得認(rèn)為知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)力度要保持，但他并不認(rèn)可切斷高端技術(shù)出口的做法?！叭绻悴扇〕隹诠苤拼胧⒅袊?guó)市場(chǎng)拒之門(mén)外，這將迫使他們爭(zhēng)取技術(shù)自主權(quán)……在15年的時(shí)間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場(chǎng)（針對(duì)歐洲供應(yīng)商的市場(chǎng)）將徹底消失?！睖乇说迷诎⑺果溈偛克诘亍商m費(fèi)爾德霍芬與媒體交流時(shí)時(shí)作出該表
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ASML:如美國(guó)繼續(xù)對(duì)華“卡脖子”，歐洲芯片的中國(guó)市場(chǎng)會(huì)消失
- 據(jù)美媒Politico報(bào)道，荷蘭光刻機(jī)制造商、行業(yè)巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示，美國(guó)針對(duì)中國(guó)的芯片出口禁令傷害了歐洲半導(dǎo)體行業(yè)，“15年之內(nèi)，中國(guó)將有能力制造所有產(chǎn)品。到那時(shí)，歐洲供應(yīng)商的中國(guó)市場(chǎng)將會(huì)消失。” 溫寧克說(shuō)，歐盟不應(yīng)根據(jù)美國(guó)戰(zhàn)略而限制高端技術(shù)向中國(guó)出口，這樣會(huì)加速幫助中國(guó)實(shí)現(xiàn)“科技自主”?！ 〗陙?lái)，隨著美國(guó)對(duì)中興通訊、華為以及眾多中國(guó)高科技公司的打壓，歐洲一些芯片制造關(guān)鍵技術(shù)和產(chǎn)品未獲得美國(guó)許可，無(wú)法出口給中國(guó)。這種針對(duì)中國(guó)的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業(yè)利潤(rùn)下降明顯，其中原因是歐洲對(duì)
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ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同
- 近日，中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作，有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī)，中芯國(guó)際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)?！钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清，該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?！ 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈，這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普，EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí)，實(shí)際上也是如此?！ SML澄清與中
- 關(guān)鍵字： 中芯國(guó)際 ASML DUV EUV
ASML 5nm光刻機(jī)搶破頭：臺(tái)積電一開(kāi)口就18臺(tái) 三星英特爾急了
- 如今全球芯片短缺，不僅僅已經(jīng)嚴(yán)重影銷(xiāo)到了科技數(shù)碼產(chǎn)業(yè)，就連汽車(chē)產(chǎn)業(yè)也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國(guó)外媒體稱臺(tái)積電一口氣向荷蘭ASML下達(dá)了18臺(tái)最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)需求，如此之大的需求量可以說(shuō)是史上的天量，三星英特爾急了。ASML光刻機(jī)搶破頭 因?yàn)槟壳叭蚰軌蛱峁┳钕冗M(jìn)極紫外光刻機(jī)的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過(guò)去的2020年當(dāng)中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺(tái)極紫外光刻機(jī)，也就是說(shuō)臺(tái)積電如果一口氣吞掉了18臺(tái)的話，就占盡了全球半導(dǎo)體新工藝產(chǎn)能的半數(shù)以上還要多?！ 《鴮?duì)于正在步
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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司
- 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào)，這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺(tái)?！ ∮腥苏f(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司，這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī)，是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟，沒(méi)有刀，再好的師傅也雕不出來(lái)花?！ ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻，廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?！ ≡?jīng)，某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后，排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO：拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)
- 拜登上任在即，他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎？近期，全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示，即使總統(tǒng)換屆，兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域，仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法，發(fā)展芯片，開(kāi)源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車(chē)」？ 離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來(lái)越近了?！ ≡谶^(guò)去川普任職期內(nèi)，中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?！ ∮捎诿绹?guó)政府的壓力，其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷(xiāo)售?！ ∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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中科院研發(fā)者回應(yīng)5納米光刻技術(shù)突破ASML壟斷
- 今年7月，在中國(guó)科學(xué)院官網(wǎng)上發(fā)布了一則研究進(jìn)展，中科院蘇州所聯(lián)合國(guó)家納米中心在《納米快報(bào)》（Nano Letters）上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發(fā)表在《納米快報(bào)》（NanoLetters）。圖截自官網(wǎng)ACS官網(wǎng) 消息一經(jīng)發(fā)出，外界一片沸騰，一
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荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破！中國(guó)訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)呢？
- 據(jù)TechWeb網(wǎng)站11月30日最新報(bào)道，近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）又送來(lái)一則好消息，該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作。 據(jù)了解，先進(jìn)制程的光刻機(jī)對(duì)于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時(shí)，ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)工作。按照阿斯麥的計(jì)劃，預(yù)計(jì)相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準(zhǔn)備好之后，會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化?！ ∪欢?，這家荷蘭企業(yè)的光刻機(jī)制造技術(shù)卻變得重大突破之際，我國(guó)芯片制造巨頭——中芯國(guó)際自阿斯麥訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)至今卻還未到貨。據(jù)悉，中芯
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚
- 9月16日，中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱，“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類(lèi)機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類(lèi)定位、分類(lèi)管理、分類(lèi)評(píng)價(jià)、分類(lèi)資源配置?！斑@個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類(lèi)機(jī)構(gòu)全部做完，
- 關(guān)鍵字： 華為 中科院 EUV 光刻機(jī) ASML
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