光刻機(jī) 文章 進(jìn)入光刻機(jī)技術(shù)社區(qū)
繞開ASML重振業(yè)績 日本尼康逆勢開拓中國光刻機(jī)市場
- 日本尼康（Nikon）為了重振業(yè)績，將大幅轉(zhuǎn)變半導(dǎo)體光刻機(jī)業(yè)務(wù)的戰(zhàn)略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對華出口管制的成熟技術(shù)設(shè)備，在2024年投放新產(chǎn)品，通過尋求逆勢開拓中國市場，以實(shí)現(xiàn)卷土重來?！度战?jīng)中文網(wǎng)》報(bào)導(dǎo)說，尼康預(yù)測2023財(cái)年（截至2024年3月）的合并凈利潤將同比減少22%，降至350億日元（約合臺幣72億元）。半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)的精密機(jī)械業(yè)務(wù)以及相機(jī)影像業(yè)務(wù)是2大支柱，其中高檔微單相機(jī)銷售強(qiáng)勁，但精密機(jī)械業(yè)務(wù)低迷影響獲利。報(bào)導(dǎo)說，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心，三菱UFJ摩根士丹利證券的調(diào)查
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佳能押注納米壓印技術(shù) 挑戰(zhàn)光刻機(jī)老大ASML
- 日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術(shù)，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備集群。計(jì)劃將新型芯片制造設(shè)備的價(jià)格定為阿斯麥極紫外光刻機(jī)的十分之一左右，從而在光刻機(jī)領(lǐng)域取得進(jìn)展。佳能首席執(zhí)行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造設(shè)備售價(jià)將比阿斯麥（ASML）的極紫外光刻（EUV）設(shè)備少一位數(shù)，雖然最終的定價(jià)目前還沒有敲定，但是可以預(yù)見將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開辟出一條新的道路。
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美國封鎖也不可能不賣光刻機(jī)！ASML喊話：中國市場明年業(yè)務(wù)非常樂觀
- 11月6日消息，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）表示，自家在中國市場明年業(yè)務(wù)非常樂觀。ASML中國區(qū)總裁沈波強(qiáng)調(diào)，今年阿斯麥中國的業(yè)務(wù)增長很快，預(yù)期全年中國占阿斯麥全球的營收會(huì)超過20%，對明年在中國的業(yè)務(wù)也非常的樂觀。沈波表示："我們2023年在中國的招聘是超過200人的，2024年預(yù)計(jì)業(yè)務(wù)的發(fā)展會(huì)繼續(xù)帶來很多需求，團(tuán)隊(duì)的擴(kuò)充應(yīng)該還會(huì)是一個(gè)相對比較大的規(guī)模。"按照沈波的說法，從1988年首臺機(jī)器運(yùn)到中國，到2023年底，ASML在中國的光刻機(jī)加上量測的機(jī)臺裝機(jī)量接近1400臺。近期美
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佳能押注納米壓印技術(shù) 價(jià)格比阿斯麥EUV光刻機(jī)“少一位數(shù)”
- 11月6日消息，日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術(shù)，并計(jì)劃將新型芯片制造設(shè)備的價(jià)格定在阿斯麥最好光刻機(jī)的很小一部分，從而在光刻機(jī)領(lǐng)域取得進(jìn)展。納米壓印技術(shù)是極紫外光刻（EUV）技術(shù)的低成本替代品。佳能首席執(zhí)行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的納米壓印技術(shù)將為小型芯片制造商生產(chǎn)先進(jìn)芯片開辟出一條道路。“這款產(chǎn)品的價(jià)格將比阿斯麥的EUV少一位數(shù)，”現(xiàn)年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔(dān)任佳能總裁，上一次退
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納米壓?。阂粋€(gè)「備胎」走向「臺前」的故事
- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備。對于 2004 年就開始探索納米壓印技術(shù)的佳能來說，新設(shè)備的推出無疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個(gè)設(shè)備型號是 FPA-1200NZ2C，目前可以實(shí)現(xiàn)最小線寬 14nm 的圖案化，相當(dāng)于生產(chǎn)目前最先進(jìn)的邏輯半導(dǎo)體所需的 5 納米節(jié)點(diǎn)。佳能表示當(dāng)天開始接受訂單，目前已經(jīng)向東芝供貨。半導(dǎo)體行業(yè)可謂是「苦光刻機(jī)久已」，納米壓印設(shè)備的到來，讓期盼已久的半導(dǎo)體迎來一線曙光。那么什么是納米壓印技術(shù)？這種技術(shù)距離真的能夠取代光刻機(jī)嗎？納米壓印走向臺前想要
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佳能尼康，是怎么被ASML甩開的
- 10 月，光刻機(jī)大廠佳能（Canon）公司通過新聞稿宣布，其已經(jīng)開始銷售基于「納米印刷」（Nanoprinted lithography）技術(shù)的芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設(shè)備采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人發(fā)現(xiàn)這種設(shè)備已經(jīng)達(dá)到了 EUV 光刻機(jī)的水平，甚至將顛覆行業(yè)巨頭 ASML。自從 ASML 成功取代尼康佳能，成為高端光刻機(jī)的唯一王者之后，這還是第一次傳出這么震撼的消息。日本的光刻機(jī)，從稱霸到被甩開，經(jīng)歷了什么？來自上個(gè)世紀(jì)的光鮮上世紀(jì)末
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光刻機(jī)巨頭 ASML 第三季度凈利潤 19 億歐元，今年銷售額預(yù)計(jì)增長 30%
- IT之家 10 月 18 日消息，光刻機(jī)巨頭 ASML 今日公布了第三季度財(cái)務(wù)業(yè)績，凈銷售額為 67 億歐元（IT之家備注：當(dāng)前約 517.91 億元人民幣），凈利潤為 19 億歐元（當(dāng)前約 146.87 億元人民幣），環(huán)比都稍有下降，毛利率為 51.9%?！?官方圖片錯(cuò)誤，最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度凈預(yù)訂額為 26 億歐元（當(dāng)前約 200.98 億元人民幣），其中 EUV 預(yù)訂額為 5 億歐元（當(dāng)前約 38.65 億元人民幣）。ASML 預(yù)計(jì) 2023 年第四季度凈
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非光刻方案，佳能開始銷售 5nm 芯片生產(chǎn)設(shè)備
- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發(fā)布新聞稿，開始銷售芯片生產(chǎn)設(shè)備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復(fù)雜光刻技術(shù)的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示這套生產(chǎn)設(shè)備的工作原理和行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到硅晶圓上。這套設(shè)備可以應(yīng)用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產(chǎn)相當(dāng)于 5nm 工藝的芯片。佳能表示會(huì)繼續(xù)改進(jìn)和發(fā)展這套系統(tǒng)，未來有望用于生產(chǎn) 2nm 芯片。IT之家注：納米印刷（
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俄羅斯正在開發(fā)可替代光刻機(jī)的芯片制造工具
- 近期，俄羅斯國際新聞通訊社報(bào)道，俄羅斯在開發(fā)可以替代光刻機(jī)的芯片制造工具。據(jù)悉，圣彼得堡理工大學(xué)的研究人員開發(fā)出了一種“光刻復(fù)合體”，可用于蝕刻生產(chǎn)無掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域獲得主動(dòng)權(quán)。該設(shè)備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學(xué)蝕刻的設(shè)備，其中一種工具的成本為500萬盧布（約36.7萬元人民幣），另一種工具的成本未知。開發(fā)人員介紹，傳統(tǒng)光刻技術(shù)需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業(yè)軟件控制，可實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化，隨后的另外一臺設(shè)備可直接用于形成納米結(jié)構(gòu)，但也可以制作硅膜，例如
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ASML再次改口！國家迅速回應(yīng)，外媒：荷蘭將光刻機(jī)事情鬧大了
- 近年來，光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展迅猛，成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機(jī)行業(yè)的龍頭企業(yè)，其對華出口光刻機(jī)的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而，最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化，引發(fā)了國家的迅速回應(yīng)。荷蘭的決定被外媒認(rèn)為將光刻機(jī)事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴和市場地位、我國光刻機(jī)技術(shù)的突破、ASML公司對華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進(jìn)行分析。ASML公司對華出口光刻機(jī)態(tài)度的變化ASML公司在對華出口光刻機(jī)的態(tài)度上一直搖擺不定。
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光刻機(jī)發(fā)展要另辟蹊徑？
- 最近，光刻機(jī)話題異?；馃?，似乎全世界都在關(guān)注中國本土相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。要想制造出一臺可商用的高端光刻機(jī)（可制造 7nm 及更先進(jìn)制程芯片），是一項(xiàng)復(fù)雜的工程，因?yàn)楦叨斯饪虣C(jī)所需要的精密零部件太多了，每一種的技術(shù)含量都非常高，而且，要想把這些零部件組合成一臺可用的機(jī)器，需要長期的技術(shù)和實(shí)踐積累。光刻這個(gè)概念，有廣義和狹義之分。在狹義層面，就是用光去「復(fù)印」集成電路圖案，這也是我們常說的光學(xué)光刻技術(shù)，特別是紫外線光刻技術(shù)（DUV 和 EUV）。在廣義層面，光刻泛指各種集成電路「復(fù)印」和「印刷」技術(shù)，這些技術(shù)中，
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國產(chǎn)光刻機(jī)工廠落地雄安？中國電子院澄清：這是北京高能同步輻射光源
- 近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。對此，中國電子工程設(shè)計(jì)院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱該項(xiàng)目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目（HEPS）。北京高能同步輻射光源項(xiàng)目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項(xiàng)目早在2019年就開始建設(shè)、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻機(jī)之爭掀起第三波浪潮
- 當(dāng)下，光刻機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的地位前所未有的重要，而且已經(jīng)突破了技術(shù)和產(chǎn)業(yè)范疇，引發(fā)了新一波光刻機(jī)之爭。從歷史發(fā)展情況來看，光刻機(jī)（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機(jī)）的發(fā)展和應(yīng)用經(jīng)歷了很多波折，總體來看，有兩個(gè)值得關(guān)注的時(shí)期，一個(gè)是 ASML 依靠浸沒式技術(shù)，異軍突起，并將原本的行業(yè)兩強(qiáng)甩在身后，這是技術(shù)之戰(zhàn)，另一個(gè)是 EUV 商用化之后，先進(jìn)制程（從 16nm 開始）爭奪戰(zhàn)打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開競爭，這是商業(yè)之爭。從目前的情況來看，第三波光刻機(jī)之爭正
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尼康推出新一代步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”，預(yù)計(jì) 2024 年夏季上市。據(jù)稱，這種光刻機(jī)具有縮小投影放大系統(tǒng)，支持功率半導(dǎo)體、通信半導(dǎo)體和 MEMS 等多種產(chǎn)品，并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設(shè)備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進(jìn)技術(shù)在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應(yīng)客戶對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。尼康表示，與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比，NS
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日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機(jī)，加強(qiáng)技術(shù)合作
- IT之家 6 月 26 日消息，據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導(dǎo)體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開發(fā)?！?圖源：ASML報(bào)道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼，采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報(bào)道指出，如果 Ra
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光刻機(jī)介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺,
金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。
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網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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