光刻機 文章 進(jìn)入光刻機技術(shù)社區(qū)
開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機
- 知情人士稱，美國美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán)，而有關(guān)芯片的詳細(xì)計劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機
- 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進(jìn)度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、
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在光刻機新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊了
- 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術(shù)水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機能夠達(dá)到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數(shù)字，這是某機構(gòu)統(tǒng)計的，2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺，另外的
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ASML預(yù)測，未來九個月對中國的銷量將大幅回升
- ASML 財務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來幾個季度中國大陸的銷量將顯著回升。
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ASML：2023年光刻機市場需求將超出產(chǎn)能
- 受消費電子市場低迷影響，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期，上游半導(dǎo)體設(shè)備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過，光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財報顯示，盡管光刻機業(yè)務(wù)遭遇一定挑戰(zhàn)，但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預(yù)期增長，半導(dǎo)體需求結(jié)構(gòu)性分化4月19日，ASML發(fā)布2023年第一季度財報，該季ASML實現(xiàn)了凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達(dá)20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元，其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預(yù)計2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
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ASML遭臺積電大規(guī)模砍單，強調(diào)7nm高端DUV光刻機仍可出口中國
- 據(jù)臺系設(shè)備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設(shè)備訂單及延后拉貨時間，2024全年業(yè)績將明顯承壓。根據(jù)ASML的財報顯示，今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環(huán)比均有增加，但ASML在財報中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
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光刻機龍頭ASML全球總裁來中國了！
- 3月28日，商務(wù)部部長王文濤會見荷蘭阿斯麥公司（ASML）全球總裁溫寧克。商務(wù)部官網(wǎng)消息，3月23日-28日，王文濤相繼會見了高通、蘋果、寶馬等超10家外企高管。王文濤強調(diào)，中國堅定不移推進(jìn)高水平開放，愿為包括阿斯麥公司（ASML）在內(nèi)的跨國公司來華發(fā)展創(chuàng)造良好營商環(huán)境，并提供高效服務(wù)。希望阿斯麥堅定對華貿(mào)易投資合作信心，為中荷經(jīng)貿(mào)合作作出積極貢獻(xiàn)，并共同維護(hù)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定。雙方還就阿斯麥在華發(fā)展等議題進(jìn)行了交流。證券時報·e公司記者留意到，上述會面距離3月8日荷蘭政府發(fā)布有關(guān)即將出臺的半導(dǎo)體
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(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞－莫大康
- 半導(dǎo)體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻(xiàn)的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進(jìn)的道路上并沒有停步。
- 關(guān)鍵字： 莫大康 半導(dǎo)體 華為 光刻機 NAND
(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞-莫大康
- 半導(dǎo)體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻(xiàn)的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進(jìn)的道路上并沒有停步
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納米壓印光刻，能讓國產(chǎn)繞過 ASML 嗎
- 自從國產(chǎn)替代概念興起，很少關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的人都對光刻機有所耳聞。目前，全世界最先進(jìn)的芯片，幾乎都繞不開 ASML（阿斯麥）的 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）光刻機，但它又貴又難造，除了全力研發(fā)光刻機，國產(chǎn)有沒有其它的路可以走？事實上，光刻技術(shù)本身存在多種路線，離產(chǎn)業(yè)最近的，當(dāng)屬納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，簡稱 NIL）。日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比 EUV 光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和
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國產(chǎn)光刻機的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強調(diào)，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據(jù)報道，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
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佳能發(fā)布半導(dǎo)體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等
- IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機新產(chǎn)品 —— i 線步進(jìn)式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn) 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。據(jù)介紹，新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時實現(xiàn) 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領(lǐng)域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時，通過充分利用高解像力與大視場的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應(yīng)用于頭戴式
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ASML堵了EUV光刻機的路，但國產(chǎn)光刻機有3大新方向
- 眾所周知，當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，甚至可以說很長一段時間內(nèi)，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機，不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈，形成了捆綁關(guān)系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠商至關(guān)重要，掌握核心科技，缺少這些供應(yīng)鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產(chǎn)光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
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預(yù)計出貨國內(nèi)超100臺光刻機，美國急不急？
- 日前，ASML又正式官宣，2023年營收預(yù)計增長25%，預(yù)計國內(nèi)市場營收將會穩(wěn)定在22億歐元。數(shù)據(jù)顯示，一臺DUV光刻機的售價大約在2000萬美元，22億歐元大約可以購買超100臺DUV光刻機，這意味著ASML預(yù)計今年向國內(nèi)出貨超100臺DUV光刻機。不管如此，ASML宣布到2025年，DUV光刻機產(chǎn)能將會達(dá)到600臺，EUV光刻機產(chǎn)能達(dá)到90臺，這意味著未來一段時間內(nèi)，DUV光刻機仍是主力出貨設(shè)備。對此，就有外媒表示美國急不急？首先，光刻機是生產(chǎn)制造芯片的必要設(shè)備，也是美掌握為數(shù)不多的卡脖子設(shè)備，一旦光
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佳能推出晶圓測量機新品 MS-001：比光刻機精度更高，可提高生產(chǎn)效率
- IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，制造工藝日趨復(fù)雜，半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對準(zhǔn)測量點也越來越多。如果在半導(dǎo)體光刻機中對數(shù)量眾多的測量點進(jìn)行對準(zhǔn)測量的話，測量本身會非常耗時，進(jìn)而就會降低半導(dǎo)體光刻機的生產(chǎn)效率。為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進(jìn)了晶圓測量機，將半導(dǎo)體光刻機的對準(zhǔn)測量功能分離出來，以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測量機“MS-001”，該
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光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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