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          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 10nm

          臺積電:不用等7nm,10nm我們就超越英特爾

          •   以晶圓代工起家的臺積電稍早前發(fā)布消息稱,公司將在2017年量產10nm芯片,公司聯(lián)席CEO劉德音近日又在公司會議宣布7nm芯片的生產將在2018年啟動。公司董事長顧問蔣尚義對此解釋,臺積電目標就是要超越英特爾,成為全球技術最先進的芯片制造商。   近年來半導體業(yè)出現了一系列并購案,包括英特爾合并全球可程式邏輯晶片大廠之一Altera,英特爾并以15億美元投資手機晶片大廠展訊母公司清華紫光,持股比達20%。Altera和展訊均為臺積電先進制程的主要客戶,如今被英特爾并購和入股,按照英特爾“
          • 關鍵字: 臺積電  10nm  

          三星10nm 拚明年底量產

          •   半導體市場第2季需求明顯趨緩,但國際半導體設備材料產業(yè)協(xié)會(SEMI)公布2015年4月份北美半導體設備訂單及出貨金額,卻同步攀上近3年新高,其中 有2個主要原因,一是記憶體廠力拚20奈米DRAM制程微縮及3D NAND擴產;二是晶圓代工廠10奈米制程競賽正式開打。   臺積電16奈米鰭式場效電晶體(FinFET)制程已進入量產階段,雖然進度上落后三星14奈米FinFET制程,但臺積電信心滿滿,認為第3季產能快速拉升后,明年將可奪回14/16奈米FinFET制程市場占有率,且加計20奈米的市占率將在
          • 關鍵字: 三星  10nm   

          10nm制程技術穩(wěn)定 Intel新處理器順利推出

          •   稍早宣布更新的15寸MacBook Pro with Retina Display,確定仍維持使用Intel Haswell平臺的第四代Core i7系列處理器,顯示Intel確定選擇在Computex 2015期間正式解禁高效能表現的Broadwell平臺H系列處理器,以及兩款高階桌機版處理器。   另外就先前消息顯示,Intel預期在今年下半年于美國IDF 2015期間揭曉采用14nm制程技術生產的Skylake平臺處理器,分別將推出S系列、Y系列、U系列,以及H系列規(guī)格,藉此讓新款處理器能在2
          • 關鍵字: Intel  10nm  

          推進10nm制程 ARM擬提前揭曉新核心架構

          • 完全沒看出來ARM要往服務企業(yè)領域發(fā)展,還是在繼續(xù)強化移動設備領域,聽說ARM表示有相當信心維持領先地位同時也認為Intel即便加速追趕也無法造成明顯威脅。
          • 關鍵字: ARM  10nm  

          臺積電10nm報喜 2020年營收占比將達55%

          •   分享外資透露,臺積電共同執(zhí)行長劉德音18日在美林論壇專題演講中指出,物聯(lián)網將是繼移動設備之后,半導體產業(yè)的成長新機會。臺積電先進制程也捎來喜訊,劉德音預估,2020年時10納米制程占臺積電總營收比重將達55%。   業(yè)界認為,物聯(lián)網商機龐大,估計至2020年時,可創(chuàng)造約500億顆芯片需求,臺積電身為全球晶圓代工龍頭,在物聯(lián)網應用的成熟制程已取得制高點位置,加上臺積電10納米先進制程可望成為2020年營收主力,追趕英特爾,在成熟與先進制程同步大躍進帶動下,臺積電后市看俏。   劉德音受邀在美林論壇以
          • 關鍵字: 臺積電  10nm  

          臺積電10nm訂單傳出好消息 趕超英特爾?

          •   外資圈17日傳出,因臺積電10納米制程技術大幅提升,先前在14納米制程琵琶別抱英特爾的阿爾特拉(Altera),將在臺積電與英特爾中擇一作為10納米合作伙伴。外資法人認為,阿爾特拉訂單若重回臺積電懷抱,將是繼去年拿下蘋果A8訂單后的另一項利多題材,投資價值將進一步攀升。        臺積電各制程成本節(jié)省幅度   外資回頭買超臺積電   受此利多消息,外資昨天又回頭買超臺積電8,139張,暫時化解“賣臺積電、轉買三星”的潛在危機,臺積電昨天以2.05%漲
          • 關鍵字: 臺積電  10nm  

          10nm級移動應用處理器戰(zhàn)火一觸即發(fā)

          •   10納米級移動應用處理器(AP)戰(zhàn)火一觸即發(fā),據傳英特爾(Intel)繼三星電子 (Samsung Electronics)之后,2015年將推出14納米移動AP Cherry Trail,英特爾與三星電子的移動AP之爭,勢將對業(yè)界龍頭高通(Qualcomm)產生威脅。   據Digital Times報導,日前業(yè)界傳出消息,指出繼應用14納米制程技術的Broadwell中央處理器(CPU)后,2015年內英特爾將再推移動AP Cherry Trail,目前已開始為制造商供貨,預定將在2015年中旬
          • 關鍵字: 三星  10nm  

          臺積電預計2017年量產10nm 追上英特爾

          •   晶圓代工龍頭臺積電(TSMC)透露該公司將在2017年開始量產10納米制程,屆時將能與英特爾(Intel)并駕齊驅;“我們的10納米制程性能表現,包括速度、功率與密度,將會與我們認為英特爾為其10納米技術所定義的規(guī)格相當;”臺積電企業(yè)通訊部門總監(jiān)Elizabeth Sun表示:“憑藉技術實力,我們認為能在10納米節(jié)點拉近差距。”   而臺積電首度 表示,今年預期將會有半導體產業(yè)界最大規(guī)模的資本支出,其目標是鞏固其晶圓代工市場領導地位,以對抗英特爾、三星
          • 關鍵字: 臺積電  10nm  

          英特爾:10nm工藝離大家不遠了

          •   半導體技術可以說是人類社會發(fā)展速度最快的一項技術了,摩爾定律的魔力刺激著信息社會飛速發(fā)展,半導體的工藝制程現在已經邁入了驚人的14納米級別,誰還能想像到50年前笨重的晶體管時代?   不過在半導體工藝進入14nm之后,芯片的發(fā)展速度有變慢的趨勢。2014年,英特爾就在14納米工藝處理器的發(fā)布時間上放了大家鴿子,采用14nm工藝的Broadwell原本2014年年中發(fā)布,但實際上到今年才會實現量產。半導體工藝在進入10nm級別后就已經逼近硅基半導體的物理極限,制造成本和風險都在不斷提高,本來按照英特爾
          • 關鍵字: 英特爾  10nm  

          Intel 10nm時間敲定 拒絕14nm悲劇再演

          • 如果認為英特爾推遲14nm,打破摩爾定律或者英特爾的節(jié)奏是個悲劇,那么這種看法才是真正的悲劇,因為摩爾定律本身是個總結性的現象,而非預測性的或者技術發(fā)展的本質規(guī)律。
          • 關鍵字: Intel  10nm  

          英特爾芯片開發(fā)受阻 10nm要等到2017

          •   半導體工藝進入1xnm節(jié)點之后,各大巨頭都遭遇了嚴重的困難,尤其是Intel 14nm出現了前所未有的延遲,與計劃進度嚴重脫節(jié),至今只有寥寥兩個產品線,今年下半年才會全面普及。   臺積電16nm原本寄予厚望,2015年初就要快速量產,結果連續(xù)跳票,現在看最快也得年底了,甚至得2016年。   三星14nm相對還好一些,起步雖晚但是進步很快,據說良品率提高很快,又拉上Global Foundries做同盟,已經贏得了蘋果、高通的芳心。   如果按照原先的Tick-Tock發(fā)展模式,后續(xù)進展順利的
          • 關鍵字: 英特爾  10nm  臺積電  

          Intel昭告未來:10nm報到

          •   在工藝技術上,Intel一直保持著遙遙領先的節(jié)奏?,F在,10nm已經來了。
          • 關鍵字: Intel  10nm  

          ARM與臺積電宣布采用10nm FinFET工藝

          •   在宣布將以16nm FinFET制程技術量產ARM 64位處理器后,臺積電再進一步與ARM攜手宣布,未來將透過10nm FinFET制程技術制作64位架構ARMv8-A處理器 ,預計最快在2015年第四季啟用此項技術,屆時將可支持各客戶采用10nm FinFET制程技術完成64位ARM架構處理器的設計定案。   進一步縮減制程技術后,預期將使相同架構處理器產品能以更少電功耗發(fā)揮更高的運作效能,或是更進一步縮減硬件產品體積、散熱所需空間等特性。
          • 關鍵字: ARM  10nm  

          檢測10nm以下半導體 CD-SEM量測技術邁大步

          •   半導體進入10奈米以下技術節(jié)點或三維(3D)結構時,將面臨嚴重的導孔偏移問題,所幸,設備商已研發(fā)出具備更高影像解析能力的微距量測掃描式電子顯微鏡(CD-SEM),可提供更清晰的對焦和更精細的量測影像,有效克服導孔對準挑戰(zhàn)。   多年來,業(yè)界一直使用微距量測掃描式電子顯微鏡(CD-SEM)來進行量測,此種顯微鏡會射出電子束,與要掃描的材料作用,然后回傳訊號,再由量測機臺比對運算這些訊號。今日,針對小于10奈米(nm)的尺寸,CD-SEM或其他所有量測設備,必須處理更多的薄膜層、更高的縱橫比(HAR
          • 關鍵字: 10nm  半導體  

          半導體材料爭相從10nm向5nm發(fā)展

          •   隨著晶體管向10nm、7nm甚至更小尺寸的發(fā)展,半導體行業(yè)面臨著真正的材料選擇困擾?;濉系?、柵和接觸材料都迫切需要評估。   “在14nm,10nm工藝時代,器件架構是確定的。”Intermolecular有限公司半導體部門高級副總裁兼總經理RajJammy表示,“大多數情況下采用FinFET架構,當然也有其它選項,如完全耗盡型絕緣硅(SOI)。”   對于10nm和7nm來說,Jammy認為高K值金屬柵將占主導地位,但真正的挑戰(zhàn)將是溝道
          • 關鍵字: 半導體材料  10nm  
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