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          機(jī)構(gòu)預(yù)計(jì)今年服務(wù)器 DRAM 需求將達(dá)到 684.86 億 GB,首次超過移動(dòng)設(shè)備

          • 11 月 2 日消息,據(jù)國外媒體報(bào)道,受電子消費(fèi)品續(xù)期下滑影響,當(dāng)前全球存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)并不樂觀,DRAM 與 NAND 閃存的需求和價(jià)格都有下滑,三星電子、SK 海力士等存儲(chǔ)芯片制造商的業(yè)績(jī),也受到了影響。雖然存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)整體的狀況并不樂觀,但部分領(lǐng)域的需求,卻在不斷增長(zhǎng)。研究機(jī)構(gòu)在最新的報(bào)告中就表示,服務(wù)器 DRAM 的需求在不斷增長(zhǎng),在今年有望首次超過智能手機(jī)、平板電腦等移動(dòng)設(shè)備對(duì) DRAM 的需求。研究機(jī)構(gòu)在報(bào)告中預(yù)計(jì),今年全球服務(wù)器對(duì) DRAM 的需求,會(huì)達(dá)到 684.86 億 GB,智能手機(jī)、平板
          • 關(guān)鍵字: DRAM  市場(chǎng)  

          功率效率提高15%,美光1β DRAM樣本出貨

          • 當(dāng)?shù)貢r(shí)間11月1日,美光宣布正在向選定的智能手機(jī)制造商和芯片組運(yùn)送其1β DRAM技術(shù)的合格樣品合作伙伴,并已通過世界上最先進(jìn)的DRAM技術(shù)節(jié)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)準(zhǔn)備。據(jù)官方介紹,美光于2021年實(shí)現(xiàn)1α LPDDR5X DRAM批量出貨,此次新的1β制程DRAM比1α制程DRAM功率效率提高15%,每區(qū)儲(chǔ)存的位元數(shù)也增加35%。美光表示,隨著LPDDR5X的出樣,移動(dòng)產(chǎn)品將率先從1β DRAM 的提升中獲益,提升新一代智能手機(jī)的性能的同時(shí),消耗更少的電力。美光DRAM程序整合部門副總裁Thy Tran表示,新版
          • 關(guān)鍵字: 功率效率  美光  1β DRAM  

          美光出貨全球最先進(jìn)的1β技術(shù)節(jié)點(diǎn)DRAM

          • 2022年11月2日——中國上?!獌?nèi)存與存儲(chǔ)解決方案領(lǐng)先供應(yīng)商 Micron Technology Inc.(美光科技股份有限公司,納斯達(dá)克股票代碼:MU)今日宣布,其采用全球最先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的1β DRAM產(chǎn)品已開始向部分智能手機(jī)制造商和芯片平臺(tái)合作伙伴送樣以進(jìn)行驗(yàn)證,并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備。美光率先在低功耗LPDDR5X移動(dòng)內(nèi)存上采用該新一代制程技術(shù),其最高速率可達(dá)每秒8.5Gb。該節(jié)點(diǎn)在性能、密度和能效方面都有顯著提升,將為市場(chǎng)帶來巨大收益。除了移動(dòng)應(yīng)用,基于1β節(jié)點(diǎn)的DRAM產(chǎn)品還具備低延遲、低功耗和高
          • 關(guān)鍵字: 美光  1β技術(shù)節(jié)點(diǎn)  DRAM  

          美光發(fā)布 LPDDR5X-8500 內(nèi)存:采用先進(jìn) 1β 工藝,15% 能效提升

          • IT 之家 11 月 1 日消息,美光今天發(fā)布了 LPDDR5X-8500 內(nèi)存,采用先進(jìn) 1β 工藝,正在向智能手機(jī)制造商和芯片組合作伙伴發(fā)送樣品。據(jù)官方介紹,美光 2021 年實(shí)現(xiàn) 1α 工藝批量出貨,現(xiàn)在最新的 1β 工藝鞏固了美光市場(chǎng)領(lǐng)先地位。官方稱,最新的工藝可提供約 15% 的能效提升和超過 35% 的密度提升,每個(gè) die 容量為 16Gb。美光表示,隨著 LPDDR5X 的出樣,移動(dòng)產(chǎn)品將率先從 1β DRAM 的提升中獲益,提升新一代智能手機(jī)的性能的同時(shí),消
          • 關(guān)鍵字: 美光  LPDDR5X-8500  內(nèi)存  1β DRAM  

          SK海力士:未研究過“轉(zhuǎn)移中國工廠設(shè)備”相關(guān)具體計(jì)劃

          • 近日,SK海力士考慮“撤出中國”、“轉(zhuǎn)移中國工廠設(shè)備”等消息引發(fā)業(yè)界高度關(guān)注,對(duì)此,SK海力士于10月26日就中國工廠運(yùn)營作出澄清說明。SK海力士表示,公司在10月26日的第三季度業(yè)績(jī)發(fā)表會(huì)上,針對(duì)由于地緣政治問題及多種因素導(dǎo)致中國工廠運(yùn)營受困的各種假想情境,作出了可能會(huì)考慮應(yīng)急方案(Contingency Plan)的原則性回復(fù)。其中,“中國工廠的設(shè)備轉(zhuǎn)移”等相關(guān)發(fā)言是針對(duì)可能性極低的極端情況作出的現(xiàn)場(chǎng)回復(fù),SK海力士澄清并未研究過與此相關(guān)的具體計(jì)劃。另外,針對(duì)美國對(duì)芯片設(shè)備出口的管制,SK海力士表示,
          • 關(guān)鍵字: SK海力士  DRAM  NAND  

          臺(tái)積電宣布聯(lián)手三星、ARM、美光等19個(gè)合作伙伴成立OIP 3D Fabric聯(lián)盟

          • 臺(tái)積電10月27日宣布,成立開放創(chuàng)新平臺(tái)(OIP)3D Fabric聯(lián)盟以推動(dòng)3D半導(dǎo)體發(fā)展,目前已有三星、美光、SK海力士、日月光、ARM、新思科技、Advantest、世芯電子、Alphawave、Amkor、Ansys、Cadence、創(chuàng)意電子、IBIDEN、西門子、Silicon Creations、矽品精密工業(yè)、Teradyne、Unimicron19個(gè)合作伙伴同意加入。據(jù)悉,3DFabric聯(lián)盟成員能夠及早取得臺(tái)積電的3DFabric技術(shù),使得他們能夠與臺(tái)積電同步開發(fā)及優(yōu)化解決方案,也
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  三星  ARM  美光  OIP 3D Fabric  

          IQE 宣布與全球消費(fèi)電子領(lǐng)導(dǎo)者達(dá)成長(zhǎng)期戰(zhàn)略協(xié)議

          • -        長(zhǎng)期批量供應(yīng)協(xié)議即刻生效-        為下一代 3D 傳感應(yīng)用開發(fā) VCSEL 技術(shù)-        進(jìn)一步加強(qiáng) IQE 作為 3D 傳感市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者的地位 IQE plc(AIM 股票代碼:IQE,以下簡(jiǎn)稱“IQE”或“集團(tuán)”),全球領(lǐng)先的化合物半導(dǎo)體晶圓產(chǎn)品和先進(jìn)材
          • 關(guān)鍵字: IQE  VCSEL   3D 傳感  

          西門子推軟件解決方案 加快簡(jiǎn)化2.5D/3D IC可測(cè)試性設(shè)計(jì)

          • 西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日推出Tessent Multi-die軟件解決方案,旨在幫助客戶加快和簡(jiǎn)化基于2.5D和3D架構(gòu)的新一代集成電路(IC)關(guān)鍵可測(cè)試性設(shè)計(jì)(DFT)。隨著市場(chǎng)對(duì)于更小巧、更節(jié)能和更高效能的IC需求日益提升,IC設(shè)計(jì)界也面臨著嚴(yán)苛挑戰(zhàn)。下一代組件正傾向于采用復(fù)雜的2.5D和3D架構(gòu),以垂直(3D IC)或并排(2.5D)方式連接多個(gè)晶粒,使其能夠作為單一組件運(yùn)作。但是,這種做法為芯片測(cè)試帶來巨大的挑戰(zhàn),因?yàn)榇蟛糠謧鹘y(tǒng)的測(cè)試方法都是基于常規(guī)的2D流程。為了解決這些挑戰(zhàn),西門子推出Tess
          • 關(guān)鍵字: 西門子  2.5D  3D  可測(cè)試性設(shè)計(jì)   

          高手在民間 世界技能大賽特別賽中國已奪8金 位居第一

          •   10月17日,2022年世界技能大賽特別賽韓國賽區(qū)閉幕式舉行,中國6名選手獲得3枚金牌、1枚銅牌和2個(gè)優(yōu)勝獎(jiǎng),實(shí)現(xiàn)多個(gè)項(xiàng)目上金牌和獎(jiǎng)牌零的突破?! ”敬翁貏e賽韓國賽區(qū)比賽于10月12日開幕,共舉行8個(gè)項(xiàng)目的比賽,吸引了來自34個(gè)國家和地區(qū)的130余名選手參賽。中國選手參加其中6個(gè)項(xiàng)目的角逐?! ∑渲校瑏碜詮V州市工貿(mào)技師學(xué)院的選手楊書明獲得移動(dòng)應(yīng)用開發(fā)項(xiàng)目金牌,成為本次大賽該新增項(xiàng)目首個(gè)金牌獲得者。  來自深圳技師學(xué)院的選手羅凱、陳新源分別獲得3D數(shù)字游戲藝術(shù)項(xiàng)目、云計(jì)算項(xiàng)目金牌,實(shí)現(xiàn)我國在這兩個(gè)項(xiàng)目上
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          8.5 Gbps!三星LPDDR5X DRAM運(yùn)行速度創(chuàng)新高

          • 10月18日,三星宣布,其最新的LPDDR5X內(nèi)存已通過驗(yàn)證,可在驍龍(Snapdragon?)移動(dòng)平臺(tái)上使用,該內(nèi)存速度可達(dá)到當(dāng)前業(yè)界最快的8.5 千兆比特每秒(Gbps)。通過優(yōu)化應(yīng)用處理器和存儲(chǔ)器之間的高速信號(hào)環(huán)境,三星超過了自身在今年3月創(chuàng)下的7.5Gbps的最高運(yùn)行速度,夯實(shí)了在內(nèi)存市場(chǎng)的地位。三星LPDDR5X DRAM 可達(dá)8.5Gbps的運(yùn)行速度作為十多年來全球移動(dòng)內(nèi)存(DRAM)市場(chǎng)的推動(dòng)者,三星一直在努力推進(jìn)高端智能手機(jī)普及,使更多消費(fèi)者能夠在移動(dòng)設(shè)備上體驗(yàn)更為強(qiáng)大的計(jì)算性能。憑借低功
          • 關(guān)鍵字: 三星  LPDDR5X  DRAM  

          SK海力士與美國完成協(xié)商,確保在一年內(nèi)不獲取許可的前提下為中國工廠供應(yīng)設(shè)備

          • SK海力士于10月12日通過聲明表示,公司完成與美國商務(wù)部進(jìn)行協(xié)商,確保在接下來一年內(nèi)不獲取個(gè)別許可的前提下為中國工廠供應(yīng)所需的半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備。借此,SK海力士預(yù)期將能夠在接下來一年內(nèi)不獲取美方個(gè)別許可的前提下為中國工廠保障生產(chǎn)設(shè)備的供應(yīng),進(jìn)而維持在中國的生產(chǎn)經(jīng)營。SK海力士表示:“公司與美方圓滿完成了就在中國持續(xù)生產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)品的協(xié)商。SK海力士將繼續(xù)與韓國政府及美國商務(wù)部緊密合作,在遵循國際原則的前提下為保障中國工廠的運(yùn)營盡最大的努力?!泵绹虅?wù)部先前于10月7日發(fā)布稱,將限制用于在中國生產(chǎn)18納米以下
          • 關(guān)鍵字: SK海力士  DRAM  NAND  

          TrendForce:存儲(chǔ)器廠聚焦CXL存儲(chǔ)器擴(kuò)充器產(chǎn)品

          • 據(jù)TrendForce集邦咨詢最新服務(wù)器相關(guān)報(bào)告指出,CXL(Compute Express Link)原是希望能夠整合各種xPU之間的性能,進(jìn)而優(yōu)化AI與HPC所需要的硬件成本,并突破原先的硬件限制。CXL的支援仍是以CPU為源頭去考慮,但由于可支援CXL功能的服務(wù)器CPU Intel Sapphire Rapids與AMD Genoa現(xiàn)階段僅支援至CXL 1.1規(guī)格,而該規(guī)格可先實(shí)現(xiàn)的產(chǎn)品則是CXL存儲(chǔ)器擴(kuò)充(CXL Memory Expander)。因此,TrendForce認(rèn)為
          • 關(guān)鍵字: TrendForce  集邦咨詢  存儲(chǔ)器  CXL  AI/ML  DRAM  

          SPARC:用于先進(jìn)邏輯和 DRAM 的全新沉積技術(shù)

          • 芯片已經(jīng)無處不在:從手機(jī)和汽車到人工智能的云服務(wù)器,所有這些的每一次更新?lián)Q代都在變得更快速、更智能、更強(qiáng)大。創(chuàng)建更先進(jìn)的芯片通常涉及縮小晶體管和其他組件并將它們更緊密地封裝在一起。然而,隨著芯片特征變得更小,現(xiàn)有材料可能無法在所需厚度下實(shí)現(xiàn)相同性能,從而可能需要新的材料。 泛林集團(tuán)發(fā)明了一種名為 SPARC 的全新沉積技術(shù),用于制造具有改進(jìn)電絕緣性能的新型碳化硅薄膜。重要的是,它可以沉積超薄層,并且在高深寬比的結(jié)構(gòu)中保持性能,還不受工藝集成的影響,可以經(jīng)受進(jìn)一步處理。SPAR
          • 關(guān)鍵字: SPARC  先進(jìn)邏輯  DRAM  沉積技術(shù)  

          AOI+AI+3D 檢測(cè)鐵三角成形

          • 疫情突顯產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈中斷和制造業(yè)缺工問題,加上少量多樣需求成趨勢(shì),迫使制造業(yè)快速轉(zhuǎn)型,走向更自動(dòng)化、數(shù)字化的智能化方向。因此,各產(chǎn)業(yè)對(duì)自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)(AOI)技術(shù)的需求更為殷切。疫情突顯產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈中斷和制造業(yè)缺工問題,加上少量多樣需求成趨勢(shì),迫使制造業(yè)快速轉(zhuǎn)型,走向更自動(dòng)化、數(shù)字化的智能化方向。導(dǎo)入自動(dòng)化及AI的過程中,傳統(tǒng)人力逐漸被取代,也改變產(chǎn)線人員配置的傳統(tǒng)生態(tài),其中,可以確保產(chǎn)線及產(chǎn)品質(zhì)量的自動(dòng)檢測(cè)儀器不僅發(fā)揮精準(zhǔn)有效的優(yōu)勢(shì),還能針對(duì)缺陷或瑕疵及時(shí)修復(fù)、舍棄,降低不必要的時(shí)間成本與人力成本,快速穩(wěn)定且
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          西門子與聯(lián)華電子合作開發(fā)3D IC混合鍵合流程

          • 西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日與半導(dǎo)體晶圓制造大廠聯(lián)華電子 (UMC) 合作,面向聯(lián)華電子的晶圓堆疊 (wafer-on-wafer) 和芯片晶圓堆疊 (chip-on-wafer) 技術(shù),提供新的多芯片 3D IC?(三維集成電路)?規(guī)劃、裝配驗(yàn)證和寄生參數(shù)提取 (PEX)?工作流程。聯(lián)電將同時(shí)向全球客戶提供此項(xiàng)新流程。通過在單個(gè)封裝組件中提供硅片或小芯片?(chiplet)?彼此堆疊的技術(shù),客戶可以在相同甚至更小的芯片面積上實(shí)現(xiàn)多個(gè)組件功能。相比于在 PCB
          • 關(guān)鍵字: 西門子  聯(lián)華電子  3D IC  混合鍵合流程  
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          3d dram介紹

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