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臺積電推出設計參考流程9.0版 可支持40nm制程
- 臺積電公司日前宣布推出最新的設計參考流程9.0版,能夠進一步降低40nm制程芯片設計的挑戰(zhàn),提升芯片設計精確度,并提高生產(chǎn)良率。設計參考流程9.0版是由臺積電與合作伙伴開發(fā)完成,是臺積電近日揭示的開放創(chuàng)新平臺(Open Innovation Platform)中相當重要的構成要素之一。 開放創(chuàng)新平臺由臺積電為其客戶以及設計生態(tài)系統(tǒng)伙伴所建構,可以提早上市時程、提升投資效益以及減少資源浪費,并建構在可以協(xié)助客戶完成芯片設計的IP以及設計生態(tài)系統(tǒng)介面的基礎之上。 設計參考流程9.0版針對使用包
- 關鍵字: 臺積電 芯片設計 40nm 平臺
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