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          學(xué)好嵌入式系統(tǒng)電路入門之——二極管/晶體管/FET

          •   導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體與絕緣體之間的物質(zhì) - 半導(dǎo)體   硅和鍺是位于銀、鋁等導(dǎo)體和石英、陶瓷等絕緣體之間,用于制造半導(dǎo)體器件的原材料,具有一定電阻率。不同的物質(zhì)其產(chǎn)生的不同電阻率是由于可移動(dòng)的電子量不同引起的。這種可移動(dòng)電子叫“自由電子”。一般我們把可以通過向其摻入雜質(zhì)來改變自由電子的數(shù)量,并可控制電流動(dòng)的物質(zhì)稱為半導(dǎo)體。        根據(jù)電流流動(dòng)的構(gòu)造,可將半導(dǎo)體分為N型和P型兩類。   半導(dǎo)體的電流流通原理   (1) N型半導(dǎo)體   圖1是在硅晶
          • 關(guān)鍵字: 嵌入式系統(tǒng)  FET  

          諾貝爾獎(jiǎng)后 日本GaN產(chǎn)學(xué)應(yīng)用新動(dòng)態(tài)

          •   當(dāng)諾貝爾獎(jiǎng)委員會(huì)在2014年宣布物理獎(jiǎng)得主是發(fā)明藍(lán)光LED而得獎(jiǎng)的日本學(xué)者赤崎勇、天野浩與中村修二三位學(xué)者后,掀起日本人對LED及氮化鎵(GaN)注意,也讓相關(guān)研究單位及研究計(jì)劃獲得更多的支持與關(guān)注。   比方2015年以諾貝爾獎(jiǎng)得主天野浩帶頭的新單位─名古屋大學(xué)GaN聯(lián)盟,便有29家企業(yè)、14所大學(xué)、與2個(gè)技術(shù)研發(fā)基金會(huì)加入;日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)總和研究所(AIST)與名古屋大學(xué)(NagoyaUniversity)合作,在2016年成立產(chǎn)總研名大氮化鎵半導(dǎo)體先進(jìn)零組件開創(chuàng)研究實(shí)驗(yàn)室(GaN-OIL),都是
          • 關(guān)鍵字: GaN  LED  

          諾貝爾獎(jiǎng)后 日本GaN產(chǎn)學(xué)應(yīng)用新動(dòng)態(tài)

          •   當(dāng)諾貝爾獎(jiǎng)委員會(huì)在2014年宣布物理獎(jiǎng)得主是發(fā)明藍(lán)光LED而得獎(jiǎng)的日本學(xué)者赤崎勇、天野浩與中村修二三位學(xué)者后,掀起日本人對LED及氮化鎵(GaN)注意,也讓相關(guān)研究單位及研究計(jì)劃獲得更多的支持與關(guān)注。   比方2015年以諾貝爾獎(jiǎng)得主天野浩帶頭的新單位─名古屋大學(xué)GaN聯(lián)盟,便有29家企業(yè)、14所大學(xué)、與2個(gè)技術(shù)研發(fā)基金會(huì)加入;日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)總和研究所(AIST)與名古屋大學(xué)(Nagoya University)合作,在2016年成立產(chǎn)總研名大氮化鎵半導(dǎo)體先進(jìn)零組件開創(chuàng)研究實(shí)驗(yàn)室(GaN-OIL),都
          • 關(guān)鍵字: GaN  藍(lán)光LED  

          EPC與ASD公司建立增值合作伙伴關(guān)系,加速基于氮化鎵技術(shù)的無線電源解決方案的上市進(jìn)程

          •   總部位于美國洛杉磯市、開發(fā)替代MOSFET技術(shù)的氮化鎵(eGaN)技術(shù)的宜普電源轉(zhuǎn)換公司(EPC) 與總部位于香港的創(chuàng)徽科技有限公司(ASD)宣布攜手合作,共創(chuàng)新里程,針對客戶的目標(biāo)應(yīng)用,利用最新的eGaN技術(shù)為客戶提供最佳的解決方案。   EPC公司是研發(fā)氮化鎵技術(shù)和制造氮化鎵器件的領(lǐng)導(dǎo)廠商。具備優(yōu)越性能的氮化鎵場效應(yīng)晶體管(eGaN®FET)及集成電路在各種終端應(yīng)用中可以替代日益老化的MOSFET技術(shù),包括DC/DC轉(zhuǎn)換器、無線電源傳輸、包絡(luò)跟蹤、射頻傳輸、功率逆變器、遙距感測技術(shù)及D類
          • 關(guān)鍵字: EPC  ASD  

          我國發(fā)展化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正當(dāng)時(shí)

          • 當(dāng)前,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于深度變革,化合物半導(dǎo)體成為產(chǎn)業(yè)發(fā)展新的關(guān)注點(diǎn),我國應(yīng)加緊產(chǎn)業(yè)布局,搶占發(fā)展的主動(dòng)權(quán)。
          • 關(guān)鍵字: GaAs  GaN  

          臺(tái)積電發(fā)力“硅基氮化鎵”元件受托業(yè)務(wù)

          •   臺(tái)灣臺(tái)積電(TSMC)在“ISPSD 2016”上公開了受托生產(chǎn)服務(wù)的藍(lán)圖及試制元件的特性等。該公司將采用在直徑150mm(6英寸)的硅基板上形成GaN層的“硅基氮化鎵”(GaN on Si)技術(shù)生產(chǎn)GaN晶體管。   臺(tái)積電打算開展受托生產(chǎn)的GaN晶體管有三種類型:(1)常開型(Normal On)MISFET、(2)常開型HEMT、(3)常關(guān)型(Normal Off)。按耐壓高低來分有40V、100V和650V產(chǎn)品。   其中,耐壓650V的常關(guān)
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  GaN  

          Qorvo 新款GaN 50V 晶體管可大幅提升系統(tǒng)功率性能

          •   移動(dòng)應(yīng)用、基礎(chǔ)設(shè)施與航空航天、國防等應(yīng)用中領(lǐng)先的RF解決方案供應(yīng)商Qorvo, Inc.今日宣布,推出六款全新50V氮化鎵(GaN)晶體管---QPD1009和QPD1010,以及QPD1008(L)和QPD1015(L),專門設(shè)計(jì)用于優(yōu)化商業(yè)用雷達(dá)、通信系統(tǒng)及航空電子應(yīng)用的功率性能。   Qorvo 國防與航空航天產(chǎn)品總經(jīng)理Roger Hall表示:“全新50V GaN晶體管系列通過提供更高功率增益和功率附加效率來提升系統(tǒng)性能。Qorvo可以更好地實(shí)現(xiàn)相位陣列雷達(dá)等先進(jìn)設(shè)備的要求,提供
          • 關(guān)鍵字: Qorvo  GaN   

          基于GaN FET的CCM圖騰柱無橋PFC

          •   氮化鎵 (GaN) 技術(shù)由于其出色的開關(guān)特性和不斷提升的品質(zhì),近期逐漸得到了電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用的青睞。具有低寄生電容和零反向恢復(fù)的安全GaN可實(shí)現(xiàn)更高的開關(guān)頻率和效率,從而為全新應(yīng)用和拓?fù)溥x項(xiàng)打開了大門。連續(xù)傳導(dǎo)模式 (CCM)圖騰柱PFC就是一個(gè)得益于GaN優(yōu)點(diǎn)的拓?fù)?。與通常使用的雙升壓無橋PFC拓?fù)湎啾?,CCM圖騰柱無橋PFC能夠使半導(dǎo)體開關(guān)和升壓電感器的數(shù)量減半,同時(shí)又能將峰值效率推升到95%以上。本文分析了AC交叉區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)電流尖峰的根本原因,并給出了相應(yīng)的解決方案。一個(gè)750W圖騰柱PFC原型機(jī)被
          • 關(guān)鍵字: GaN  PFC  

          TI的600V GaN FET功率級革命性地提升高性能電力轉(zhuǎn)換效能

          •   基于數(shù)十年的電源管理創(chuàng)新經(jīng)驗(yàn),德州儀器(TI)近日宣布推出一款600V氮化鎵(GaN)70 mù場效應(yīng)晶體管(FET)功率級工程樣片,從而使TI成為首家,也是唯一一家能夠向公眾提供集成有高壓驅(qū)動(dòng)器的GaN解決方案的半導(dǎo)體廠商。與基于硅材料FET的解決方案相比,這款全新的12A LMG3410功率級與TI的模擬與數(shù)字電力轉(zhuǎn)換控制器組合在一起,能使設(shè)計(jì)人員創(chuàng)造出尺寸更小、效率更高并且性能更佳的設(shè)計(jì)。而這些優(yōu)勢在隔離式高壓工業(yè)、電信、企業(yè)計(jì)算和可再生能源應(yīng)用中都特別重要。如需了解更多信息
          • 關(guān)鍵字: TI  GaN   

          安森美半導(dǎo)體推進(jìn)更快、更智能和更高能效的GaN晶體管

          •   氮化鎵(GaN)是一種新興的半導(dǎo)體工藝技術(shù),提供超越硅的多種優(yōu)勢,被稱為第三代半導(dǎo)體材料,用于電源系統(tǒng)的設(shè)計(jì)如功率因數(shù)校正(PFC)、軟開關(guān)DC-DC、各種終端應(yīng)用如電源適配器、光伏逆變器或太陽能逆變器、服務(wù)器及通信電源等,可實(shí)現(xiàn)硅器件難以達(dá)到的更高電源轉(zhuǎn)換效率和更高的功率密度水平,為開關(guān)電源和其它在能效及功率密度至關(guān)重要的應(yīng)用帶來性能飛躍?! aN的優(yōu)勢  從表1可見,GaN具備出色的擊穿能力、更高的電子密度及速度,和更高的工作溫度。GaN提供高電子遷移率,這意味著開關(guān)過程的反向恢復(fù)時(shí)間可忽略不計(jì)
          • 關(guān)鍵字: 安森美  GaN  

          基于EPC的eGaN FET、采用高頻同步自舉拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),工作頻率可高達(dá)15 MHz的半橋式開發(fā)板

          •   EPC公司的全新開發(fā)板可以被配置為一個(gè)降壓轉(zhuǎn)換器或ZVS?D類放大器,展示出基于eGaN?FET、采用同步自舉電路的柵極驅(qū)動(dòng)器在高頻工作時(shí)可以減少損耗?! ∫似针娫崔D(zhuǎn)換公司(EPC)推出EPC9066、EPC9067及EPC9068開發(fā)板,可以被配置為一個(gè)降壓轉(zhuǎn)換器或ZVS?D類放大器。這些開發(fā)板專為功率系統(tǒng)設(shè)計(jì)師而設(shè),對氮化鎵晶體管的優(yōu)越性能進(jìn)行評估方面提供了簡易方法,使得設(shè)計(jì)師的產(chǎn)品可以快速量產(chǎn)。三塊開發(fā)板都配備了具有零QRR、同步自舉整流器的柵極驅(qū)動(dòng)器,從而在高達(dá)1
          • 關(guān)鍵字: EPC  EPC9066  

          宜普電源轉(zhuǎn)換公司(EPC)的可靠性測試報(bào)告記錄了超過170億小時(shí)測試器件的可靠性的現(xiàn)場數(shù)據(jù),結(jié)果表明器件的失效率很低

          •   EPC公司的第七階段可靠性報(bào)告表明eGaN?FET非??煽?,為工程師提供可信賴及可 替代采用傳統(tǒng)硅基器件的解決方案?! ∫似针娫崔D(zhuǎn)換公司發(fā)布第七階段可靠性測試報(bào)告,展示出在累計(jì)超過170億器件-小時(shí)的測試后的現(xiàn)場數(shù)據(jù)的分布結(jié)果,以及提供在累計(jì)超過700萬器件-小時(shí)的應(yīng)力測試后的詳盡數(shù)據(jù)。各種應(yīng)力測試包括間歇工作壽命[(IOL)[、早期壽命失效率[(ELFR)、高濕偏置、溫度循環(huán)及靜電放電等測試。報(bào)告提供受測產(chǎn)品的復(fù)合0.24 FIT失效率的現(xiàn)場數(shù)據(jù)。這個(gè)數(shù)值與我們直至目前為止所取得
          • 關(guān)鍵字: 宜普電源  FET  

          英國專家用半極性GaN生長高效益LED

          •   英國雪菲爾大學(xué)(SheffieldUniversity)的一支研究團(tuán)隊(duì)最近在《應(yīng)用物理學(xué)快報(bào)》(AppliedPhysicsLetter)期刊上發(fā)布在半極性氮化鎵(GaN)或藍(lán)寶石基材上生長LED的最新成果。   利用在M-Plane藍(lán)寶石基板上生長的GaN制造的微柱陣列模板,研究人員能在其上過度生長的半極性GaN(11-22)上生長出具有更高量子效益的LED。   相較于在C-Plane藍(lán)寶石基板上生長的商用LED,該研究團(tuán)隊(duì)在半極性材料上所生長的綠光LED顯示發(fā)光波長的藍(lán)位移隨著驅(qū)動(dòng)電流增加而
          • 關(guān)鍵字: GaN  LED  

          英國專家用半極性GaN生長高效益LED

          •   英國雪菲爾大學(xué)(Sheffield University)的一支研究團(tuán)隊(duì)最近在《應(yīng)用物理學(xué)快報(bào)》(Applied Physics Letter)期刊上發(fā)布在半極性氮化鎵(GaN)或藍(lán)寶石基材上生長LED的最新成果。  利用在M-Plane藍(lán)寶石基板上生長的GaN制造的微柱陣列模板,研究人員能在其上過度生長的半極性GaN(11-22)上生長出具有更高量子效益的LED?! ∠噍^于在C-Plane藍(lán)寶石基板上生長的商用LED,該研究團(tuán)隊(duì)在半極性材料上所生長的綠光LED顯示發(fā)光波
          • 關(guān)鍵字: GaN  LED  

          波音和通用實(shí)驗(yàn)室研發(fā)出GaN CMOS場效應(yīng)晶體管

          •   由美國波音公司和通用汽車公司擁有的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室-HRL實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)宣布其實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)FET技術(shù)的首次展示。該研究結(jié)果發(fā)表于2016年1月6日的inieee電子器件快報(bào)上。   在此過程中,該實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)確定半導(dǎo)體的卓越晶體管性能可以在集成電路中加以利用。這一突破為氮化鎵成為目前以硅為原材料的電源轉(zhuǎn)換電路的備選技術(shù)鋪平了道路。   氮化鎵晶體管在電源開關(guān)和微波/毫米波應(yīng)用中有出色的表現(xiàn),但該潛力還未用于集成功率轉(zhuǎn)換。“除非快速切換GaN功率晶體管在電源電路中故意放緩,否
          • 關(guān)鍵字: GaN  場效應(yīng)晶體管  
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