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          ASML今年將推出創(chuàng)紀(jì)錄的EUV光刻機(jī),價值3億美元

          • ASML 即將推出 NA 為 0.55,分辨率達(dá)到 8nm 的 EUV 設(shè)備。
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  臺積電  

          臺積電美國亞利桑那工廠導(dǎo)入首臺 EUV 設(shè)備,預(yù)計 2025 年量產(chǎn) 4nm 芯片

          • IT之家 8 月 22 日消息,法拉第未來在最新的季度報告中稱,其虧損有所縮小,并表示已經(jīng)進(jìn)入創(chuàng)收階段。該公司在截至 6 月 30 日的第二季度的虧損為 1.249 億美元(IT之家備注:當(dāng)前約 9.13 億元人民幣),即每股 10 美分,而去年同期的虧損為 1.417 億美元,即每股 44 美分。法拉第未來在本季度沒有報告任何收入??傔\營費用從 1.375 億美元降至 4,940 萬美元,主要是由于研發(fā)和管理費用的減少。法拉第未來在給投資者的信中表示,公司計劃在未來幾個月內(nèi)將其制造團(tuán)隊擴(kuò)大兩倍
          • 關(guān)鍵字: 臺積電  EUV  

          ASML:數(shù)值孔徑0.75超高NA EUV光刻設(shè)備2030年登場

          • 據(jù)日本媒體報導(dǎo),光刻機(jī)設(shè)備龍頭阿斯麥(ASML)執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時imec年度盛會ITF World 2023表示,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需要2030年開發(fā)數(shù)值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術(shù),滿足半導(dǎo)體發(fā)展。Christophe Fouquet表示,自2010年以來EUV技術(shù)越來越成熟,半導(dǎo)體制程微縮至2020年前后三年,以超過50%幅度前進(jìn),不過速度可能會在2030年放緩。故ASML計劃年底前發(fā)表首臺商用High-NA(NA=0.55)EUV微影曝光設(shè)備(原型制作),
          • 關(guān)鍵字: ASML  NA  EUV  光刻設(shè)備  

          今年轉(zhuǎn)向4nm EUV工藝 英特爾退役11代酷睿移動版:10nm再見了

          • 6月7日消息,英特爾今年下半年將會推出14代酷睿Meteor Lake處理器,首發(fā)Intel 4工藝,這是該公司首款EUV工藝,而且還會用上全新3D封裝工藝,處理器變化非常大。在迎接4nm EUV的同時,英特爾也在加快清理遺產(chǎn),2020年發(fā)布的11代酷睿Tiger Lake處理器現(xiàn)在也進(jìn)入了退役階段,這一批主要是中低端的酷睿i7/i5/i3及賽揚系列,包括U系列及H35系列,最高端的就是酷睿i7-1165G7。與之一同退役的還有配套的500系芯片組,包括RM590E,HM570E和QM580E系列。這些產(chǎn)
          • 關(guān)鍵字: EUV  英特爾  酷睿  

          消息稱三星半導(dǎo)體將減少 10% 晶圓投片量,EUV 產(chǎn)線成重災(zāi)區(qū)

          • IT之家 5 月 26 日消息,據(jù)韓媒 Aju News 報道,三星計劃自 2023 年第三季度開始,對韓國華城園區(qū) S3 工廠減少至少 10% 的晶圓投片量。▲ 圖源:三星報道稱,三星半導(dǎo)體將在第三季度開始,對華城園區(qū) S3 工廠進(jìn)行減產(chǎn)作業(yè)。S3 工廠是三星半導(dǎo)體于 2018 年建成投產(chǎn)的 12 英寸生產(chǎn)線,目前主要生產(chǎn) 10nm 至 7nm 產(chǎn)品,也是三星半導(dǎo)體 EUV 先進(jìn)工藝的主力生產(chǎn)廠之一,三星為其部署了多臺 ASML 的 NXE3400 EUV 光刻機(jī)。Aju News
          • 關(guān)鍵字: 三星  EUV  

          2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機(jī)

          • 5月17日消息,原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus,計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝,而且很快就籌備了EUV光刻機(jī)。日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機(jī),不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露,他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機(jī)的籌備,不過具體的型號及進(jìn)度沒有說明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機(jī),何時安裝、
          • 關(guān)鍵字: 日本  EUV  光刻機(jī)  

          柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)

          • 在如今這個信息時代,如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈,那么芯片制造,則是這里面高樓的地基,而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī),沒錯,作為人類商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡,光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇,光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會見到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在,那么光刻機(jī)是如何工作的呢?它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢?本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn),也是我國被“卡脖子”的EUV(極紫外)光刻機(jī)。? ? &
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV光刻機(jī)  芯片  EUV  

          ASML預(yù)測,未來九個月對中國的銷量將大幅回升

          EUV機(jī)臺被砍單? 業(yè)界:不太可能

          • 終端市場需求低迷,近期市場傳出臺積電將宣布調(diào)降今年資本支出,恐沖擊艾司摩爾(ASML)及應(yīng)用材料等設(shè)備廠出貨,甚至傳出艾司摩爾極紫外光(EUV)機(jī)臺被砍單消息,不過業(yè)界普遍認(rèn)為可能性不高,原因在于EUV機(jī)臺交期長達(dá)12~15個月,且中長期來看EUV產(chǎn)能仍供不應(yīng)求。 ASML預(yù)計19日舉行法人說明會,可望針對EUV曝光機(jī)已接訂單(backlog)變化提出說明。半導(dǎo)體生產(chǎn)鏈仍在進(jìn)行庫存調(diào)整,市場傳出臺積電可能在法人說明會中下修全年資本支出,加上內(nèi)存廠放慢擴(kuò)產(chǎn)計劃,將導(dǎo)致EUV曝光機(jī)訂單減少或延后,受此消息影響
          • 關(guān)鍵字: EUV  機(jī)臺  ASML  

          國產(chǎn)光刻機(jī)的「行軍難」

          • 3 月 8 日,ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱,這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù),包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng),ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強(qiáng)調(diào),這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日,外交部例行記者會上,有媒體提問,據(jù)報道,荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱,出于國家安全考慮,荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論?外交部發(fā)言人毛
          • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  EUV  DUV  

          挑戰(zhàn) ASML,應(yīng)用材料公司重新定義了光刻和圖案化市場

          • EUV 太貴了,有其他解決方法嗎?
          • 關(guān)鍵字: EUV  ASML    

          2nm 工藝的計量策略

          • 晶圓制造工具正變得更加專用于 Si/SiGe 堆棧、3D NAND 和鍵合晶圓對。
          • 關(guān)鍵字: 2nm  EUV  

          ASML堵了EUV光刻機(jī)的路,但國產(chǎn)光刻機(jī)有3大新方向

          • 眾所周知,當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī),甚至可以說很長一段時間內(nèi),全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機(jī),不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機(jī)的路堵住了,這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈,形成了捆綁關(guān)系,像蔡司等與ASML形成了利益共同體,EUV光刻機(jī)中,蔡司等廠商至關(guān)重要,掌握核心科技,缺少這些供應(yīng)鏈,其它廠商不可能制造出EUV光刻機(jī)。所以,目前眾多的其它光刻機(jī)企業(yè),并不打算走EUV光刻機(jī)這條路,在另尋它路。同樣的,國產(chǎn)光刻機(jī)基本上也走不通EUV這條路,只能另尋他路,而
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          美國發(fā)起的對華聯(lián)合出口限制留下漏洞?

          • 據(jù)報道,荷蘭和日本已與美國達(dá)成協(xié)議,共同限制向中國出口芯片制造工具,這將進(jìn)一步削弱中國半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機(jī)外,進(jìn)一步限制其使用浸沒式 DUV 光刻機(jī)。但在美國對中國發(fā)起的嚴(yán)格出口限制中,中國半導(dǎo)體企業(yè)是否可以利用任何關(guān)鍵漏洞來緩沖沖擊?這似乎是一個值得仔細(xì)研究的問題。近年來,美國加大了對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的打壓力度。不僅設(shè)計了各種策略和行動,還動員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進(jìn)芯片制造工具和技術(shù)實施全面出口限制后,美國急于讓擁有 ASML
          • 關(guān)鍵字: EUV  DUV  深紫外光刻機(jī)  
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          euv介紹

          在半導(dǎo)體行業(yè),EUV一般指EUV光刻,即極紫外光刻。 極紫外光刻(英語:Extreme ultra-violet,也稱EUV或EUVL)是一種使用極紫外(EUV)波長的光刻技術(shù)。 EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下的特征尺寸。 根據(jù)瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長可以提供極高 [ 查看詳細(xì) ]

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