EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
euv
euv 文章 進(jìn)入euv技術(shù)社區(qū)
ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同
- 近日,中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買(mǎi)晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作,有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī),中芯國(guó)際幾乎可以買(mǎi)到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)。”但是這一說(shuō)法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)?! 】赡芎芏嗑W(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí),實(shí)際上也是如此?! SML澄清與中
- 關(guān)鍵字: 中芯國(guó)際 ASML DUV EUV
中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司
- 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào),這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī),中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買(mǎi)到其中任何一臺(tái)?! ∮腥苏f(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒(méi)有刀,再好的師傅也雕不出來(lái)花?! ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金?! ≡?jīng),某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后,排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
- 關(guān)鍵字: EUV 光刻機(jī) ASML
全球最大光刻機(jī)廠CEO:拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)
- 拜登上任在即,他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎?近期,全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域,仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開(kāi)源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車(chē)」? 離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來(lái)越近了。 在過(guò)去川普任職期內(nèi),中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?! ∮捎诿绹?guó)政府的壓力,其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷(xiāo)售。 由于川普的舉動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
- 關(guān)鍵字: EUV 光刻機(jī) ASML
在EUV光刻技術(shù)上,日本公司壟斷了光刻膠的供應(yīng)
- 雖然將會(huì)有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個(gè)市場(chǎng)是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導(dǎo)體光刻技術(shù),但是毫無(wú)疑問(wèn),這就是光刻技術(shù)的未來(lái)。與任何未來(lái)一樣,它為一些光刻材料市場(chǎng)開(kāi)拓者提供了在新市場(chǎng)中建立自己的機(jī)會(huì)。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機(jī)所使用的技術(shù)處理材料,而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開(kāi)始為下一代芯片提供光刻材料,這可能有助于減小智能手機(jī)和其他設(shè)備的芯片尺寸,并使它們更加節(jié)能。這
- 關(guān)鍵字: EUV 光刻膠
斥資440億元采購(gòu)EUV光刻機(jī)?臺(tái)積電:不評(píng)論傳聞
- 9月30日訊,此前有媒體報(bào)道,由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴(kuò)大,臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度,預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量為55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)稱:公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。據(jù)了解,一臺(tái)EUV光刻機(jī)售價(jià)近8億元,55臺(tái)EUV光刻機(jī)價(jià)值約440億元。相關(guān)閱讀:臺(tái)積電明年底前將累計(jì)采購(gòu)55臺(tái)EUV光刻機(jī):花費(fèi)超440億元出處:快科技 作者:萬(wàn)南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下,這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了,目前全世界只有荷蘭ASML(阿斯麥)可以制造。來(lái)自Digitimes的報(bào)道稱,臺(tái)積電打算在
- 關(guān)鍵字: EUV 光刻機(jī) 臺(tái)積電
華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)?ASML華裔工程師:天方夜譚
- 9月16日,中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱,“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱,從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此,首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱,目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu),目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評(píng)價(jià)、分類資源配置?!斑@個(gè)工作還沒(méi)有完,只是進(jìn)行了一部分,所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完,
- 關(guān)鍵字: 華為 中科院 EUV 光刻機(jī) ASML
10億元一臺(tái)EUV光刻機(jī)!芯片產(chǎn)能數(shù)量曝光:夠華為手機(jī)用嗎?
- 相信大家都知道,在前幾天,ASML重磅官宣了一條大新聞,正式在中國(guó)寶島臺(tái)灣建設(shè)了第一家海外培訓(xùn)中心—亞洲培訓(xùn)中心,這家培訓(xùn)中心標(biāo)配了14名培訓(xùn)技師,一年大約可以培養(yǎng)超過(guò)360名EUV光刻機(jī)操作工程師,能夠讓芯片生產(chǎn)加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機(jī),從而可以進(jìn)一步提高5nm/3nm芯片的良品率,其實(shí)ASML在臺(tái)灣建設(shè)這座亞洲培訓(xùn)中心,最大的目的就是為了直接幫助臺(tái)積電培養(yǎng)更多的光刻機(jī)操作工程師,因?yàn)樵谶^(guò)去兩年時(shí)間里,ASML一共售賣(mài)了57臺(tái)EUV光刻機(jī)產(chǎn)品,其中臺(tái)積電就購(gòu)得了30臺(tái),占據(jù)著絕大部分的份額,
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 5nm EUV
臺(tái)積電:5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強(qiáng)版
- 24日,臺(tái)積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會(huì),并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺(tái)積電的說(shuō)法,5nm工藝規(guī)劃了兩代,分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV(極紫外光刻)技術(shù),并且已經(jīng)在大規(guī)模量產(chǎn)之中。相較于N7,N5的功耗降低了30%、性能提升了15%,邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版,仍在開(kāi)發(fā)中,規(guī)劃2021年量產(chǎn),相較于第一代5nm,功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%,據(jù)稱面向高性能計(jì)算平臺(tái)做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料,臺(tái)積電的5nm有望應(yīng)用在蘋(píng)果A14芯片(包括Apple Silicon PC處
- 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電 5nm EUV
臺(tái)積電采購(gòu)30臺(tái)EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm,ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心
- 臺(tái)積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣,已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺(tái)上的最大采購(gòu)客戶,累計(jì)已經(jīng)購(gòu)買(mǎi)了 30 臺(tái) EUV 設(shè)備。日前,ASML 繼在韓國(guó)成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后,也在臺(tái)積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺(tái)灣臺(tái)南,成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺(tái)EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作一臺(tái)造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng),重量高達(dá) 180&nbs
- 關(guān)鍵字: EUV 臺(tái)積電 ASML
Intel/臺(tái)積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律
- 日前,中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)(CSTIC)在上海開(kāi)幕,為期19天,本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,截至2019年第四季度,ASML當(dāng)年共售出53臺(tái)EUV NXE:3400系列EUV光刻機(jī),使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬(wàn)片。他說(shuō),EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
- 關(guān)鍵字: Intel 臺(tái)積電 ASML EUV 光刻 摩爾定律
華為、蘋(píng)果7/5nm需求大 臺(tái)積電狂加EUV訂單
- 2020年因?yàn)槿蚪?jīng)濟(jì)的問(wèn)題,本來(lái)電子行業(yè)會(huì)下滑,但是晶圓代工場(chǎng)合不降反升,臺(tái)積電Q1季度營(yíng)收大漲了30%,牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋(píng)果等公司的7nm及5nm工藝需求大,臺(tái)積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺(tái)積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝,不過(guò)第一代7nm沒(méi)有EUV工藝加持,2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā),而今年的5nm工藝則會(huì)全面上馬EUV工藝。根據(jù)臺(tái)積電之前公布的數(shù)據(jù),7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達(dá)到了11萬(wàn)片晶圓/月,而5nm工藝的月
- 關(guān)鍵字: 華為 蘋(píng)果 5nm 臺(tái)積電 EUV
三星新建5nm晶圓廠:先進(jìn)EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)
- 隨著時(shí)間邁入2020年中,以臺(tái)積電和三星為代表的芯片半導(dǎo)體也從7nm逐步向5nm進(jìn)發(fā),實(shí)際上麒麟1020和蘋(píng)果A14芯片就是基于臺(tái)積電5nm工藝,表現(xiàn)相較7nm將會(huì)更上一層樓。很明顯在7nm時(shí)代,三星是落后于臺(tái)積電的,不過(guò)這家巨頭似乎想在5nm時(shí)代彎道超車(chē),近日據(jù)媒體報(bào)道,三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。該工廠是三星在韓國(guó)國(guó)內(nèi)的第六條晶圓代工產(chǎn)線,將應(yīng)用先進(jìn)的極紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技術(shù),拿7nmEUV工藝對(duì)比,三星5nmE
- 關(guān)鍵字: 三星 5nm EUV
EUV光刻機(jī)斷貨 臺(tái)積電5nm工藝搶三星頭彩:A14/麒麟1020首發(fā)
- 臺(tái)積電上周發(fā)布了3月及Q1季度財(cái)報(bào),營(yíng)收同比大漲了42%,淡季不淡。不過(guò)接下來(lái)的日子半導(dǎo)體行業(yè)可能不太好過(guò)了,ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)斷貨,要延期交付,好在臺(tái)積電今年已經(jīng)在5nm工藝上搶先三星了。根據(jù)ASML之前的報(bào)告,3月底他們下調(diào)了1季度營(yíng)收預(yù)期到24-25億美元,差不多減少了1/4左右的營(yíng)收,毛利率也下滑到了45-46%之間。此外,ASML的EUV光刻機(jī)也因?yàn)榉N種原因斷貨了,雖然訂單沒(méi)有取消,但是交付要延期了,三星、臺(tái)積電今年都不太容易快速擴(kuò)張EUV產(chǎn)能。不過(guò)臺(tái)積電在這次危機(jī)中更有優(yōu)勢(shì)地位,他們包
- 關(guān)鍵字: EUV 臺(tái)積電5nm
euv介紹
在半導(dǎo)體行業(yè),EUV一般指EUV光刻,即極紫外光刻。
極紫外光刻(英語(yǔ):Extreme ultra-violet,也稱EUV或EUVL)是一種使用極紫外(EUV)波長(zhǎng)的光刻技術(shù)。
EUV光刻采用波長(zhǎng)為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長(zhǎng)一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下的特征尺寸。
根據(jù)瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長(zhǎng)可以提供極高 [ 查看詳細(xì) ]
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì)員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案:1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473