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第三代半導(dǎo)體引領(lǐng)5G基站技術(shù)全面升級
- 5G 受到追捧是有充足的理由的。根據(jù)CCS Insight 的預(yù)測,到2023 年,5G 用戶數(shù)量將達(dá)10 億;2022 年底,5G蜂窩基礎(chǔ)設(shè)施將承載近15%的全球手機(jī)流量。高能效、尺寸緊湊、低成本、高功率密度和高線性度是5G 基礎(chǔ)設(shè)施對射頻半導(dǎo)體器件的硬性要求。對于整個第三代半導(dǎo)體技術(shù),尤其是氮化鎵(GaN),5G 開始商用是一大利好。與硅、砷化鎵、鍺、甚至碳化硅器件相比,GaN 器件的開關(guān)頻率、輸出功率和工作溫度更高,適合1-110 GHz的高頻通信應(yīng)用,涵蓋移動通信、無線網(wǎng)絡(luò)、點(diǎn)對點(diǎn)和點(diǎn)對多點(diǎn)微波通
- 關(guān)鍵字: 202206 第三代半導(dǎo)體 GaN
TI:運(yùn)用GaN技術(shù)可提升數(shù)據(jù)中心的能源效率
- 德州儀器(TI)副總裁暨臺灣、韓國與南亞總裁李原榮,26日于2022 COMPUTEX Taipei論壇中表示,TI將協(xié)助客戶充分發(fā)揮氮化鎵(GaN)技術(shù)的潛力,以實(shí)現(xiàn)更高的功率密度和效率。李原榮今日以「數(shù)據(jù)中心正在擴(kuò)建 – 以氮化鎵技術(shù)實(shí)現(xiàn)更高效率」為題,分享設(shè)計(jì)工程師如何利用TI 氮化鎵技術(shù)為數(shù)據(jù)中心達(dá)成體積更小、更高功率密度的解決方案。李原榮表示,隨著各產(chǎn)業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者期盼透過數(shù)據(jù)中心實(shí)現(xiàn)技術(shù)創(chuàng)新,從而也提高了運(yùn)算能力的需求,TI希望協(xié)助客戶充分發(fā)揮氮化鎵技術(shù)的潛力,以實(shí)現(xiàn)更高的功率密度和效率。他也強(qiáng)調(diào),
- 關(guān)鍵字: TI GaN 數(shù)據(jù)中心 能源效率
學(xué)貫中西(7):介紹生成對抗網(wǎng)路(GAN)
- 1? ?GAN與NFT的結(jié)合在上一期里,我們說明了天字第一號模型:分類器。接著本期就來看看它的一項(xiàng)有趣應(yīng)用:GAN(generative adversarial networks,生成對抗網(wǎng)絡(luò))。自從2014 年問世以來,GAN 在電腦生成藝術(shù)(generative art) 領(lǐng)域,就開始涌現(xiàn)了許多極具吸引力的創(chuàng)作和貢獻(xiàn)。GAN 如同生成藝術(shù)的科技畫筆,使用GAN 進(jìn)行創(chuàng)作特別令人振奮,常常創(chuàng)作出很特別的效果,給人們許多驚喜的感覺,例如圖1。?圖1近年來,非同質(zhì)化代幣NFT(
- 關(guān)鍵字: 202205 生成對抗網(wǎng)路 GAN
射頻硅基氮化鎵:兩個世界的最佳選擇
- 當(dāng)世界繼續(xù)努力追求更高速的連接,并要求低延遲和高可靠性時(shí),信息通信技術(shù)的能耗繼續(xù)飆升。這些市場需求不僅將5G帶到許多關(guān)鍵應(yīng)用上,還對能源效率和性能提出了限制。5G網(wǎng)絡(luò)性能目標(biāo)對基礎(chǔ)半導(dǎo)體器件提出了一系列新的要求,增加了對高度可靠的射頻前端解決方案的需求,提高了能源效率、更大的帶寬、更高的工作頻率和更小的占地面積。在大規(guī)模MIMO(mMIMO)系統(tǒng)的推動下,基站無線電中的半導(dǎo)體器件數(shù)量急劇增加,移動網(wǎng)絡(luò)運(yùn)營商在降低資本支出和運(yùn)營支出方面面臨的壓力更加嚴(yán)峻。因此,限制設(shè)備成本和功耗對于高效5G網(wǎng)絡(luò)的安裝和
- 關(guān)鍵字: 氮化鎵 GaN
從手機(jī)快充到電動汽車,氮化鎵功率半導(dǎo)體潛力無限
- 近期,蘋果“爆料大神”郭明錤透露,蘋果可能年某個時(shí)候推出下一款氮化鎵充電器,最高支持30W快充,同時(shí)采用新的外觀設(shè)計(jì)。 與三星、小米、OPPO等廠商積極發(fā)力氮化鎵快充產(chǎn)品相比,蘋果在充電功率方面一直較為“保守”。去年10月,伴隨新款MacBook Pro的發(fā)布,蘋果推出了140W USB-C電源適配器(下圖),這是蘋果首款采用氮化鎵材料的充電器,售價(jià)729元。圖片來源:蘋果 如今,蘋果有望持續(xù)加碼氮化鎵充電器,氮化鎵功率半導(dǎo)體市場有望迎來高歌猛進(jìn)式發(fā)展。手機(jī)等快充需求上升,氮化鎵功率市場規(guī)模將達(dá)1
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氮化鎵 (GaN) 封裝的諸多挑戰(zhàn)
- EETOP編譯整理自techinsights 在處理氮化鎵(GaN)時(shí),與硅(Si)相比,還有兩個額外的考慮因素可以優(yōu)化器件性能?! ∮捎贕aN/AlGaN異質(zhì)結(jié)界面上的二維電子氣體(2DEG)通道,GaN具有快速開關(guān)的潛力。 氮化鎵的導(dǎo)熱性相對較差。(在300K時(shí)約1.3W/cm.K,而硅(Si)為1.49W/cm.K和碳化硅(SiC)為3.7W/cm.K) 雖然體積熱導(dǎo)率并不明顯低于硅,但請記住更高的電流密度-它被限制在異質(zhì)結(jié)周圍的一個小區(qū)域。漸進(jìn)式的改進(jìn) 雖然不理想,但傳統(tǒng)的硅封裝可以而且已
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氮化鎵集成方案如何提高功率密度
- 氮化鎵(GaN)是電力電子行業(yè)的熱門話題,因?yàn)樗梢允沟?0Plus鈦電源、3.8 kW/L電動汽車(EV)車載充電器和電動汽車(EV)充電站等設(shè)計(jì)得以實(shí)施。在許多具體應(yīng)用中,由于GaN能夠驅(qū)動更高的功率密度和具有更高的效率,因此它取代了傳統(tǒng)的MOSFET晶體管。但由于GaN的電氣特性和它所能實(shí)現(xiàn)的性能,使得使用GaN元件進(jìn)行設(shè)計(jì)時(shí),要面臨與硅元件截然不同的一系列挑戰(zhàn)?! aN場效應(yīng)晶體管包括耗盡型(d-mode)、增強(qiáng)型(e-mode)、共源共柵型(cascode)等三種類型,并且每種都具有各自的
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意法半導(dǎo)體發(fā)布50W GaN功率變換器,面向高能效消費(fèi)及工業(yè)級電源設(shè)計(jì)
- 意法半導(dǎo)體 VIPerGaN50能夠簡化最高50 W的單開關(guān)反激式功率變換器設(shè)計(jì),并集成一個 650V 氮化鎵 (GaN) 功率晶體管,使電源的能效和小型化達(dá)到更高水平。VIPerGaN50 采用單開關(guān)拓?fù)?,集成很多功能,包括?nèi)置電流采樣和保護(hù)電路,采用低成本的 5mm x 6mm 緊湊封裝。芯片內(nèi)部集成的GaN 晶體管可應(yīng)用于高開關(guān)頻率,從而減小反激變換器的體積和重量。使用這款產(chǎn)品設(shè)計(jì)先進(jìn)的高能效開關(guān)電源 (SMPS),可顯著減少外圍元器件的數(shù)量。VIPerGaN50 可幫助設(shè)計(jì)人員利用 GaN 寬禁帶
- 關(guān)鍵字: 意法半導(dǎo)體 GaN 功率變換器
不只是充電器!99%的人不知道的事實(shí):氮化鎵技術(shù)竟與5G 相關(guān)
- 過去的2020年是5G手機(jī)大爆發(fā)的一年。5G手機(jī)無疑為大家?guī)砹烁斓纳暇W(wǎng)體驗(yàn),更快的下載速度、低延時(shí),高達(dá)10Gps/s的理論峰值速率,比4G手機(jī)數(shù)據(jù)傳輸提升10倍以上,延時(shí)更是低至1ms,比4G手機(jī)縮短10倍。 當(dāng)然,5G對數(shù)據(jù)傳輸速度提升,更強(qiáng)的CPU處理性能也對手機(jī)的續(xù)航能力提出了更高要求。為此,不少手機(jī)廠商為5G手機(jī)配備更大容量的電池,采用更高的充電功率,并在充電器上引進(jìn)最新的氮化鎵技術(shù),實(shí)現(xiàn)在提高充電器功率的同時(shí),將體積控制得更小巧?! 《@里其實(shí)有一個有趣的事實(shí): 這項(xiàng)為5G手機(jī)帶來
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氮化鎵產(chǎn)業(yè)鏈全景深度解析
- 根據(jù)阿里巴巴達(dá)摩院發(fā)布的《2021十大科技趨勢》預(yù)測的第一大趨勢是“以氮化鎵(GaN)、碳化硅(SiC)為代表的第三代半導(dǎo)體迎來應(yīng)用大爆發(fā)”。達(dá)摩院指出,近年來第三代半導(dǎo)體的性價(jià)比優(yōu)勢逐漸顯現(xiàn),正在打開應(yīng)用市場:SiC元件已用作汽車逆變器,GaN快速充電器也大量上市。半導(dǎo)體材料演進(jìn)圖:資料來源:Yole, 國盛證券相對于第一代(硅基)半導(dǎo)體,第三代半導(dǎo)體禁帶寬度大,電導(dǎo)率高、熱導(dǎo)率高,其具有臨界擊穿電場高、電子遷移率高、頻率特性好等特點(diǎn)。氮化鎵(GaN)是最具代表性的第三代半導(dǎo)體材料,成為高溫、高頻、大功
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氮化鎵充電器與普通充電器有什么不同,為什么選擇的人特別多?
- 氮化鎵充電器頻繁的出現(xiàn)在我們的視線中,那么氮化鎵充電器與普通充電器有什么不一樣呢?我們一起來看看。 氮化鎵是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極管中。此化合物結(jié)構(gòu)類似纖鋅礦,硬度很高。氮化鎵的能隙很寬,為3.4電子伏特,可以用在高功率、高速的光電元件中氮化鎵材料的研究與應(yīng)用是目前全球半導(dǎo)體研究的前沿和熱點(diǎn),是研制微電子器件、光電子器件的新型半導(dǎo)體材料,并與SIC、金剛石等半導(dǎo)體材料一起,被譽(yù)為是繼第一代Ge、Si半導(dǎo)體材料、第二代GaAs、InP化合物半導(dǎo)體材料之后的
- 關(guān)鍵字: 氮化鎵 GaN 充電器
PI打出芯片組合拳 解決家電快充應(yīng)用
- 2022年3月21日Power Integrations宣布推出節(jié)能型HiperLCS?-2芯片組以及集成750V PowiGaN?氮化鎵開關(guān)的HiperPFS?-5系列功率因數(shù)校正(PFC)IC?! ?jù)了解,HiperLCS-2雙芯片解決方案由一個隔離器件和一個獨(dú)立半橋功率器件組成。其中的隔離器件內(nèi)部集成了高帶寬的LLC控制器、同步整流驅(qū)動器和FluxLink?隔離控制鏈路。而獨(dú)立半橋功率器件則采用Power Integrations獨(dú)特的600V FREDFET,具有無損耗的電流檢測,同時(shí)集成有上
- 關(guān)鍵字: PI HiperLCS-2芯片組 HiperPFS-5 GaN
ROHM建立8V閘極耐壓150V GaN HEMT量產(chǎn)體制
- 半導(dǎo)體制造商ROHM已建立150V耐壓GaN HEMT GNE10xxTB系列(GNE1040TB)?的量產(chǎn)體制,該系列產(chǎn)品的閘極耐壓(閘極-源極間額定電壓)高達(dá)8V,非常適用于基地臺、數(shù)據(jù)中心等工控設(shè)備和各類型IoT通訊裝置的電源電路。 EcoGaN首波產(chǎn)品 GNE10xxTB系列?有助基地臺和數(shù)據(jù)中心實(shí)現(xiàn)低功耗和小型化一般來說,GaN組件具有優(yōu)異的低導(dǎo)通電阻和高速開關(guān)性能,有助降低各種電源功耗和實(shí)現(xiàn)外圍組件小型化。但其閘極耐壓很低,因此在開關(guān)工作時(shí)的組件可靠性方面尚存在課題。針對該課題,RO
- 關(guān)鍵字: SiC GaN ROHM
ROHM確立柵極耐壓8V的150V GaN HEMT量產(chǎn)體制
- 全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM(總部位于日本京都市)已確立150V耐壓GaN HEMT*1“GNE10xxTB系列(GNE1040TB)”的量產(chǎn)體制,該系列產(chǎn)品的柵極耐壓(柵極-源極間額定電壓)*2高達(dá)8V,非常適用于基站、數(shù)據(jù)中心等工業(yè)設(shè)備和各種物聯(lián)網(wǎng)通信設(shè)備的電源電路。一般而言,GaN器件具有優(yōu)異的低導(dǎo)通電阻和高速開關(guān)性能,因而作為有助于降低各種電源的功耗和實(shí)現(xiàn)外圍元器件小型化的器件被寄予厚望。但其柵極耐壓很低,在開關(guān)工作時(shí)的器件可靠性方面存在問題。針對這一課題,ROHM的新產(chǎn)品通過采用自有的結(jié)構(gòu),成功
- 關(guān)鍵字: ROHM 150V GaN HEMT
半導(dǎo)體一周要聞3.7-3.11
- 1. 提前預(yù)定五年產(chǎn)能,全球半導(dǎo)體硅片進(jìn)入黃金期!根據(jù)SEMI發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,2021年全球硅片的出貨量同比增加了14%,總出貨量達(dá)到141.65 億平方英寸(MSI),收入同比增長了13%,達(dá)到126.2億美元。 目前,包括長江存儲和武漢新芯等客戶,都與滬硅旗下的上海新昇簽訂了2022年至2024年的長期供貨協(xié)議。其中,2022年1-6月預(yù)計(jì)交易金額分別為1.55億元、8000萬元,而2021年1-11月上述公司的交易金額分別為1.43億元、1.03億元。2. 2021 年中國集成電路銷售額首
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