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          電源應(yīng)用的散熱仿真耗

          作者: 時(shí)間:2010-12-11 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 收藏

          是開(kāi)發(fā)產(chǎn)品以及提供產(chǎn)品材料指南一個(gè)重要的組成部分。
          優(yōu)化模塊外形尺寸是終端設(shè)備設(shè)計(jì)的發(fā)展趨勢(shì),這就帶來(lái)了從金屬片向 PCB 覆銅層管理轉(zhuǎn)換的問(wèn)題。當(dāng)今的一些模塊均使用較低的開(kāi)關(guān)頻率,用于開(kāi)關(guān)模式和大型無(wú)源組件。對(duì)于驅(qū)動(dòng)內(nèi)部電路的電壓轉(zhuǎn)換和靜態(tài)電流而言,線性穩(wěn)壓器的效率較低。
          隨著功能越來(lái)越豐富,性能越來(lái)越高,設(shè)備設(shè)計(jì)也變得日益緊湊,這時(shí) IC 級(jí)和系統(tǒng)級(jí)的散熱就顯得非常重要了。
          一些的工作環(huán)境溫度為 70 到 125C,并且一些裸片尺寸車(chē)載的溫度甚至高達(dá) 140C,就這些而言,系統(tǒng)的不間斷運(yùn)行非常重要。進(jìn)行電子設(shè)計(jì)優(yōu)化時(shí),上述兩類(lèi)應(yīng)用的瞬態(tài)和靜態(tài)最壞情況下的精確散熱分析正變得日益重要。
          散熱管理
          散熱管理的難點(diǎn)在于要在獲得更高散熱性能、更高工作環(huán)境溫度以及更低覆銅散熱層預(yù)算的同時(shí),縮小封裝尺寸。高封裝效率將導(dǎo)致產(chǎn)生熱量組件較高的集中度,從而帶來(lái)在 IC 級(jí)和封裝級(jí)極高的熱通量。
          系統(tǒng)中需要考慮的因素包括可能會(huì)影響分析器件溫度、系統(tǒng)空間和氣流設(shè)計(jì)/限制條件等其他一些印刷電路板功率器件。散熱管理要考慮的三個(gè)層面分別為:封裝、電路板和系統(tǒng)(請(qǐng)參見(jiàn)圖 1)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/180148.htm

          圖 1 IC 封裝中典型的熱傳遞路徑 www.elecfans.com

          圖 1 IC 封裝中典型的熱傳遞路徑
          低成本、小外形尺寸、模塊集成和封裝可靠性是選擇封裝時(shí)需要考慮的幾個(gè)方面。由于成本成為關(guān)鍵的考慮因素,因此基于引線框架的散熱增強(qiáng)封裝正日益受到人們的青睞。這種封裝包括內(nèi)嵌散熱片或裸露焊盤(pán)和均熱片型封裝,設(shè)計(jì)旨在提高散熱性能。在一些表面貼裝封裝中,一些專(zhuān)用引線框架在封裝的每一面均熔接幾條引線,以起到均熱器的作用。這種方法為裸片焊盤(pán)的熱傳遞提供了較好的散熱路徑。
          IC 與封裝散熱
          散熱分析要求詳細(xì)、準(zhǔn)確的硅芯片產(chǎn)品模型和外殼散熱屬性。半導(dǎo)體供應(yīng)商提供硅芯片 IC 散熱機(jī)械屬性和封裝,而設(shè)備制造商則提供模塊材料的相關(guān)信息。產(chǎn)品用戶(hù)提供使用環(huán)境資料。
          這種分析有助于 IC 設(shè)計(jì)人員對(duì) FET 尺寸進(jìn)行優(yōu)化,以適用于瞬態(tài)和靜態(tài)運(yùn)行模式中的最壞情況下的功耗。在許多電源電子 IC 中,電源 FET 都占用了裸片面積相當(dāng)大的一部分。散熱分析有助于設(shè)計(jì)人員優(yōu)化其設(shè)計(jì)。
          選用的封裝一般會(huì)讓部分金屬外露,以此來(lái)提供硅芯片到散熱器的低散熱阻抗路徑。模型要求的關(guān)鍵參數(shù)如下:
          硅芯片尺寸縱橫比和芯片厚度。
          功率器件面積和位置,以及任何發(fā)熱的輔助驅(qū)動(dòng)電路。
          電源結(jié)構(gòu)厚度(硅芯片內(nèi)分散情況)。
          硅芯片連接至外露金屬焊盤(pán)或金屬突起連接處的裸片連接面積與厚度??赡馨闫B接材料氣隙百分比。
          外露金屬焊盤(pán)或金屬突起連接處的面積和厚度。
          使用鑄模材料和連接引線的封裝尺寸。
          需提供模型所用每一種材料的熱傳導(dǎo)屬性。這種數(shù)據(jù)輸入還包括所有熱傳導(dǎo)屬性的溫度依賴(lài)性變化,這些傳導(dǎo)屬性具體包括:
          硅芯片熱傳導(dǎo)性
          裸片連接、鑄模材料的熱傳導(dǎo)性
          金屬焊盤(pán)或金屬突起連接處的熱傳導(dǎo)性。
          封裝類(lèi)型 (package product) 和 PCB 相互作用
          散熱仿真的一個(gè)至關(guān)重要的參數(shù)是確定焊盤(pán)到散熱片材料的熱阻,其確定方法主要有以下幾種:
          多層 FR4 電路板(常見(jiàn)的為四層和六層電路板)
          單端電路板
          頂層及底層電路板
          散熱和熱阻路徑根據(jù)不同的實(shí)施方法而各異:
          連接至內(nèi)部散熱片面板的散熱焊盤(pán)或突起連接處的散熱孔。使用焊料將外露散熱焊盤(pán)或突起連接處連接至 PCB 頂層。
          位于外露散熱焊盤(pán)或突起連接處下方 PCB 上的一個(gè)開(kāi)口,可以和連接至模塊金屬外殼的伸出散熱片基座相連。
          利用金屬螺釘將散熱層連接至金屬外殼的 PCB 頂部或底部覆銅層上的散熱片。使用焊料將外露散熱焊盤(pán)或突起連接處連接至 PCB 的頂層。
          另外,每層 PCB 上所用鍍銅的重量或厚度非常關(guān)鍵。就熱阻分析而言,連接至外露焊盤(pán)或突起連接處的各層直接受這一參數(shù)的影響。一般而言,這就是多層印刷電路板中的頂部、散熱片和底部層。
          大多數(shù)應(yīng)用中,其可以是兩盎司重的覆銅(2 盎司銅=2.8 mils 或 71 µm)外部層,以及1盎司重的覆銅(1盎司銅= 1.4 mils 或 35 µm)內(nèi)部層,或者所有均為 1 盎司重的覆銅層。在消費(fèi)類(lèi)電子應(yīng)用中,一些應(yīng)用甚至?xí)褂?0.5 盎司重的覆銅(0.5 盎司銅 = 0.7 mils 或 18 µm)層。
          模型資料
          仿真裸片溫度需要一張 IC 平面布置圖,其中包括裸片上所有的電源 FET 以及符合封裝焊接原則的實(shí)際位置。
          每一個(gè) FET 的尺寸和縱橫比,對(duì)熱分布都非常重要。需要考慮的另一個(gè)重要因素是 FET 是否同時(shí)或順序上電。模型精度取決于所使用的物理數(shù)據(jù)和材料屬性。
          模型的靜態(tài)或平均功耗分析只需很短的計(jì)算時(shí)間,并且一旦記錄到最高溫度時(shí)便出現(xiàn)收斂。
          瞬態(tài)分析要求功耗-時(shí)間對(duì)比數(shù)據(jù)。我們使用了比開(kāi)關(guān)電源情況更好的解析步驟來(lái)記錄數(shù)據(jù),以精確地對(duì)快速功率脈沖期間的峰值溫度上升進(jìn)行捕獲。這種分析一般費(fèi)時(shí)較長(zhǎng),且要求比靜態(tài)功率模擬更多的數(shù)據(jù)輸入。
          該模型可仿真裸片連接區(qū)域的環(huán)氧樹(shù)脂氣孔,或 PCB 散熱板的鍍層氣孔。在這兩種情況下,環(huán)氧樹(shù)脂/鍍層氣孔都會(huì)影響封裝的熱阻(請(qǐng)參見(jiàn)圖 2)。


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