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          柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)

          作者:ZongYu 時(shí)間:2023-05-12 來源:EEPW 收藏

          在如今這個(gè)信息時(shí)代,如果說我們的世界是由堆積起來的高樓大廈,那么制造,則是這里面高樓的地基,而談到制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī),沒錯(cuò),作為人類商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡,光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇,光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會(huì)見到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在,那么光刻機(jī)是如何工作的呢?它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢?本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn),也是我國被“卡脖子”的(極紫外)光刻機(jī)。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202305/446537.htm

                   

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          荷蘭光刻機(jī)

          眾所周知,既然要“雕刻”,那影響雕刻精細(xì)程度的因素除了匠人的技藝,最重要的就是刀刃的大小了,而光刻機(jī)這種以光為刀的設(shè)備,其發(fā)展方向便是追求更極致的“刀刃”的大小。那么,對(duì)于光來說,刀刃的大小,自然就是光的波長。

          從第一代和第二代光刻機(jī),其使用光源分別為436nm的g-line 和365nm的i-line;到第三代掃描投影式光刻機(jī),使用的248nm的KrF激光,光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了跨越式發(fā)展,將最小“雕刻精度”推進(jìn)至180-130nm;而到了今天,人類已經(jīng)開始使用波長為10-14nm的極紫外光,其“雕刻精度”也來到了5nm、甚至是3nm,而光刻機(jī)也就因其極其復(fù)雜的工程實(shí)現(xiàn),成了目前為止,人類最精密的商業(yè)化機(jī)器。

          (Ps:目前的5nm、3nm之類工藝名稱,更多的是廠家宣傳,已經(jīng)沒有實(shí)際的物理意義,實(shí)際的精度還是會(huì)比5nm、3nm要粗糙不少)

          既然是利用極紫外光的光刻機(jī)第一步自然是如何生成極紫外光線了,目前有四種方式可以獲得極紫外光,分別是:同步輻射光源、自由電子激光、放電生成等離子體和激光產(chǎn)生等離子體。



          01


          同步輻射光源

          首先,介紹一下同步輻射光源:要是想產(chǎn)生同步輻射光源,我們需要一臺(tái)粒子加速器,當(dāng)電子在加速器的圓環(huán)之中加速到接近光速的過程中,它就會(huì)不斷地向切線方向輻射光線,這就是所謂的“同步輻射”。這種光源能量轉(zhuǎn)化率高,包含幾乎所有頻譜的光線,從可見光、紅外線、紫外線和極紫外線應(yīng)有盡有,只要將其他光線過濾掉,就能獲得極紫外光線。這東西能不能用來做光刻機(jī)呢?答案肯定是不行,這東西設(shè)備巨大,造價(jià)昂貴,而且其主要是用于更加重要的基礎(chǔ)科學(xué)的研究,顯然不合適用于光刻機(jī)。


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          粒子加速器需要以公里計(jì)的加速軌道


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          自由電子激光

          其次,我們來看一下自由電子激光:它的原理也很簡單,就是讓電子在磁場之中震蕩,產(chǎn)生同步輻射,而輻射出波長和磁場震蕩周期與電子運(yùn)動(dòng)速度有關(guān),因此,我們控制磁場和電子運(yùn)動(dòng)速度就能獲得想要的波長,也就是極紫外線。不過和同步輻射光源一樣,自由電子激光也需要相當(dāng)長的磁場軌道加速,而且同樣昂貴,在上海建設(shè)的硬X射線自由電子激光裝置,整整耗資100億人民幣,這是商業(yè)化光刻機(jī)不能承受的成本。


          但是,這種光源雖然現(xiàn)在還不合適,但是有望在未來成為下一代光刻機(jī)光源,上海光機(jī)所也在積極探索一種名為激光尾波場加速的技術(shù),可以將自由電子激光加速軌道縮短到幾米,有興趣的讀者可以去自行搜索了解一下。


          03


          放電生成等離子體

          之后,第三種方式,放電生成等離子體就很簡單粗暴,就是直接將氙、錫等材料放入電極之中電離,這些材料在變?yōu)榈入x子體的時(shí)候就會(huì)放出極紫外線,這之中氙是最理想的材料,因?yàn)樗菤怏w,不會(huì)污染電極,但是氙有一個(gè)致命的缺點(diǎn),就是極紫外線轉(zhuǎn)化率很低,只有1%,大量能量會(huì)變成其他波長的光線輻射出來。而錫就沒有這個(gè)問題,其在電離中的輻射光的峰值就出現(xiàn)在極紫外波段,轉(zhuǎn)化率可以提高的2%,但是這又引來了另一個(gè)問題,錫是固體,在電離過程中飛濺的碎片會(huì)污染設(shè)備,這要如何解決呢?這就是目前唯一商業(yè)化的解決方案,激光產(chǎn)生等離子體。


          04


          激光產(chǎn)生等離子體

          最后,我們來介紹一下第四種,也是唯一成熟的極紫外光產(chǎn)生方式,激光產(chǎn)生等離子體。簡單來說就是用高能量的激光轟擊微小的錫液滴(30微米左右),使其瞬間等離子體化,同時(shí)放出極紫外線。目前使用的是二氧化碳激光器來作為激光光源,其工作原理如下:錫液發(fā)生器將錫加熱融化,使錫液滴落入真空室,這時(shí),激光發(fā)生器會(huì)先發(fā)出一道能量稍弱的激光擊中錫液滴,這發(fā)激光的目的是將錫液滴攤平,就像我們烙餅一樣,這樣有助于錫液滴受熱均勻確保完全蒸發(fā),第二道強(qiáng)激光會(huì)接踵而至(這種打兩道激光的方法,即的預(yù)脈沖技術(shù)),使得“錫餅”瞬間加熱等離子化,同時(shí)放出極紫外光,真空室內(nèi)的收集鏡捕獲等離子體向所有方向發(fā)出的極紫外輻射,匯聚形成光源,極紫外光會(huì)被傳遞至光刻系統(tǒng)以曝光晶片。


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          這一過程聽上去好像很“簡單”,但是實(shí)際上困難重重,因?yàn)榧す獾淖饔脮r(shí)間非常短,只有五萬分之一秒,為了使錫液滴在這么短的時(shí)間內(nèi)精確得被激光擊中兩次,液滴的飛行速度要達(dá)到150m/s,這相當(dāng)于一列復(fù)興號(hào)高鐵的速度。想象一下,激光要擊中一個(gè)直徑只有30微米,以高鐵速度飛行的液滴兩次,而這一切的發(fā)生時(shí)間僅僅只有五萬分之一秒,其對(duì)于精度的控制難度可想而知。因此,ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)有海量的檢測系統(tǒng),來確保絕對(duì)的精確。



          如何降低錫碎片的影響呢?


          現(xiàn)在還有一個(gè)問題,就是錫液滴被擊中時(shí),難免會(huì)爆裂開產(chǎn)生碎片,這些碎片累積起來,很容易讓高精度的反射鏡報(bào)廢,如何降低錫碎片的影響呢?這就是ASML所采用的碎片緩沖技術(shù):在反射鏡表面充入低壓的氫氣,一方面氫氣可以幫助散熱,而另一方面氫氣會(huì)和飛濺而來的錫碎片反應(yīng),生成烷錫,這是一種氣體,很容易就會(huì)被抽氣機(jī)抽出真空室。就這樣,無數(shù)工程師絞盡腦汁,可以說是窮盡了目前人類發(fā)展成果,終于解決了極紫外光源的問題






          如何傳遞極紫外光呢?


          現(xiàn)在還有最后一個(gè)棘手的問題,就是如何傳遞極紫外光呢?我們知道,光源需要透過鏡片的層層折射才能最終完美成像,離我們生活中最近的例子就是相機(jī)的鏡頭,各種光學(xué)玻璃的疊加才能再完美成像,光刻機(jī)更是如此。但是極紫外的穿透性極差,有多差呢?它連空氣都穿透不過,為了伺候極紫外光,需要將整個(gè)光刻系統(tǒng)都放在真空之中。





          極紫外光如何透過層層疊疊的高精度光學(xué)玻璃呢?


          工程師們給出的方案就是,干脆別透過鏡片折射了,整套光學(xué)成像換成反射式,然而事情遠(yuǎn)沒有這么容易,極紫外光的反射能力也很弱,而且從錫液滴中產(chǎn)生的可不止極紫外光,還有其他的X光、紅外線等等雜光,很容易折騰一圈最后發(fā)現(xiàn)反射了一堆不需要的光線。那如何解決呢?只能從極紫外波長10-14nm上想想辦法了。


          工程師們使用對(duì)這個(gè)波段反射效率很高的鉬和硅制成一種雙面反射鏡,并堆疊上50層,既然極紫外光一次反射能力很弱,那就多反射幾次,由于不同層之間反射的極紫外光會(huì)相互干涉,我們精確控制每一層玻璃的厚度,就會(huì)讓極紫外光發(fā)生相長干涉,層層強(qiáng)化反射強(qiáng)度。


          為了讓每層之間的反射足夠精確,每層反射玻璃必須做到原子級(jí)別的平整,到底有多平整呢?其平整程度相當(dāng)于把整個(gè)中國的國土,打磨成誤差不超過4mm的平面,恐怕平整程度能比過這種反射鏡片的東西,也只有科幻小說里,三體人的“水滴”了。





          目前經(jīng)過工程師的努力,ASML所使用的光學(xué)玻璃,已經(jīng)可以讓極紫外光的發(fā)射效率達(dá)到70%。最后極紫外光透過反射式光掩模,最終在晶圓上完成光刻。

          如此艱難所獲取的極紫外光,將在方寸之間雕刻出宛如巨大都市的上百億密集晶體管陣列,最終封裝成為一個(gè)個(gè)算力核心,支持我們這個(gè)時(shí)代發(fā)展。小到各位手中智能手機(jī)的每一次滑動(dòng),大到巨型數(shù)據(jù)中心,計(jì)算出天地萬物的運(yùn)行規(guī)律。

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          以上就是目前我們?nèi)祟愃苌a(chǎn)出的最復(fù)雜的商業(yè)化機(jī)器EUV光刻機(jī)的簡單工作流程,也是我國想用舉國之力挑戰(zhàn)的、整個(gè)西方世界的工程巔峰。面對(duì)這個(gè)需要幾乎各個(gè)領(lǐng)域都要做到工程極限的奇跡設(shè)備,我們能不能像之前攻破原子彈、盾構(gòu)機(jī)那樣突破,筆者也不得而之。但是,我想引用英國登山家喬治·馬洛里的話來結(jié)束這篇文章:“為何想要攀登珠穆朗瑪峰?——因?yàn)樯骄驮谀抢?!?/p>





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