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          盤點影響PCBA清洗工藝穩定性的4個因素

          作者:時間:2024-04-10來源:EEPW收藏

          相當長一段時間,業內對的認識不夠充分。主要是因為以前組裝密度較低,助焊劑殘留等污染物對電氣性能的不良影響不易被察覺。如今,隨著的設計向小型化發展,器件尺寸和器件之間的間距變得更小,由微小顆粒殘留導致的短路、電化學遷移等失效故障已經引起了廣泛的關注。為了適應市場趨勢,提升產品的可靠性,越來越多的SMT生產制造商開啟了對的求知之旅。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202404/457414.htm

          即結合清洗劑的靜態清洗力和清洗設備的動態清洗力,最終將污染物去除的過程。清洗分為貼片(SMT)和插件(THT)兩個階段,通過清洗可以清除產品在加工過程中表面污染物的積累,減少產品受到表面污染而降低可靠性的風險。在電子制造和半導體加工行業,選擇正確的清洗劑搭配恰當的清洗設備非常重要。影響PCBA清洗工藝穩定性的因素主要包括:清洗對象、清洗設備、清洗劑以及工藝控制。

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          清洗對象

          一般情況下清洗對象的是錫膏和助焊劑殘留,這些殘留會引起電化學遷移、腐蝕和短路,給產品可靠性帶來極大的威脅,不過也不排除電路板表面有大顆粒污染、油漬和汗漬。不同PCBA的材料性能和表面狀況也不同。技術中心每天都進行免費清洗測試,在很多情況下客戶的產品不能進水,因此不適合用浸沒式清洗工藝!另外有一些元器件由敏感金屬構成,非常脆弱,不能使用超聲波進行清洗,不然那些泡泡爆炸的時候會震碎元器件。還有一些元器件必須用pH中性清洗液來進行“溫柔”處理!通常線路板表面都有非常復雜的幾何結構,而且集成密度還非常高。當器件與基板之間的距離非常小,去離子水的水滴就無法鉆入細小的間隙,根本無力去除器件底部的污染物,這時候就需要化學清洗劑來幫忙。

          清洗劑

          選擇專門的清洗劑非常重要。數據庫存儲2500多種配方及相關原材料,針對不同的污染物設計了豐富的水基、半水基和溶劑型的產品組合。材料兼容性是清洗工藝中常常被忽視卻又至關重要的部分,比如:電源模塊封裝上有銅、鎳或鋁等多種金屬材料,不當的清洗工藝極易導致鋁芯片和銅表面出現腐蝕或氧化,有的還有字符脫落。因此,清洗劑與清洗對象之間、清洗劑與清洗設備之間的材料的不兼容可能導致產品報廢,或是引起設備管路的堵塞。

          清洗液作為一種在生產線上使用且可能直接接觸人體的化學品,存在操作不當造成人身傷害和經濟損失風險。自1989年開發出第一款替代CFC的清洗劑,始終堅持做綠色安全的清洗產品。無論何時,ZESTRON承諾所有產品均符合REACH法規、RoHS指令和WEEE 指令。ZESTRON清洗劑不含ODS臭氧層破壞成分,VOC含量符合國家標準。

           清洗設備

          一套完整的清洗工藝通常包括清洗、漂洗和烘干這三道工序,在清洗過程中,清洗劑和污染物相互接觸,清洗劑將污染物從清洗對象的表面分離出來;漂洗和烘干過程主要是進一步去除污染物,還要確保元器件表面不存在清洗劑的殘留。ZESTRON技術中心內擁有100多臺來自世界著名清洗設備生產商的清洗設備。從離線批量清洗設備,諸如超聲波清洗設備、浸沒式清洗設備、離心清洗設備,到在線噴淋設備,客戶可在多種常用清洗機械力學中進行選擇。ZESTRON能夠以真實的生產條件測試您的產品,并根據客戶的需求,評估清洗應用、清洗設備,及各種清洗劑。

          清洗工藝控制

          隨著清洗時間的增加,清洗液中不斷進入的污染物將對清洗效率產生負面影響。何時該換液?最晚何時換液?環境/產品變了,清洗參數怎么調?這些問題直接關乎客戶的成本和產出,而找到答案的關鍵在于對清洗數據的采集,包括:時間、動作、濃度及溫度。其中清洗液在使用的過程中會受到諸多因素的影響,如:液體中殘留物、液體的蒸發、去離子水的添加等,其濃度往往會起伏不定。所以在電路清洗工序中,濃度的監測直接關系到清洗效果的穩定性。ZESTRON為濃度監控提綱豐富的產品組合。包括創新型清洗工藝濃度管理系統ZESTRON? EYE CM;自動化濃度檢測系統ZESTRON ? EYE和便攜式的ZESTRON? EYE Mobile;以及全球首款不受助焊劑殘留影響的濃度測試包ZESTRON? Bath Analyze。

          如果您對選擇清洗工藝的選擇或工藝的調整感興趣,歡迎發送電子郵件至infochina@zestron.com與ZESTRON聯系預約上?;蛏钲诩夹g中心的免費清洗試驗。



          關鍵詞: PCBA 清洗工藝 ZESTRON

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