臺(tái)積電40納米良率大躍進(jìn) 已逾60%

　　外界關(guān)心臺(tái)積電40納米制程良率進(jìn)展，臺(tái)積電30日法說首次破例現(xiàn)場(chǎng)聯(lián)機(jī)至Fab 12，請(qǐng)先進(jìn)制程事業(yè)副總劉德音說明。劉德音表示，40納米制程良率已從30%進(jìn)展到60%，預(yù)期10月其缺陷密度將達(dá)0.2左右，同時(shí)，臺(tái)積電本季40納米制程產(chǎn)能也將沖上3萬片。臺(tái)積電董事長(zhǎng)張忠謀則認(rèn)為，臺(tái)積電32、28納米制程，未來承接CPU訂單的機(jī)會(huì)將愈來愈多。

　　過去臺(tái)積電法說會(huì)多現(xiàn)場(chǎng)問答，這次破例進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)與Fab 12即時(shí)聯(lián)機(jī)，并由先進(jìn)制程副總劉德音身著無塵衣，親自對(duì)外界40納米制程進(jìn)度說明釋疑并接受提問。劉德音說，目前40納米制程產(chǎn)能已達(dá)單月9,000片，預(yù)估第3季總產(chǎn)能將達(dá)3萬片，同時(shí)，良率進(jìn)展也維持穩(wěn)定改善步伐前進(jìn)，目前部分客戶的芯片缺陷密度已經(jīng)達(dá)0.3~0.2，預(yù)期10月將全面達(dá)到0.2。

　　劉德音分析，由于在45/40納米包括浸潤(rùn)式顯影、ELK及SiGe等新材料倒入的挑戰(zhàn)比起以往制程復(fù)雜，但是臺(tái)積電投入可制造設(shè)計(jì)服務(wù)(DFM)就是為了將制程與設(shè)計(jì)兩者綜效最佳化，面對(duì)外資提問怕不怕競(jìng)爭(zhēng)者仍采取T-Like制程競(jìng)爭(zhēng)，劉德音說，不能阻止客戶選擇，但是到了40納米必須制程與設(shè)計(jì)兩相配合才能獲得絕佳效果。

　　當(dāng)外資繼續(xù)追問32、28納米制程進(jìn)展時(shí)，張忠謀則笑稱「It’s my show」拿回回答的主導(dǎo)權(quán)。張忠謀說，32、28納米制程皆如期進(jìn)展，臺(tái)積電預(yù)計(jì)2010年第1季投產(chǎn)32納米制程，預(yù)期2010年底到2011年初投產(chǎn)28納米制程。此時(shí)，法人關(guān)心的CPU及嵌入式CPU貢獻(xiàn)，張忠謀說，整合元件廠(IDM)2009年將關(guān)廠20幾座，未來臺(tái)積電28、32納米制程爭(zhēng)取CPU訂單的機(jī)會(huì)愈來愈多。

　　劉德音也指出，目前已經(jīng)有許多客戶采用臺(tái)積電制程生產(chǎn)嵌入式CPU，而獨(dú)立式CPU(stand alone CPU)目前釋出的訂單規(guī)模有限，同時(shí)在少數(shù)幾家業(yè)者掌控下有授權(quán)及權(quán)利金的問題;不過張忠謀隨即補(bǔ)充說，目前臺(tái)積電已經(jīng)與英特爾(Intel)達(dá)成合作意向書(MOU)，言下之意是雙方合作空間仍大。