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有多貴?ASML新EUV光刻機單臺硬件造價2500億:可買三臺頂級航母
- 都知道光刻機單臺成本非常的貴,但是你知道有多貴嗎?一臺數(shù)億美元的光刻機讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價格極限,然而,ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露,他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設(shè)備,而高NA EUV光刻機系統(tǒng)的單臺造價將在300億到350億歐元之間,約合人民幣2195到2561億元。這個價格什么概念,一搜頂級航母的價格差不多在100億美元左右,而這臺硬件設(shè)備可以買三艘頂級航母,而ASML目前在售的雙工件臺EUV光刻機不過數(shù)億美元,作為下一代產(chǎn)品身價
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ASML于投資者日會議介紹有關(guān)需求展望、產(chǎn)能計劃和商業(yè)模式的最新情況
- 荷蘭菲爾德霍芬,2022年11月10日—— ASML Holding N.V.(ASML)將于11月11日舉辦的投資者日會議上向其投資者及主要利益相關(guān)方介紹有關(guān)需求展望的最新情況,該會議將采用線上與線下相結(jié)合的方式在位于荷蘭菲爾德霍芬的公司總部舉行。ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink和執(zhí)行副總裁兼首席財務(wù)官Roger Dassen將分享ASML的長期戰(zhàn)略、宏觀趨勢、市場需求、產(chǎn)能計劃和商業(yè)模式,旨在支持公司未來持續(xù)增長。 最新市場前景呈現(xiàn)的機會點將支持ASML未來持續(xù)增長?&nb
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ASML參展第五屆進博會 以開放與專注助力行業(yè)合作共贏
- (中國上海,2022年11月4日)—— 今年,半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML將以“光刻未來,攜手同行”為主題繼續(xù)亮相第五屆中國國際進口博覽會(以下簡稱“進博會”)技術(shù)裝備展區(qū)4.1展館A0-01展臺。屆時,ASML將首次通過“元宇宙”平臺,帶來沉浸式的光刻體驗,彰顯前沿科技,推動行業(yè)發(fā)展。 “今年是ASML第四次參展進博會,我們希望借助進博會的平臺不斷地展現(xiàn)開放共贏、合作發(fā)展的理念?!盇SML全球高級副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示,“ASML一直秉持開放與專注,以‘開放式創(chuàng)新’和對光刻技術(shù)的專注,持
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三星公布發(fā)展規(guī)劃;ASML繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機
- 三星公布五年發(fā)展規(guī)劃10月20日,三星電子在韓國首爾舉辦晶圓代工論壇,此前三星已經(jīng)分別在美國加州、德國慕尼黑、日本東京舉辦了該論壇活動,韓國首爾是今年三星晶圓代工論壇的收官站點。在上述晶圓代工系列活動上,三星對外介紹了最新技術(shù)成果,以及未來五年晶圓代工事業(yè)發(fā)展規(guī)劃。按照規(guī)劃,三星將于2025年量產(chǎn)2nm先進制程工藝技術(shù),到2027年量產(chǎn)1.4nm制程工藝技術(shù)。另一大晶圓代工巨頭臺積電也于近期表示,2nm方面,目前進展一切順利,將仍按照進度量產(chǎn),并將在2nm節(jié)點引入GAA架構(gòu),預(yù)計2024年下半年進入風(fēng)險性
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ASML:有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機
- 近期,全球半導(dǎo)體龍頭設(shè)備企業(yè)阿斯麥(ASML)、泛林(LAM)公布了其最新一季度財報,阿斯麥方面,最新一季度銷售額和利潤均超出市場預(yù)期,其新的凈預(yù)訂額也創(chuàng)下了紀(jì)錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示,ASML有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機;泛林方面,當(dāng)季公司營收創(chuàng)下歷史新高,官方表示,2023年晶圓廠設(shè)備支出將下滑。ASML:有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機10月19日,光刻機大廠阿斯麥公布了2022年第三季度財報。數(shù)據(jù)顯示,ASML第三季度凈營收同比增長10%至58億歐元,超出此前業(yè)界預(yù)
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ASML發(fā)布2022年第三季度財報 | 凈銷售額58億歐元,凈利潤為17億歐元 預(yù)計2022年營收約為210億歐元
- 荷蘭菲爾德霍芬,2022年10月19日—阿斯麥(ASML)今日發(fā)布了2022年第三季度財報。2022年第三季度,ASML實現(xiàn)了凈銷售額58億歐元,毛利率為51.8%,凈利潤達17億歐元。今年第三季度新增訂單金額創(chuàng)歷史新高,達到89億歐元。ASML預(yù)計2022年第四季度凈銷售額約為61億至66億歐元,毛利率約為49%?;诘谒募径阮A(yù)期的中位數(shù),預(yù)計2022年營收約為211億歐元。2022年因快速發(fā)貨流程*產(chǎn)生的遞延到2023年的收入,預(yù)計為約22億歐元。 (*) 快速發(fā)貨流程跳過了我們工廠內(nèi)的一些
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ASML將任命Wayne Allan為管理委員會成員
- 荷蘭菲爾德霍芬,2022年10月19日 —— 阿斯麥 (ASML) 近日宣布,其監(jiān)事會將任命Wayne Allan為管理委員會成員,擔(dān)任執(zhí)行副總裁兼首席戰(zhàn)略采購官。這項任命將在2023年4月26日舉行的股東大會上正式公布。 作為執(zhí)行副總裁兼首席戰(zhàn)略采購官,Wayne主要負(fù)責(zé)采購和供應(yīng)鏈管理。鑒于供應(yīng)鏈績效對于ASML滿足客戶需求愈發(fā)重要,監(jiān)事會決定在管理委員會中設(shè)立此職務(wù)。隨著ASML不斷發(fā)展壯大,供應(yīng)鏈必須跟上公司的成長步伐。在成功應(yīng)對短期挑戰(zhàn)的同時,ASML將繼續(xù)構(gòu)筑強大的管理層戰(zhàn)略關(guān)系,推
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半導(dǎo)體廠倚重EUV 先進微影技術(shù)的強勁需求
- 微影設(shè)備業(yè)者ASML第一季已完成136臺極紫外光(EUV)曝光機出貨,累計超過7,000萬片晶圓完成EUV曝光。隨著EUV微影技術(shù)推進,預(yù)期2025年之后新一代EUV曝光機每小時曝光產(chǎn)量可達220片以上,以因應(yīng)客戶端先進制程推進至埃米(Angstrom)世代對先進微影技術(shù)的強勁需求。雖然2023年半導(dǎo)體市況能見度低且不確定性高,但包括臺積電、英特爾、三星、SK海力士、美光等全球前五大半導(dǎo)體廠仍積極投資EUV產(chǎn)能,加上制程推進會帶動光罩層數(shù)增加,法人樂觀看好家登、帆宣、公準(zhǔn)、意德士(等EUV概念股明年營運將
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顯卡、內(nèi)存全在跌 ASML的EUV光刻機賣不動:一下少了15臺
- 全球半導(dǎo)體市場從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩,部分領(lǐng)域跌價跌得厲害,比如顯卡、內(nèi)存及SSD等,這一波芯片價格下滑也會影響廠商的生產(chǎn)計劃,結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機賣不動了,今年出貨量減少15臺。ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財報,當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元,好于市場預(yù)期的52.6億歐元,上年同期為40.20億歐元,同比增長35%。凈利潤為14.11億歐元,上年同期為10.38億歐元,同比增長36%。雖然業(yè)績大漲,但是ASML對全年的預(yù)期更加悲觀,從之前預(yù)期增長20%下調(diào)到了增長10%,其
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單價26億元 ASML下一代EUV光刻機啟動:核心部件到貨
- 荷蘭ASML公司今天發(fā)布了2022年第二季度財報,當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元,好于市場預(yù)期的52.6億歐元,上年同期為40.20億歐元,同比增長35%。毛利潤為26.65億歐元,上一季度為17.31億歐元,上年同期為20.45億歐元;毛利率為49.1%,上一季度為49.0%。凈利潤為14.11億歐元,上年同期為10.38億歐元,同比增長36%。Q2新增訂單金額為84.61億歐元,其中包括54億歐元的EUV訂單,較上一季度的新增訂單金額69.77億歐元環(huán)比增長21%。本季度中,ASML公司出貨了12臺E
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ASML發(fā)布2022年第二季度財報 | 凈銷售額54億歐元,凈利潤為14億歐元
- 阿斯麥(ASML)今日發(fā)布了2022年第二季度財報。2022年第二季度,ASML實現(xiàn)了凈銷售額54億歐元,毛利率為49.1%,凈利潤達14億歐元。今年第二季度新增訂單金額創(chuàng)歷史新高,達到85億歐元。ASML預(yù)計2022年第三季度凈銷售額約為51億~54億歐元,毛利率約為49%~50%。2022年營收預(yù)計增長約10%。2022年因快速發(fā)貨流程*產(chǎn)生的遞延到2023年的收入,預(yù)計將從約10億歐元增加到約28億歐元。(*) 快速發(fā)貨流程跳過了我們工廠內(nèi)的一些測試環(huán)節(jié)。最終測試及驗收將在客戶現(xiàn)場進行。雖然該措施導(dǎo)
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26億一臺!ASML全新光刻機準(zhǔn)備中:Intel提前鎖定 沖擊2nm工藝
- 對于芯片廠商而言,光刻機顯得至關(guān)重要,而ASML也在積極布局新的技術(shù)。據(jù)外媒報道稱,截至 2022 年第一季度,ASML已出貨136個EUV系統(tǒng),約曝光7000萬個晶圓已曝光。按照官方的說法,新型號的EUV光刻機系統(tǒng) NXE:3600D將能達到93%的可用性,這將讓其進一步接近DUV光刻機(95%的可用性)。數(shù)據(jù)顯示,NXE:3600D系統(tǒng)每小時可生產(chǎn)160個晶圓 (wph),速度為30mJ/cm,這比 NXE:3400C高18%。二正在開發(fā)的 NXE:3800E系統(tǒng)最初將以30mJ/cm的速度提供大過1
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臺積電、Intel、三星狂買ASML EUV光刻機
- 臺積電在北美技術(shù)論壇上公布了新的制程路線圖,定于2025年量產(chǎn)2nm工藝,其采用Nanosheet(納米片電晶體)的微觀結(jié)構(gòu),取代FinFET。期間,臺積電甚至規(guī)劃了5種3nm制程,包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X,要在2025年前將成熟和專業(yè)化制程的產(chǎn)能提高50%,包括興建更多的晶圓廠。顯然,作為產(chǎn)能提升以及興建晶圓廠的關(guān)鍵核心設(shè)備,EUV光刻機少不了要采購一大批。臺積電表示,計劃在2024年引入ASML的新一代EUV極紫外光刻機。此前,Intel曾說自己是第一個訂購ASML下一代EUV光刻機的
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機最新進展:目標(biāo) 2024-2025 年進廠
- 5 月 29 日消息,半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時間來準(zhǔn)備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù),而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻(High-NA EUV)技術(shù)將會比這更快。目前,最先進的芯片是 4/5 納米級工藝,下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù),而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說,它們大都具有 0.33 NA(數(shù)值孔徑)的光學(xué)器件,可提供 13 nm 分辨率。目前來看,這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節(jié)點 (36 nm ~ 38 nm)
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