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          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 2nm!

          臺(tái)積電將砸 1 萬億擴(kuò)大 2nm 產(chǎn)能,目標(biāo) 2025 年量產(chǎn)

          •   6月6日消息,據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,臺(tái)積電將砸1萬億新臺(tái)幣(約2290億元人民幣)在臺(tái)中擴(kuò)大2nm產(chǎn)能布局,有望在中清乙工建設(shè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈園區(qū)。  臺(tái)積電總裁魏哲家在4月14日召開的法說會(huì)上表示,臺(tái)積電2nm預(yù)期會(huì)是最成熟與最適合技術(shù)來支持客戶成長,臺(tái)積電目標(biāo)是在2025年量產(chǎn)。  臺(tái)積電將在2nm的節(jié)點(diǎn)推出Nanosheet/Nanowire的晶體管架構(gòu),另外還將采用新的材料,包括High mobility channel,2D,CNT等,其中2D材料方面,臺(tái)積電已挖掘石墨烯之外的其他材料,可以逐漸用
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電:投資6000多億建3nm、2nm晶圓廠

          • 由于半導(dǎo)體芯片產(chǎn)能緊缺,臺(tái)積電此前宣布三年內(nèi)投資1000億美元,約合6300多億人民幣,主要用于建設(shè)新一代的3nm、2nm芯片廠,蓋長的需求太高,現(xiàn)在連建筑用的磚塊都要搶購了。據(jù)《財(cái)訊》報(bào)道,這兩年芯片產(chǎn)能緊缺,但是比芯片產(chǎn)能更缺的還有一種建材——白磚,連臺(tái)積電都得排隊(duì)搶購。這種磚塊是一種特殊的建材,具備隔音、輕量、隔熱、防火、環(huán)保、便利等優(yōu)點(diǎn),重量只有傳統(tǒng)紅磚的一半左右,是很多工廠及房產(chǎn)建設(shè)中都需要的材料。對(duì)臺(tái)積電來說,一方面它們自己建設(shè)晶圓廠需要大量白磚,另一方面它們?cè)诋?dāng)?shù)啬硞€(gè)城市建設(shè)晶圓廠,往往還會(huì)
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  3nm  2nm  晶圓廠   

          英特爾與臺(tái)積電合作開發(fā)2nm工藝 2025年量產(chǎn)

          • 此前有消息稱英特爾已經(jīng)拿了臺(tái)積電3nm一半產(chǎn)能,近日,則有消息稱英特爾現(xiàn)在又要跟臺(tái)積電合作開發(fā)2nm工藝。英特爾不僅可能會(huì)將3nm制程工藝交給臺(tái)積電代工,同時(shí)也開始跟臺(tái)積電討論合作開發(fā)2nm工藝。不過這一說法還沒有得到英特爾或者臺(tái)積電的證實(shí),考慮到這是高度機(jī)密的信息,一時(shí)間也不會(huì)有官方確認(rèn)的可能。據(jù)悉,臺(tái)積電3nm的量產(chǎn)時(shí)間預(yù)計(jì)2022年四季度啟動(dòng),且首批產(chǎn)能被蘋果和英特爾均分。至于未來的2nm工藝,臺(tái)積電將在2nm節(jié)點(diǎn)推出Nanosheet/Nanowire的晶體管架構(gòu)并采用新的材料,預(yù)計(jì)會(huì)在2025年
          • 關(guān)鍵字: 英特爾  臺(tái)積電  2nm  

          三星高調(diào)宣布2025年投入2nm量產(chǎn)

          • 韓國三星在舉行晶圓代工論壇期間高調(diào)宣布,2025年投入2奈米量產(chǎn),再度確認(rèn)將導(dǎo)入新一代環(huán)繞閘極技術(shù)(GAA)電晶體架構(gòu),搶在臺(tái)積電前宣布2025年投入2奈米制程的芯片量產(chǎn),劍指臺(tái)積電的意圖明顯,晶圓代工全球版圖恐將迎來新變局。此次論壇以Adding One More Dimension為主題,會(huì)中提到三星過去曾在2020上半年宣布該公司要在GAA的基礎(chǔ)上導(dǎo)入3奈米制程,而此次更提到要基于GAA基礎(chǔ),在2023年時(shí)要導(dǎo)入第二代的3奈米制程,并于2025年導(dǎo)入2奈米制程。而這回也是三星首度表明2奈米的制程規(guī)劃
          • 關(guān)鍵字: 三星  2nm  

          三星2nm工藝曝光:2025年可量產(chǎn)

          • 在目前的芯片領(lǐng)域,三星和臺(tái)積電憑借著先進(jìn)的工藝,相互不分上下,而近期在三星的公開場合中,曝光了三星最新的工藝技術(shù)。官方宣稱,三星的3nm工藝上分為兩個(gè)版本,分別在2022和2023年量產(chǎn),而對(duì)比于5nm,三星的3nm工藝能夠讓芯片面積縮小35%,相同單位功耗的情況下性能可提升30%,而功耗也將降低50%左右。而2nm的工藝還沒有出現(xiàn)在會(huì)中,但有消息稱2nm將會(huì)在2025年量產(chǎn)。
          • 關(guān)鍵字: 三星  2nm  

          2nm工藝要上線?臺(tái)積電工廠環(huán)評(píng)被卡

          • 芯研所消息,臺(tái)積電的2nm芯片工藝計(jì)劃上線,但是由于環(huán)評(píng)專案小組的初審,建廠計(jì)劃未能放行,還需要等8月31日之前補(bǔ)正后再審核。在全球先進(jìn)工藝量產(chǎn)上,臺(tái)積電一枝獨(dú)秀,5nm、3nm工藝已經(jīng)領(lǐng)先,再下一代工藝就是2nm了,會(huì)啟用全新GAA晶體管,技術(shù)升級(jí)很大,光是工廠建設(shè)就要200億美元。臺(tái)積電不過臺(tái)積電的2nm工廠建設(shè)計(jì)劃現(xiàn)在遇到了阻力。消息稱,新竹科學(xué)園區(qū)擬展開寶山用地第二期擴(kuò)建計(jì)劃,環(huán)保部門于25日下午召開環(huán)評(píng)專案小組第三次初審會(huì)議,水、電以及廢棄物清理等議題受到關(guān)注,專案小組歷經(jīng)逾三小時(shí)審議后,最終仍
          • 關(guān)鍵字: 2nm  臺(tái)積電  

          歐盟半導(dǎo)體“不再幼稚”:10年內(nèi)產(chǎn)能翻倍、搞定2nm工藝

          • 半導(dǎo)體技術(shù)的重要性已經(jīng)無需多提,現(xiàn)在美國、中國、日本、韓國等國家和地區(qū)都在大力投資先進(jìn)半導(dǎo)體工藝,不希望自己被卡脖子,歐盟現(xiàn)在也清醒了,希望搞定2nm工藝。據(jù)報(bào)道,歐盟市場專員蒂埃里·布雷頓(Thierry Breton)日前在采訪中表示,歐盟需要恢復(fù)以前的市場份額,以滿足行業(yè)的需求。他還提到,多年來歐盟在半導(dǎo)體制造業(yè)中的份額下降了,因?yàn)樵摰貐^(qū)過于幼稚、過于相信全球化。歐盟委員會(huì)制定的計(jì)劃中,希望2030年將芯片產(chǎn)量翻倍,市場份額提升到20%,為此歐盟正在爭取歐洲地區(qū)先進(jìn)芯片制造商的支持,目前至少有22個(gè)
          • 關(guān)鍵字: 2nm  半導(dǎo)體制造  

          里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

          • 藍(lán)色巨人出手就是王炸。  5月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片?! 『诵闹笜?biāo)方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬顆晶體管)為333.33,幾乎是臺(tái)積電5nm的兩倍,也比外界預(yù)估臺(tái)積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?! ?nm晶圓近照  換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內(nèi),就能容納500億顆晶體管。  同時(shí),IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當(dāng)前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗。    實(shí)際上,I
          • 關(guān)鍵字: IBM  2nm  EUV  

          臺(tái)積電最新進(jìn)展:2nm正在開發(fā) 3nm和4nm將在明年面世

          • 全球最大的晶圓代工廠,擁有近500個(gè)客戶,這就是他們的獨(dú)特之處。一方面,公司幾乎可以為提出任何需求的所有客戶提供服務(wù);另一方面,就容量和技術(shù)而言,他們必須領(lǐng)先于其他任何人;就產(chǎn)能而言,臺(tái)積電(TSMC)是不接受任何挑戰(zhàn),而且未來幾年也不會(huì)臺(tái)積電今年300億美元的資本預(yù)算中,約有80%將用于擴(kuò)展先進(jìn)技術(shù)的產(chǎn)能,例如3nm,4nm / 5nm和6nm / 7nm。分析師認(rèn)為,到今年年底,先進(jìn)節(jié)點(diǎn)上的大部分資金將用于將臺(tái)積電的N5產(chǎn)能擴(kuò)大,擴(kuò)大后的產(chǎn)能將提到至每月110,000?120,000個(gè)晶圓啟動(dòng)(WSP
          • 關(guān)鍵字: 2nm  3nm  晶圓  代工  

          全球沖刺2nm,臺(tái)積電和中芯國際卻發(fā)展成熟工藝,這是為何?

          • 前兩天,臺(tái)媒報(bào)道稱臺(tái)積電將投資187億人民幣在南京廠建置月產(chǎn)4萬片的28nm產(chǎn)能,據(jù)悉,該計(jì)劃將于不久后正式啟動(dòng),新產(chǎn)能預(yù)計(jì)在2022年下半年開始逐步產(chǎn)出,并于2023年實(shí)現(xiàn)月產(chǎn)4萬片的目標(biāo)。當(dāng)臺(tái)積電傳來擴(kuò)增28nm產(chǎn)能的消息時(shí),大部分人對(duì)此感到非常驚訝,在更多人眼中,臺(tái)積電作為全球工藝最先進(jìn)的芯片制造商,在全球都在沖刺2nm工藝的時(shí)候,它也應(yīng)該大力投資3nm、2nm,甚至是更加先進(jìn)的工藝,而卻不曾想臺(tái)積電居然選擇斥巨資投資28nm這樣成熟的工藝。事實(shí)上,投資28nm工藝只是臺(tái)積電的計(jì)劃之一,而其從始至終
          • 關(guān)鍵字: 2nm  臺(tái)積電  中芯國際  

          臺(tái)積電2nm工藝進(jìn)入研發(fā)階段:升級(jí)GAA晶體管、改進(jìn)EUV效率

          • 做為全球最大最先進(jìn)的晶圓代工廠,臺(tái)積電在7nm、5nm節(jié)點(diǎn)上領(lǐng)先三星等對(duì)手,明年面還會(huì)量產(chǎn)3nm工藝,接下來則是2nm工藝。臺(tái)積電計(jì)劃未來三年投資1000億美元,其中先進(jìn)工藝花費(fèi)的資金最多,2nm工藝也是前所未有的新工藝,臺(tái)積電去年稱2nm工藝取得了重大進(jìn)展,進(jìn)度比預(yù)期的要好。實(shí)際上臺(tái)積電的2nm工藝沒有宣傳的那么夸張,此前只是技術(shù)探索階段,尋找到了可行的技術(shù)路徑?,F(xiàn)在2nm工藝才算是進(jìn)入了研發(fā)階段,重點(diǎn)轉(zhuǎn)向了測試載具設(shè)計(jì)、光罩制作及硅試產(chǎn)等方向。根據(jù)臺(tái)積電的說法,2nm工藝節(jié)點(diǎn)上,他們也會(huì)放棄FinFE
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電和蘋果合作致力2nm工藝開發(fā),傳聞3nm芯片訂單勢頭強(qiáng)勁

          • 近期臺(tái)積電(TSMC)和蘋果更緊密和高效的合作,使得研發(fā)上取得了多項(xiàng)突破?! ∧壳笆謾C(jī)開始大量使用基于5nm工藝制造的芯片,即將推出的A15 Bionic預(yù)計(jì)將使用更先進(jìn)的N5P節(jié)點(diǎn)工藝制造,預(yù)計(jì)蘋果將在2021年占據(jù)臺(tái)積電80%的5nm產(chǎn)能。不過臺(tái)積電很快將向3nm工藝推進(jìn),并且進(jìn)一步到2nm工藝,這都只是時(shí)間問題?!   ?jù)Wccftech報(bào)道,為了更好地達(dá)成這些目標(biāo),臺(tái)積電和蘋果已聯(lián)手推動(dòng)芯片的開發(fā)工作,將硅片發(fā)展推向極限。臺(tái)積電和蘋果都為了同一個(gè)目標(biāo)而努力,不過受益者可能不只是蘋果,還有英特爾。臺(tái)
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  蘋果  2nm  3nm  

          臺(tái)積電2nm工藝重大突破!2023年投入試產(chǎn)

          • 這幾年,天字一號(hào)代工廠臺(tái)積電在新工藝進(jìn)展上簡直是開掛一般的存在,7nm工藝全面普及,5nm工藝一路領(lǐng)先,3nm工藝近在眼前,2nm工藝也進(jìn)展神速。根據(jù)最新報(bào)道,臺(tái)積電已經(jīng)在2nm工藝上取得一項(xiàng)重大的內(nèi)部突破,雖未披露細(xì)節(jié),但是據(jù)此樂觀預(yù)計(jì),2nm工藝有望在2023年下半年進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn),2024年就能步入量產(chǎn)階段。臺(tái)積電還表示,2nm的突破將再次拉大與競爭對(duì)手的差距,同時(shí)延續(xù)摩爾定律,繼續(xù)挺進(jìn)1nm工藝的研發(fā)。臺(tái)積電預(yù)計(jì),蘋果、高通、NVIDIA、AMD等客戶都有望率先采納其2nm工藝。2nm工藝上,臺(tái)積
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電:2nm芯片研發(fā)重大突破,1nm也沒問題

          • 一、臺(tái)積電:第一家官宣2nm工藝,研發(fā)進(jìn)度超前據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,臺(tái)積電2nm工藝取得重大突破,研發(fā)進(jìn)度超前,業(yè)界看好其2023年下半年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)良率就可以達(dá)到90%。據(jù)臺(tái)媒透露,有別于3nm與5nm采用鰭式場效晶體管(FinFET)架構(gòu),臺(tái)積電2nm改采全新的多橋通道場效晶體管(MBCFET)架構(gòu),研發(fā)進(jìn)度超前。據(jù)悉,臺(tái)積電去年成立了2nm專案研發(fā)團(tuán)隊(duì),尋找可行路徑進(jìn)行開發(fā)??剂砍杀?、設(shè)備相容、技術(shù)成熟及效能表現(xiàn)等多項(xiàng)條件,2nm采以環(huán)繞閘極(GAA)制程為基礎(chǔ)的MBCFET架構(gòu),解決FinFET因制程微
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電2024年將量產(chǎn)突破性的2nm工藝晶體管

          • 9 月 25 日消息 據(jù) wccftech 報(bào)道,臺(tái)灣半導(dǎo)體制造公司(TSMC)在 2nm 半導(dǎo)體制造節(jié)點(diǎn)的研發(fā)方面取得了重要突破:臺(tái)積電有望在 2023 年中期進(jìn)入 2nm 工藝的試生產(chǎn)階段,并于一年后開始批量生產(chǎn)。目前,臺(tái)積電的最新制造工藝是其第一代 5 納米工藝,該工藝將用于為 iPhone 12 等設(shè)備構(gòu)建處理器。臺(tái)積電的 2nm 工藝將采用差分晶體管設(shè)計(jì)。該設(shè)計(jì)被稱為多橋溝道場效應(yīng)(MBCFET)晶體管,它是對(duì)先前 FinFET 設(shè)計(jì)的補(bǔ)充。臺(tái)積電第一次作出將 MBCFET 設(shè)計(jì)用于其晶體管而不
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  
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