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          EEPW首頁 >> 主題列表 >> 3nm finfet

          半導體制程技術(shù)競爭升溫

          •   要判定FinFET、FD-SOI與平面半導體制程各自的市場版圖還為時過早…   盡管產(chǎn)量仍然非常少,全空乏絕緣上覆矽(fully depleted silicon-on-insulator,F(xiàn)D-SOI)制程有可能繼Globalfoundries宣布12奈米計畫(參考閱讀)之后快速成長;而市 場研究機構(gòu)International Business Strategies (IBS)資深分析師Handel Jones表示,三星(Samsung)或?qū)⒃谥袊虾3闪⒌囊蛔戮A廠是否會采用FD
          • 關鍵字: 制程  FinFET  

          Synopsys占九成FinFET投片,Cadence趨于弱勢

          • 新思科技(Synopsys)近日宣布其 Galaxy Design Platform 已支援全球九成的 FinFET 晶片設計量產(chǎn)投片(production tapeout),目前已有超過20家業(yè)界領導廠商運用這個平臺
          • 關鍵字: Synopsys  FinFET   

          移動處理器工藝制程挑戰(zhàn)技術(shù)極限 FinFET成主流

          •   隨著半導體工藝技術(shù)的進步與智能手機對極致效能的需求加劇,移動處理器的工藝制程正在邁向新的高度。目前,全球領先的晶圓代工廠商已經(jīng)將工藝制程邁向10納米FinFET工藝,16/14納米節(jié)點的SoC也已實現(xiàn)量產(chǎn),那么半導體技術(shù)節(jié)點以摩爾定律的速度高速發(fā)展至今,移動處理器的工藝制程向前演進又存在哪些挑戰(zhàn)?同時,進入20納米技術(shù)節(jié)點之后傳統(tǒng)的CMOS工藝式微,這將給FinFET與FD-SOI工藝在技術(shù)與應用上帶來怎樣的發(fā)展變革?     5納米節(jié)點是目前技術(shù)極限 摩爾定律被修正意義仍在
          • 關鍵字: 處理器  FinFET  

          全球首家:臺積電公布5納米FinFET技術(shù)藍圖

          •   臺積電7月14日首度揭露最先進的5納米FinFET(鰭式場效電晶體)技術(shù)藍圖。臺積電規(guī)劃,5納米FinFET于2020年到位,開始對外提供代工服務,是全球首家揭露5納米代工時程的晶圓代工廠。   臺積電透露,配合客戶明年導入10納米制程量產(chǎn),臺積電明年也將推出第二代后段整合型扇形封裝(InFO)服務。臺積電強化InFO布局,是否會威脅日月光、矽品等專業(yè)封測廠,業(yè)界關注。   臺積電在晶圓代工領域技術(shù)領先,是公司維持高獲利的最大動能,昨天的新聞發(fā)布會上,先進制程布局,成為法人另一個關注焦點。   
          • 關鍵字: 臺積電  FinFET  

          半導體走到3nm制程節(jié)點不成問題

          •   在剛剛閉幕的2016年ITF(IMEC全球科技論壇)上,世界領先的獨立納米技術(shù)研究機構(gòu)——IMEC的首席執(zhí)行官Luc van den Hove指出,“scaling(尺寸縮小)還會繼續(xù),我不僅相信它將會繼續(xù),而且我認為它不得不繼續(xù)。”   他認為,目前從技術(shù)層面來說,F(xiàn)INFET、Lateral Nanowire(橫向納米線) 和Vertical Nanowire(縱向納米線)已經(jīng)可以幫我們持續(xù)推進到3nm的制程節(jié)點。EUV光刻技術(shù)將是未來的唯一選擇。
          • 關鍵字: 3nm  半導體  

          ARM攜手臺積電打造多核10納米FinFET測試芯片 推動前沿移動計算未來

          •   ARM今日發(fā)布了首款采用臺積電公司(TSMC)10納米FinFET工藝技術(shù)的多核 64位 ARM?v8-A 處理器測試芯片。仿真基準檢驗結(jié)果顯示,相較于目前常用于多款頂尖智能手機計算芯片的16納米FinFET+工藝技術(shù),此測試芯片展現(xiàn)更佳運算能力與功耗表現(xiàn)。  此款測試芯片的成功驗證(設計定案完成于2015 年第四季度)是ARM 與臺積電持續(xù)成功合作的重要里程碑。該驗證完備的設計方案包含了IP、EDA工具、設計流程及方法,能夠使新客戶采用臺積電最先進的
          • 關鍵字: ARM  FinFET  

          華人胡正明獲美國最高科技獎:FinFET發(fā)明人

          •   據(jù)中新網(wǎng)、網(wǎng)易等報道,當?shù)貢r間2016年5月19日,美國總統(tǒng)奧巴馬在白宮為2015年度美國最高科技獎項獲得者頒獎,包括9名國家科學獎獲得者和8名國家技術(shù)和創(chuàng)新獎獲得者。其中兩張華裔面孔格外引人注意,包括80歲高齡的何南施女士(Nancy ho),出生于南京,1957年畢業(yè)于臺灣大學。   她1993年制造出一種酵母,除了讓木糖發(fā)酵,也可以吧果糖變成乙醇,因此能夠利用稻草之類的非食用材料大量制造乙醇,幫助減少對進口石油的依賴。   另一位是胡正明教授,他1947年出生于北京豆芽菜胡同,在臺灣長大,后
          • 關鍵字: FinFET  

          顯卡大戰(zhàn) AMD/Nvidia各有妙招

          • Nvidia和AMD雙方都擁有為數(shù)眾多的粉絲,每天在網(wǎng)上相互抨擊的文章和帖子是數(shù)不勝數(shù),大家都認為自家購買的顯卡是最好的,而把對方貶的一無是處,顯卡如此,CP黨爭更是如此。
          • 關鍵字: AMD  FinFET  

          FD-SOI會是顛覆性技術(shù)嗎?

          •   全耗盡型絕緣上覆矽(FD-SOI)制程技術(shù)正從原本的“遲到”(too-late)位置搖身一變,成為可望在物聯(lián)網(wǎng)(IoT)與汽車市場取代鰭式場效電晶體(FinFET)的理想替代方案了。對于許多人來說,業(yè)界主導廠商代表出席一場相關領域的業(yè)界活動,象征著為這項技術(shù)背書。   “我認為,F(xiàn)D-SOI正蓄勢待發(fā)。也許還得經(jīng)過幾年的時間,但它終將獲得新的動能,并發(fā)展成為一項關鍵技術(shù),”International Business Strategies (IBS)創(chuàng)
          • 關鍵字: FD-SOI  FinFET  

          中國真的對FD-SOI制程技術(shù)有興趣?

          •   身為一位記者,我發(fā)現(xiàn)撰寫有關于“熱門”公司、技術(shù)與人物的報導,要比我通常負責的技術(shù)主題容易得多;一旦我寫了那些“時髦”的標題,我會確實感受到人氣飆漲。   因 為幾乎每家媒體都窮追不舍,我不需要向讀者解釋為何我要寫那些,以及那些新聞為何對他們重要;我馬上想到的是美國總統(tǒng)候選人川普(Donald Trump)、蘋果(Apple)還有FinFET。而相反的,要寫冷門題材、比較少人討論的話題,挑戰(zhàn)性就高得多;部分讀者會有先入為主的看法,認為那 些題目不關他們
          • 關鍵字: FD-SOI  FinFET  

          FD-SOI與FinFET互補,是中國芯片業(yè)彎道超車機會

          • 本文介紹了Soitec半導體公司的全耗盡絕緣硅(FD-SOI)的特點、最新進展及其生態(tài)系統(tǒng),并將FD-SOI與FinFET作比較,分析了各自的優(yōu)勢、應用領域和應用前景。
          • 關鍵字: FD-SOI  FinFET  制造  201604  

          針對高性能計算7納米 FinFET工藝,ARM與臺積電簽訂長期戰(zhàn)略合作協(xié)議

          •        ARM和臺積電宣布簽訂針對7納米 FinFET工藝技術(shù)的長期戰(zhàn)略合作協(xié)議,涵蓋了未來低功耗,高性能計算SoC的設計方案。該合作協(xié)議進一步擴展了雙方的長期合作關系,并將領先的工藝技術(shù)從移動手機延伸至下一代網(wǎng)絡和數(shù)據(jù)中心。此外,該協(xié)議還拓展了此前基于ARM? Artisan? 基礎物理IP 的16納米和10納米 FinFET工藝技術(shù)合作。  ARM全球執(zhí)行副總裁兼產(chǎn)品事業(yè)群總裁
          • 關鍵字: ARM  FinFET  

          三星14nm LPE FinFET電晶體揭密

          •   三星(Samsung)即將量產(chǎn)用于其Exynos 8 SoC的14奈米(nm) Low Power Plus (LPP)制程,這項消息持續(xù)引發(fā)一些產(chǎn)業(yè)媒體的關注。三星第二代14nm LPP制程為目前用于其Exynos 7 SoC與蘋果(Apple) A9 SoC的第一代14nm Low Power Early (LPE)制程提供了進一步的更新。   業(yè)界目前共有三座代工廠有能力制造這種鰭式場效電晶體(FinFET):英特爾(Intel)、三星 和臺積電(TSMC)。TechInsights曾經(jīng)在去年
          • 關鍵字: 三星  FinFET  

          5納米制程技術(shù)挑戰(zhàn)重重 成本之高超乎想象

          •   半導體業(yè)自28納米進步到22/20納米,受193i光刻機所限,必須采用兩次圖形曝光技術(shù)(DP)。再進一步發(fā)展至16/14納米時,大多采用finFET技術(shù)。如今finFET技術(shù)也一代一代升級,加上193i的光學技術(shù)延伸,采用SADP、SAQP等,所以未來到10納米甚至7納米時,基本上可以使用同樣的設備,似乎己無懸念,只是芯片的制造成本會迅速增加。然而到5納米時肯定是個坎,因為如果EUV不能準備好,就要被迫采用五次圖形曝光技術(shù)(FP),這已引起全球業(yè)界的關注。   而對于更先進5納米生產(chǎn)線來說,至今業(yè)界
          • 關鍵字: 5納米  finFET  

          應用材料:2016年晶圓廠設備支出有望擴增

          •         應用材料集團副總裁暨臺灣區(qū)總裁余定陸認為,在3D NAND和10奈米技術(shù)帶動下,今年晶圓代工資本支出有望回升。  應 用材料集團副總裁暨臺灣區(qū)總裁與全球半導體業(yè)務服務群跨區(qū)域總經(jīng)理余定陸表示,2015年看到這四年以來晶圓代工的資本支出進入谷底,預估今年投資水位有 望提升,而大部分支出將發(fā)生在下半年,其中有五成以上將集中于10奈米技術(shù);對晶圓代工來說,10奈米不同于16奈米,最顯著變化在于鰭式場效電晶體 (FinFET)
          • 關鍵字: 晶圓  FinFET  
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