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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償
- 北京時間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。 尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟?？柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)。” 當(dāng)前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機市場
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光刻機領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進水平，9nm線寬光刻實現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機被稱
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上海微電子與芯片制造設(shè)備廠商ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄
- 3月14日，上海微電子裝備(集團)股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領(lǐng)先的芯片制造設(shè)備的領(lǐng)先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進行采購的可能性。 “全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍圖進來一步縮小芯片尺寸，為商業(yè)和消費者用戶提供更性能更強但節(jié)能的電子組件。這一技術(shù)藍圖的有效執(zhí)行需要精密復(fù)雜的制造技術(shù)，這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機構(gòu)和院
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半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進發(fā)展，過去數(shù)十年來包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破，才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進，進而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進。 但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉？
- 日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來可能進行人事調(diào)整，以數(shù)位相機及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主，希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營。 根據(jù)報導(dǎo)，日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計劃，1970年代由官方與民間合作的結(jié)果，建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康，借其光學(xué)技術(shù)推出先進的曝光裝置，制造精密半導(dǎo)體的線路，是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國平起平坐的主因。 但是，1984年從荷蘭電機大廠飛利浦(Philips)獨立的ASML，由于積極與外界學(xué)校及廠商合作，
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ASML 10億歐元現(xiàn)金收購蔡司半導(dǎo)體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商阿斯麥(ASML) 和德國卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導(dǎo)體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購 Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán)，以強化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)方面的合作，發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng)，讓半導(dǎo)體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒有進一步股權(quán)交換的計劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長期策略合作伙伴，30 多年來，為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
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ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的問題：如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸，一面增加它們的性能。 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的過去發(fā)展均照著摩爾定律在走，這個由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增，且性能也會隨之提升。 不過，英特爾執(zhí)行長科再奇去年警告，經(jīng)過幾十年的快速發(fā)展，未來半導(dǎo)體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會出現(xiàn)過去那種進展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù)，能延后半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時間。主導(dǎo)ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
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ASML最先進EUV出貨，臺積電5納米有譜
- 全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來最昂貴的設(shè)備，一臺售價高達9,000 萬歐元(約新臺幣36億元)，這項設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進度，一直各界關(guān)注焦點。 臺積電共同執(zhí)行長暨劉德音表示，臺積電本季將會再增購一臺EUV設(shè)備，不過臺積電將會于5奈米制程才會導(dǎo)入生產(chǎn)
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ASML接獲設(shè)備大單 EUV微影商用進展邁大步
- 微影設(shè)備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機臺訂單，并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國一家主要客戶已簽屬協(xié)議書，將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統(tǒng)機臺，以支援不斷增加的制程開發(fā)活動和未來世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
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ASML估Q1營收未達標(biāo)
- 歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾控股公司(ASML Holding NV NL-ASML)預(yù)估第1季營收低于預(yù)期，并表示獲利能力將受到下一代極紫外光(EUV)系統(tǒng)訂單的箝制。 艾司摩爾今天在聲明稿中指出，預(yù)期2014年前3個月銷售凈額約14億歐元(18.8億美元)。相較之下，彭博社匯編12位分析師的預(yù)測均值為17.1億歐元。艾司摩爾預(yù)測毛利率42%左右，相較于調(diào)查預(yù)估中值42.5%。 艾司摩爾指出，首季利潤率預(yù)測包括EUV系統(tǒng)的負(fù)面影響，若不含EUV，利潤率將提高1.9個百分點。在
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為量產(chǎn)10nm制程鋪路 ASML攜手IMEC建置APC
- 艾司摩爾(ASML)與比利時微電子研究中心(IMEC)合作案再添一樁。雙方將共同設(shè)立先進曝光中心(Advanced Patterning Center, APC)，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突破10奈米(nm)以下先進奈米曝光制程技術(shù)關(guān)卡，讓微影(Lithography)技術(shù)及其設(shè)備更臻成熟，加速制程微縮技術(shù)的商用化。 ASML總裁暨執(zhí)行長Martin van den Brink表示，長期以來，該公司與IMEC的合作，已促成半導(dǎo)體制程發(fā)展不斷突破;而此次的合作案，預(yù)期將進一步加快先進奈米制程技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備
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