asml 文章 進(jìn)入asml技術(shù)社區(qū)
中國首臺(tái)ASML NXT2000i正式入駐SK海力士無錫工廠
- 12月19日晚間，中國首臺(tái)ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于無錫的工廠?！ ?jù)ASML證實(shí)，此次入駐SK海力士無錫工廠確為NXT2000i，也即NXT2000。ASML解釋道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機(jī)器。所以NXT2000即NXT2000i?！ ?jù)了解，無錫是SK海力士在中國的DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)基地，目前每月晶圓的產(chǎn)量約為14萬片?！ ⊥瑫r(shí)，SK海力士還成立了SK Hynix System IC公司，開始進(jìn)軍晶圓代工市場(chǎng)，同時(shí)增加100
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半導(dǎo)體設(shè)備廠商競爭格局生變？
- 半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商的排名在2016-2017年間沒有發(fā)生太大的變化，但是這種格局正在發(fā)生變化。不僅Lam Research、ASML和東京電子的位次發(fā)生調(diào)轉(zhuǎn)，排名第一的應(yīng)用材料公司的寶座位置也岌岌可危?！ ∽?990年以來，應(yīng)用材料公司一直是半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者。在此之前的1989年，坐在鐵王座位置上的還是日本的東京電子，該公司2016年排名第四，今年前三季度的新排名則是第二。除了位次的變化，也許更重要的是，領(lǐng)頭羊和第二名的差距正在迅速收窄?！ ?016年，應(yīng)用材料公司的市場(chǎng)份額比Lam
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國產(chǎn)光刻機(jī)真的這么厲害嗎？這些光刻機(jī)知識(shí)您得知道
- 近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗(yàn)收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國產(chǎn)光刻機(jī)偉大突破，國產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋! 關(guān)于光刻機(jī)，這些知識(shí)您得知道 光刻機(jī)不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復(fù)的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個(gè)多世紀(jì)前，美國人用這個(gè)原理“印刷”電路，從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。為了節(jié)能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機(jī)越做越極
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ASML內(nèi)部“霍亂”，中國晶圓廠成為“首發(fā)受害者”
- 11月30日晚上，荷蘭費(fèi)爾德霍芬的一個(gè)科技園區(qū)發(fā)生火災(zāi)，ASML的一家供應(yīng)商Prodrive遭受了重創(chuàng)，部分廠房與倉庫遭受波及。12月3日，ASML發(fā)表聲明稱：“Prodrive供應(yīng)ASML的部分電子元件和模組，ASML初步評(píng)估至2018年底的出貨計(jì)劃不變，但預(yù)期部分2019年初的出貨將受影響?！盇SML還表示需要幾周的時(shí)間詳細(xì)評(píng)估該事件對(duì)公司的影響。 ASML目前已開始協(xié)助Prodrive重啟生產(chǎn)，同時(shí)ASML也已與其他供應(yīng)商接洽，以確保相關(guān)組件和材料的替代來源供應(yīng)無虞?！ ?2月作為2018年最
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Imec與ASML聯(lián)手，EUV成主流技術(shù)工具
- 日前，有消息稱，比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)Imec和微影設(shè)備制造商ASML計(jì)劃成立一座聯(lián)合研究實(shí)驗(yàn)室，共同探索在后3nm邏輯節(jié)點(diǎn)的奈米級(jí)元件制造藍(lán)圖。此次雙方這項(xiàng)合作是一項(xiàng)為期五年計(jì)劃的一部份，分為兩個(gè)階段： 首先是開發(fā)并加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn)，包括最新的EUV設(shè)備準(zhǔn)備就緒?！ ∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤?shù)值孔徑(NA)的EUV微影技術(shù)潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級(jí)元件，從而推動(dòng)3nm以后的半導(dǎo)體微縮?！ O紫外光(EUV)微影技術(shù) EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長為10-14 nm的極紫外
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ASML看好中國市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華
- 中國集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題。 盡管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂觀?！ 〈饲坝邢⒅赋觯行緡H(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)明年交付，用于7nm節(jié)點(diǎn)?！ ⊥瑫r(shí)，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會(huì)在中國市場(chǎng)上也見到
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迫于美國政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國員工 ...
- 在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！ ≡诠饪虣C(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國這一年來加強(qiáng)了對(duì)中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！ ∪绻f半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說是皇冠上的明珠，因?yàn)楣饪虣C(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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Entegris EUV 1010光罩盒展現(xiàn)極低的缺陷率，已獲ASML認(rèn)證
- 業(yè)界領(lǐng)先的特種化學(xué)及先進(jìn)材料解決方案的公司Entegris(納斯達(dá)克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術(shù)進(jìn)行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設(shè)備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認(rèn)證，用于NXE:3400B等產(chǎn)品?！ ‰S著半導(dǎo)體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術(shù)進(jìn)行先進(jìn)技術(shù)制程的大批量制造(HVM)，對(duì)EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時(shí)候都要嚴(yán)格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝
- 據(jù)外媒報(bào)道，光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī))，可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)?！ XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充，畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！ ⊥瑫r(shí)，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！ SML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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ASML載具供應(yīng)商家登精密談中國EUV的發(fā)展，面臨諸多挑戰(zhàn)
- 載具對(duì)于曝光機(jī)發(fā)揮保護(hù)、運(yùn)送和存儲(chǔ)光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機(jī)載具，并為全球最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML提供載具相關(guān)技術(shù)。 我們主要研究EUV的配套技術(shù)，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進(jìn)階的突破口。隨著5nm技術(shù)的升級(jí)，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術(shù)產(chǎn)品已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)水平，這是一個(gè)值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級(jí)，技術(shù)的研究會(huì)越來越困難
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看好中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)騰飛，ASML南京分公司近日開業(yè)
- 據(jù)南京日?qǐng)?bào)報(bào)道，8月18日，全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)在南京的分公司正式開業(yè)。作為臺(tái)積電的重要合作伙伴及上游供應(yīng)商，該企業(yè)選擇落戶在南京江北新區(qū)研創(chuàng)園孵鷹大廈。 跟隨臺(tái)積電的步伐，ASML在南京的布局在一年前啟動(dòng)。去年11月考察江北新區(qū)研創(chuàng)園后，被園區(qū)前端的產(chǎn)業(yè)定位、創(chuàng)新的整體設(shè)計(jì)、完善的軟硬件配套所吸引。今年8月，ASML南京分公司完成了750平米辦公設(shè)施搭建，以及服務(wù)工程師、裝機(jī)工程師、應(yīng)用工程師等多職能覆蓋的團(tuán)隊(duì)組建。談及ASML未來對(duì)中國半導(dǎo)體市場(chǎng)前景的展望，該公司
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EUV需求看俏 ASML頻傳捷報(bào)
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財(cái)報(bào)。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機(jī)目前第二季已累積27臺(tái)訂單總計(jì)28億歐元。 ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。 ASML預(yù)估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛
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