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臺(tái)積電臺(tái)聯(lián)電分別拋出設(shè)備大訂單
- 日本東京電子(TEL)日前收到來(lái)自聯(lián)電的一筆后繼設(shè)備訂單，價(jià)值約為三千零五十萬(wàn)美元，這是TEL今年迄今為止收到的來(lái)自聯(lián)電的最大一筆設(shè)備訂單，TEL接獲來(lái)自聯(lián)電的上一筆訂單是在今年四月，價(jià)值為一千九百十萬(wàn)美元。
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體設(shè)備
ASML單價(jià)近一億美元EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)
- 2010年浸潤(rùn)式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問(wèn)題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨;不過(guò)，對(duì)于資金拮據(jù)的DRAM廠，1臺(tái)要價(jià)近1億美元的EUV機(jī)臺(tái)，將會(huì)是更大的資金挑戰(zhàn)，目前僅瑞晶下單訂購(gòu)1臺(tái)，藉以確保20納米工藝的參賽權(quán)?！?/li>
- 關(guān)鍵字： ASML EUV光刻機(jī)
荷蘭阿斯麥發(fā)布第四季度財(cái)報(bào)
- 歐洲最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商荷蘭阿斯麥控股公司(ASMLHolding NV)發(fā)布第四季度財(cái)報(bào)，由于2010年銷量創(chuàng)歷史記錄，其第四季度利潤(rùn)超過(guò)之前分析師預(yù)測(cè)。 阿斯麥報(bào)道稱，公司第四季度凈利潤(rùn)為4.07億歐元(5.49億美元)，而去年同期僅為5.05千萬(wàn)歐元。此前彭博社對(duì)11位分析師預(yù)測(cè)統(tǒng)計(jì)，平均預(yù)測(cè)其第四季度凈利潤(rùn)為3.258億歐元。此外，公司第四季度凈銷售額上升至15.2億歐元，高于此前預(yù)測(cè)的13.4億歐元。
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體設(shè)備
ASML高層看好明年半導(dǎo)體資本支出
- 道瓊社、Thomson Reuters報(bào)導(dǎo)，歐洲半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)龍頭ASML Holding NV財(cái)務(wù)長(zhǎng)Peter Wennink 19日在摩根士丹利年度科技媒體電信(TMT)大會(huì)上表示，明年度半導(dǎo)體業(yè)的資本支出將增加，該公司客戶的需求強(qiáng)勁使得前置時(shí)間達(dá)10個(gè)月。Wennink也預(yù)期明年度NAND市場(chǎng)將成長(zhǎng)，邏輯、晶圓銷售額將大幅擴(kuò)增，不過(guò)DRAM銷售額則將下滑。Wennink同時(shí)指出，將藉由買(mǎi)回自家股票與配發(fā)股利的方式把多余的現(xiàn)金返還股東。
- 關(guān)鍵字： ASML 半導(dǎo)體
沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺 臺(tái)系內(nèi)存芯片廠制程升級(jí)受阻
- 據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺，因此臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購(gòu)的這種設(shè)備的時(shí)間 可能會(huì)再后延12個(gè)月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對(duì)這些廠商轉(zhuǎn)移到38nm以上級(jí)別制程至關(guān)重要，因此預(yù)計(jì)臺(tái)系內(nèi)存芯片廠商制程轉(zhuǎn)換的進(jìn)度 會(huì)受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開(kāi)發(fā)的沉浸式光刻機(jī)，可用于制造12英寸32nm及以上級(jí)別制程的產(chǎn)品. 此前曾有報(bào)道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長(zhǎng)到了將近12個(gè)月，
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī) 內(nèi)存芯片
iSuppli警告：DRAM下半年供不應(yīng)求
- 市場(chǎng)研究業(yè)者iSuppli警告，由于動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存(DRAM)芯片的制造產(chǎn)能有限，DRAM市場(chǎng)下半年可能供不應(yīng)求。 分析師霍華德(Mike Howard)預(yù)期，今年DRAM芯片出貨量可望成長(zhǎng)49%，其中多數(shù)集中在下半年。他預(yù)測(cè)，今年第三、四季的DRAM芯片出貨量將分別比前一季成長(zhǎng)11%左右，由于增加的需求都集中在下半年，屆時(shí)供應(yīng)DRAM芯片的產(chǎn)能恐難以負(fù)荷。 iSuppli指出，有兩個(gè)問(wèn)題可能影響下半年的DRAM供應(yīng)量，甚至恐會(huì)造成供不應(yīng)求。首先，由于全球最大半導(dǎo)體微影工具供貨商艾斯摩爾
- 關(guān)鍵字： ASML DRAM
分析師稱ASML應(yīng)該對(duì)內(nèi)存芯片供不應(yīng)求負(fù)一定責(zé)任
- 對(duì)于內(nèi)存廠商來(lái)說(shuō)，已經(jīng)過(guò)去的2009年就像是一場(chǎng)噩夢(mèng)。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn)，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時(shí)間加長(zhǎng)，產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問(wèn)題。在本周三舉辦的Memcon會(huì)議上，一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問(wèn)題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問(wèn)題而引起，不過(guò)著名光刻設(shè)備制造商ASML則也在被指責(zé)之列。 ObjectiveAnalysis市調(diào)公司的分析師JimHandy認(rèn)為內(nèi)存市場(chǎng)的上揚(yáng)期恐怕不久便會(huì)結(jié)束，他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片市場(chǎng)將再度陷入供過(guò)于求的局面
- 關(guān)鍵字： ASML 內(nèi)存芯片 50nm
分析師：ASML是導(dǎo)致內(nèi)存芯片供不應(yīng)求局面的罪魁之一
- 對(duì)于內(nèi)存廠商來(lái)說(shuō)，已經(jīng)過(guò)去的2009年就像是一場(chǎng)噩夢(mèng)。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn)，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時(shí)間加 長(zhǎng)，產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問(wèn)題。在本周三舉辦的Memcon會(huì)議上，一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問(wèn)題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問(wèn)題而引起，不過(guò)著名光 刻設(shè)備制造商ASML則也在被指責(zé)之列。 Objective Analysis市調(diào)公司的分析師Jim Handy認(rèn)為內(nèi)存市場(chǎng)的上揚(yáng)期恐怕不久便會(huì)結(jié)束，他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片
- 關(guān)鍵字： ASML 內(nèi)存芯片
ASML整合微影方案獲意法采用
- 受惠于晶圓代工與DRAM廠推出先進(jìn)制程，對(duì)浸潤(rùn)式顯影機(jī)臺(tái)需求大增，讓半導(dǎo)體設(shè)備大廠艾斯摩爾(ASML)2010年接單暢旺，隨著半導(dǎo)體制程推進(jìn)5x奈米以下先進(jìn)制程，制程復(fù)雜度大增，亦需加緊提高量良率，讓ASML甫于2009年推出的整合微影技術(shù)(Holistic Lithography)系列產(chǎn)品，已獲得意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics)采用于28奈米制程。 ASML指出，隨著半導(dǎo)體制程推進(jìn)到50x奈米以下制程，業(yè)者投入的經(jīng)費(fèi)越來(lái)越高昂，生產(chǎn)時(shí)程亦拉得更長(zhǎng)，良率更難提升，制程容許度(p
- 關(guān)鍵字： ASML DRAM 晶圓代工
Sokudo早餐會(huì)上論光刻技術(shù)趨勢(shì)
- 在SEMICON West舉行的Sokudo光刻論壇上對(duì)于實(shí)現(xiàn)22nm的各類光刻技術(shù)的進(jìn)展、挑戰(zhàn)與未來(lái)市場(chǎng)前景進(jìn)行了熱烈的討論。 作為193nm光刻技術(shù)的接替者，ASML仍是全球EUV(遠(yuǎn)紫外光光刻機(jī)) 技術(shù)的領(lǐng)先供應(yīng)商。該公司的首臺(tái)NXE3100機(jī)器將如期發(fā)貨，目前正在作最后的組裝及測(cè)試。盡管如此，由于EUV技術(shù)中目前能提供的光源功率及掩模缺陷仍是此類技術(shù)的主要挑戰(zhàn)。另外，為了達(dá)到工業(yè)使用指標(biāo)急需投入大筆資金。 Nikon指出它仍繼續(xù)采用兩次圖形曝光方法來(lái)延伸193nm高NA(數(shù)值孔徑)
- 關(guān)鍵字： ASML 22nm 光刻
ASML Q2業(yè)績(jī)創(chuàng)新高 6套EUV設(shè)備將交貨
- ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達(dá)到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價(jià)值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項(xiàng)數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。 ASML總裁兼CEO Eric Meurice認(rèn)為，Q2銷售的強(qiáng)勁增長(zhǎng)證明了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近期對(duì)于光刻設(shè)備的需求，已有近20套NXT:1950i 設(shè)備運(yùn)出。所有ASML的先進(jìn)NXT光刻機(jī)都包括了一個(gè)或多個(gè)一體化光刻部件。對(duì)于下一代將要應(yīng)用于20nm以下節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品，E
- 關(guān)鍵字： ASML 光刻機(jī)
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