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          iSuppli警告:DRAM下半年供不應(yīng)求

          •   市場研究業(yè)者iSuppli警告,由于動態(tài)隨機(jī)存取內(nèi)存(DRAM)芯片的制造產(chǎn)能有限,DRAM市場下半年可能供不應(yīng)求。   分析師霍華德(Mike Howard)預(yù)期,今年DRAM芯片出貨量可望成長49%,其中多數(shù)集中在下半年。他預(yù)測,今年第三、四季的DRAM芯片出貨量將分別比前一季成長11%左右,由于增加的需求都集中在下半年,屆時(shí)供應(yīng)DRAM芯片的產(chǎn)能恐難以負(fù)荷。   iSuppli指出,有兩個問題可能影響下半年的DRAM供應(yīng)量,甚至恐會造成供不應(yīng)求。首先,由于全球最大半導(dǎo)體微影工具供貨商艾斯摩爾
          • 關(guān)鍵字: ASML  DRAM  

          分析師稱ASML應(yīng)該對內(nèi)存芯片供不應(yīng)求負(fù)一定責(zé)任

          •   對于內(nèi)存廠商來說,已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn),可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺,芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時(shí)間加長,產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上,一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問題而引起,不過著名光刻設(shè)備制造商ASML則也在被指責(zé)之列。   ObjectiveAnalysis市調(diào)公司的分析師JimHandy認(rèn)為內(nèi)存市場的上揚(yáng)期恐怕不久便會結(jié)束,他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片市場將再度陷入供過于求的局面
          • 關(guān)鍵字: ASML  內(nèi)存芯片  50nm  

          分析師:ASML是導(dǎo)致內(nèi)存芯片供不應(yīng)求局面的罪魁之一

          •   對于內(nèi)存廠商來說,已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn),可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺,芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時(shí)間加 長,產(chǎn)品價(jià)格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上,一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問題而引起,不過著名光 刻設(shè)備制造商ASML則也在被指責(zé)之列。     Objective Analysis市調(diào)公司的分析師Jim Handy認(rèn)為內(nèi)存市場的上揚(yáng)期恐怕不久便會結(jié)束,他并稱2011年中期或2012年間內(nèi)存芯片
          • 關(guān)鍵字: ASML  內(nèi)存芯片  

          ASML整合微影方案獲意法采用

          •   受惠于晶圓代工與DRAM廠推出先進(jìn)制程,對浸潤式顯影機(jī)臺需求大增,讓半導(dǎo)體設(shè)備大廠艾斯摩爾(ASML)2010年接單暢旺,隨著半導(dǎo)體制程推進(jìn)5x奈米以下先進(jìn)制程,制程復(fù)雜度大增,亦需加緊提高量良率,讓ASML甫于2009年推出的整合微影技術(shù)(Holistic Lithography)系列產(chǎn)品,已獲得意法半導(dǎo)體(STMicroelectronics)采用于28奈米制程。   ASML指出,隨著半導(dǎo)體制程推進(jìn)到50x奈米以下制程,業(yè)者投入的經(jīng)費(fèi)越來越高昂,生產(chǎn)時(shí)程亦拉得更長,良率更難提升,制程容許度(p
          • 關(guān)鍵字: ASML  DRAM  晶圓代工  

          Sokudo早餐會上論光刻技術(shù)趨勢

          •   在SEMICON West舉行的Sokudo光刻論壇上對于實(shí)現(xiàn)22nm的各類光刻技術(shù)的進(jìn)展、挑戰(zhàn)與未來市場前景進(jìn)行了熱烈的討論。   作為193nm光刻技術(shù)的接替者,ASML仍是全球EUV(遠(yuǎn)紫外光光刻機(jī)) 技術(shù)的領(lǐng)先供應(yīng)商。該公司的首臺NXE3100機(jī)器將如期發(fā)貨,目前正在作最后的組裝及測試。盡管如此,由于EUV技術(shù)中目前能提供的光源功率及掩模缺陷仍是此類技術(shù)的主要挑戰(zhàn)。另外,為了達(dá)到工業(yè)使用指標(biāo)急需投入大筆資金。   Nikon指出它仍繼續(xù)采用兩次圖形曝光方法來延伸193nm高NA(數(shù)值孔徑)
          • 關(guān)鍵字: ASML  22nm  光刻  

          Imec和ASML共同驗(yàn)證用于沉浸式光刻的新型照明系統(tǒng)

          •   Imec和ASML已合作驗(yàn)證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay,通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應(yīng)用價(jià)值。今年10月,imec使用的ASML XT:1900i掃描光刻設(shè)備將安裝FlexRay產(chǎn)品,幫助imec進(jìn)一步開拓沉浸式光刻技術(shù)的應(yīng)用。
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  

          ASML Q2業(yè)績創(chuàng)新高 6套EUV設(shè)備將交貨

          •   ASML日前宣布,其2010年Q2凈銷售達(dá)到1,069 million歐元,凈收入為239 million 歐元,Q2的凈訂單價(jià)值1,179 million 歐元,包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項(xiàng)數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。   ASML總裁兼CEO Eric Meurice認(rèn)為,Q2銷售的強(qiáng)勁增長證明了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設(shè)備的需求,已有近20套NXT:1950i 設(shè)備運(yùn)出。所有ASML的先進(jìn)NXT光刻機(jī)都包括了一個或多個一體化光刻部件。對于下一代將要應(yīng)用于20nm以下節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品,E
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  

          32nm制程用沉浸光刻設(shè)備客戶需求量劇增:ASML公司召回先前遭辭退員工

          •   據(jù)荷蘭ASML公司高管透露,由于最近半導(dǎo)體廠商對沉浸式光刻設(shè)備的需求量劇增,著名光刻廠商ASML公司最近重新召回了先前辭退的700名員工,同時(shí)還 招聘了數(shù)百名新員工,這名高管表示ASML公司還需要再增加300名員工,同時(shí)還預(yù)計(jì)公司將可保證各個客戶對光刻設(shè)備的訂單需求。   由于消費(fèi)電子設(shè)備以及PC市場對高密度芯片的需求在不斷上升,ASML公司的高管表示他預(yù)計(jì)他的客戶們在今明兩年不會碰上所生產(chǎn)的芯片產(chǎn)品供過于求的情況。   據(jù)ASML公司今年一季度公布的財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,這家光刻廠商今年一季度末的N
          • 關(guān)鍵字: ASML  32nm  光刻設(shè)備  

          聯(lián)電計(jì)劃發(fā)行12.98億新股募資190億新臺幣

          •   據(jù)臺灣媒體報(bào)道,聯(lián)電近日宣布,將發(fā)動公司成立30年來首次私募案。業(yè)界揣測,聯(lián)電將藉此引進(jìn)新策略伙伴,對象包括整合元件制造廠德儀 (TI)、設(shè)備大廠ASML,以及新崛起的同業(yè)Global Foundries(GF)等,再次挑戰(zhàn)臺積電。   半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)景氣佳,晶圓代工廠聯(lián)電積極擴(kuò)產(chǎn),南科12寸廠第3、4期廠房20日完工啟用。聯(lián)電董事會同時(shí)決議,辦理12.98億股額度私募增資案,換算相當(dāng)公司已發(fā)行股數(shù)的一成,每股面額10元。以聯(lián)電前天收盤價(jià)計(jì)算,最多可募得逾190億元資金。   聯(lián)電發(fā)言人劉啟東坦言,&
          • 關(guān)鍵字: 聯(lián)電  晶圓代工  ASML  Global Foundries  

          未來三年內(nèi)存價(jià)格將持續(xù)攀升

          •   DRAMeXchange傳來噩耗稱內(nèi)存芯片的價(jià)格在未來三年內(nèi)將持續(xù)走高。這家市場分析公司將內(nèi)存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右,據(jù)該公司的分析師表示,2001-2003年,內(nèi)存業(yè)者一直處在虧損期,而2004-2006年則恢復(fù)為持續(xù)盈利的狀態(tài),2007-2009年間則再度出現(xiàn)虧損期,因此他們預(yù)計(jì)從2010年開始,在全球經(jīng)濟(jì)危機(jī)緩和,Windows7日漸流行等因素的影響下,內(nèi)存業(yè)者將再度扭虧為盈,進(jìn)入新的一輪三年盈利期。   不過內(nèi)存業(yè)者仍然面臨另外一個重要的難題,他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻  內(nèi)存芯片  

          ASML第一季訂單大幅超越預(yù)期 對半導(dǎo)體行業(yè)復(fù)蘇抱信心

          •   荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商ASML日前公布,第一季營收為7.42億歐元,優(yōu)于路透調(diào)查得到的分析師預(yù)估值7.13億歐元。   第一季機(jī)器訂單總量為50部,總價(jià)值為10億歐元,路透調(diào)查預(yù)估分別為43部和10億歐元。   首席執(zhí)行官Eric Meurice在聲明中稱:“我們第一季訂單總值為10.04億歐元,預(yù)計(jì)第二季訂單水準(zhǔn)類似,這證實(shí)了半導(dǎo)體行業(yè)正處于上升周期。”   分析師將ASML訂單情況視作衡量芯片制造大企業(yè)預(yù)期的風(fēng)向標(biāo)。   第一季凈利為1.07億歐元,路透調(diào)查得到的分析
          • 關(guān)鍵字: ASML  半導(dǎo)體設(shè)備  芯片制造  

          ASML第一季訂單量繼續(xù)增長

          •   荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商ASML的訂單狀況顯示今年第一季情況繼續(xù)好轉(zhuǎn),投資者將詳細(xì)審視該公司業(yè)績,以尋找芯片行業(yè)結(jié)構(gòu)性復(fù)蘇的跡象。   分析師將該公司的訂單情況視作英特爾和臺積電等大型芯片生產(chǎn)商業(yè)績預(yù)估的風(fēng)向標(biāo)。   根據(jù)路透調(diào)查,第一季半導(dǎo)體光刻設(shè)備訂單料為43筆,多于前一季的40筆。   ASML是全球最大的光刻設(shè)備生產(chǎn)商,其競爭對手包括日本的Nikon和佳能。   分析師預(yù)計(jì)ASML第一季凈利為9,900萬歐元(1.324億美元),營收為7.13億歐元。15位分析師的營收預(yù)估范圍為5.90億
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻  

          去年光刻機(jī)市場銷量總體下跌47%

          •   據(jù) Information Network報(bào)道,繼2008年銷量下跌25%之后,2009年全球半導(dǎo)體光刻工具的銷量進(jìn)一步下跌了47%。按銷售數(shù)量計(jì)算,去年光刻工具的銷量總和下降了54%,其中248nm DUV光刻機(jī)的銷量下降的最嚴(yán)重,售出的數(shù)量下跌了70%。   去年光刻機(jī)銷售營收最高的是ASML公司,其所占的市場營收份額達(dá)到50%,而尼康公司則在銷售的光刻機(jī)數(shù)量方面保持領(lǐng)先,其售出的光刻機(jī)數(shù)量占到了總量的56%。而2008年,ASML公司則在銷售營收和銷售機(jī)臺數(shù)量上均排在頭名。
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻工具  

          半導(dǎo)體能支撐未來的發(fā)展

          •   相比于2009年今年全球半導(dǎo)體業(yè)的態(tài)勢好了許多,但是仍有少部分人提出質(zhì)疑,2010年有那么好嗎?即具備條件了嗎?   在今年1月由SEMI主辦的工業(yè)策略年會上(ISS),有些演講者表示一些擔(dān)憂,認(rèn)為雖然半導(dǎo)體業(yè)正在復(fù)蘇的路上,但是制造商們?nèi)匀鄙偌で?,不肯繼續(xù)大幅的投資,以及不太愿意重新擴(kuò)大招慕員工。   恐怕更大的擔(dān)心來自全球半導(dǎo)體業(yè)間的兼并與重組到來,以及產(chǎn)業(yè)能否支持得起22納米及以下技術(shù)的進(jìn)步。   IBS的CEO Handle Jones認(rèn)為,雖然工業(yè)正在復(fù)蘇,但是在半導(dǎo)體業(yè)運(yùn)營中仍面臨成
          • 關(guān)鍵字: ASML  半導(dǎo)體  EUV  

          臺積電取得ASML超紫外光微影設(shè)備以研發(fā)新世代工藝

          •   TSMC與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今日共同宣布,TSMC將取得ASML公司TWINSCAN™ NXE:3100 - 超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設(shè)備,是全球六個取得這項(xiàng)設(shè)備的客戶伙伴之一。   這項(xiàng)設(shè)備將安裝于TSMC的超大晶圓廠(GigaFab™)-臺積十二廠,用以發(fā)展新世代的工藝技術(shù)。TSMC也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專業(yè)集成電路制造服務(wù)業(yè)者。   相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術(shù)以193納米波長當(dāng)作光源,超
          • 關(guān)鍵字: 臺積電  EUV  微影設(shè)備  ASML  
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