EEPW首頁(yè) >>
主題列表 >>
asml
asml 文章 進(jìn)入asml技術(shù)社區(qū)
EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場(chǎng)供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財(cái)報(bào)。ASML第二季營(yíng)收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺(tái)EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺(tái)，總值高達(dá)28億歐元。 預(yù)估2017第三季營(yíng)收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因?yàn)槭袌?chǎng)需求和第二季的強(qiáng)勁財(cái)務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年?duì)I收成長(zhǎng)可達(dá)25%。 ASML總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)溫彼得指出:“ASML今年的主要營(yíng)收貢獻(xiàn)來(lái)自?xún)?nèi)存芯片客戶(hù)，尤其在DRAM市場(chǎng)需求的驅(qū)動(dòng)下，這部分的
- 關(guān)鍵字： EUV ASML
尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償
- 北京時(shí)間4月24日晚間消息，尼康今日宣布，已對(duì)荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥(ASML)和德國(guó)光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。 尼康稱(chēng)，已在荷蘭、德國(guó)和日本對(duì)阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟?？柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱(chēng)：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專(zhuān)利技術(shù)。” 當(dāng)前，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場(chǎng)
- 關(guān)鍵字： 尼康 ASML
光刻機(jī)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)接近世界先進(jìn)水平，9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開(kāi)幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡(jiǎn)稱(chēng)“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國(guó)的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機(jī)被稱(chēng)
- 關(guān)鍵字： 光刻機(jī) ASML
上海微電子與芯片制造設(shè)備廠商ASML簽署戰(zhàn)略合作備忘錄
- 3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(SMEE)宣布，與世界領(lǐng)先的芯片制造設(shè)備的領(lǐng)先廠商阿斯麥 (ASML) 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘ASML和SMEE將探索就ASML光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購(gòu)的可能性。 “全球IC行業(yè)都在積極尋求技術(shù)藍(lán)圖進(jìn)來(lái)一步縮小芯片尺寸，為商業(yè)和消費(fèi)者用戶(hù)提供更性能更強(qiáng)但節(jié)能的電子組件。這一技術(shù)藍(lán)圖的有效執(zhí)行需要精密復(fù)雜的制造技術(shù)，這只能靠各領(lǐng)先公司、研究機(jī)構(gòu)和院
- 關(guān)鍵字： SMEE ASML
半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計(jì)2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問(wèn)世以來(lái)，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進(jìn)發(fā)展，過(guò)去數(shù)十年來(lái)包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破，才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進(jìn)，進(jìn)而帶動(dòng)全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進(jìn)。 但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴(lài)于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進(jìn)行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺(tái)積電、英特爾(Intel)等
- 關(guān)鍵字： ASML EUV
尼康半導(dǎo)體曝光設(shè)備死于自我封閉？
- 日本光學(xué)及半導(dǎo)體設(shè)備大廠尼康(Nikon)未來(lái)可能進(jìn)行人事調(diào)整，以數(shù)位相機(jī)及半導(dǎo)體設(shè)備事業(yè)為主，希望轉(zhuǎn)型重建企業(yè)經(jīng)營(yíng)。 根據(jù)報(bào)導(dǎo)，日本半導(dǎo)體事業(yè)始于日本政府的產(chǎn)業(yè)計(jì)劃，1970年代由官方與民間合作的結(jié)果，建立了從半導(dǎo)體設(shè)備到半導(dǎo)體生產(chǎn)線的完整事業(yè)。當(dāng)時(shí)名為日本光學(xué)工業(yè)的尼康，借其光學(xué)技術(shù)推出先進(jìn)的曝光裝置，制造精密半導(dǎo)體的線路，是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在1980~1990年代與美國(guó)平起平坐的主因。 但是，1984年從荷蘭電機(jī)大廠飛利浦(Philips)獨(dú)立的ASML，由于積極與外界學(xué)校及廠商合作，
- 關(guān)鍵字： 尼康 ASML
ASML 10億歐元現(xiàn)金收購(gòu)蔡司半導(dǎo)體24.9%股份
- 全球芯片光刻技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商阿斯麥(ASML) 和德國(guó)卡爾蔡司 (ZEISS) 旗下的蔡司半導(dǎo)體有限公 司 (Carl Zeiss SMT) 11月3日共同宣布，由 ASML以10億歐元現(xiàn)金收購(gòu) Carl Zeiss SMT的24.9%股權(quán)，以強(qiáng)化雙方在半導(dǎo)體光刻技術(shù)方面的合作，發(fā)展下一代EUV光刻系統(tǒng)，讓半導(dǎo)體行業(yè)得以用更低的成本制造更高效能的微芯片。目前雙方并沒(méi)有進(jìn)一步股權(quán)交換的計(jì)劃。 Carl Zeiss SMT是ASML最重要的長(zhǎng)期策略合作伙伴，30 多年來(lái)，為ASML的光刻設(shè)備提供最關(guān)火鍵
- 關(guān)鍵字： ASML 蔡司
ASML新技術(shù) 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)所面臨的問(wèn)題：如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸，一面增加它們的性能。 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的過(guò)去發(fā)展均照著摩爾定律在走，這個(gè)由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出，每隔兩年，晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增，且性能也會(huì)隨之提升。 不過(guò)，英特爾執(zhí)行長(zhǎng)科再奇去年警告，經(jīng)過(guò)幾十年的快速發(fā)展，未來(lái)半導(dǎo)體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會(huì)出現(xiàn)過(guò)去那種進(jìn)展。 ASML則相信自家突破性的技術(shù)，能延后半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時(shí)間。主導(dǎo)ASML相關(guān)業(yè)務(wù)的梅靈
- 關(guān)鍵字： ASML 摩爾定律
ASML最先進(jìn)EUV出貨，臺(tái)積電5納米有譜
- 全球半導(dǎo)體微影技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布，在臺(tái)積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下，最先進(jìn)的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成，本季底前將完成三臺(tái)最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱(chēng)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展以來(lái)最昂貴的設(shè)備，一臺(tái)售價(jià)高達(dá)9,000 萬(wàn)歐元(約新臺(tái)幣36億元)，這項(xiàng)設(shè)備也是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向更先進(jìn)制程發(fā)展最關(guān)鍵設(shè)備，因此發(fā)展進(jìn)度，一直各界關(guān)注焦點(diǎn)。 臺(tái)積電共同執(zhí)行長(zhǎng)暨劉德音表示，臺(tái)積電本季將會(huì)再增購(gòu)一臺(tái)EUV設(shè)備，不過(guò)臺(tái)積電將會(huì)于5奈米制程才會(huì)導(dǎo)入生產(chǎn)
- 關(guān)鍵字： ASML 臺(tái)積電
ASML接獲設(shè)備大單 EUV微影商用進(jìn)展邁大步
- 微影設(shè)備制造商ASML近期宣布，接獲美國(guó)一家主要客戶(hù)十五部EUV機(jī)臺(tái)訂單，并將于今年底開(kāi)始陸續(xù)出貨;同時(shí)間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術(shù)的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術(shù)發(fā)展大有斬獲。半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)日前公開(kāi)宣布，該公司與美國(guó)一家主要客戶(hù)已簽屬協(xié)議書(shū)，將提供至少十五臺(tái)的最新一代EUV微影系統(tǒng)機(jī)臺(tái)，以支援不斷增加的制程開(kāi)發(fā)活動(dòng)和未來(lái)世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
- 關(guān)鍵字： ASML 微影系統(tǒng)
asml介紹
您好，目前還沒(méi)有人創(chuàng)建詞條asml!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對(duì)asml的理解，并與今后在此搜索asml的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對(duì)asml的理解，并與今后在此搜索asml的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
asml專(zhuān)欄文章
關(guān)于我們 -
廣告服務(wù) -
企業(yè)會(huì)員服務(wù) -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機(jī)EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產(chǎn)品世界》雜志社 版權(quán)所有 北京東曉國(guó)際技術(shù)信息咨詢(xún)有限公司
京ICP備12027778號(hào)-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473