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ASML新技術 搶救摩爾定律
- 荷商艾司摩爾(ASML)可能有辦法解決全球半導體產(chǎn)業(yè)所面臨的問題:如何一面讓晶片保持現(xiàn)有尺寸,一面增加它們的性能。 半導體產(chǎn)業(yè)的過去發(fā)展均照著摩爾定律在走,這個由英特爾共同創(chuàng)辦人摩爾于1965年首度提出的定律指出,每隔兩年,晶片制造商就能使傳統(tǒng)微處理器的電晶體數(shù)目倍增,且性能也會隨之提升。 不過,英特爾執(zhí)行長科再奇去年警告,經(jīng)過幾十年的快速發(fā)展,未來半導體業(yè)每隔兩年半業(yè)才會出現(xiàn)過去那種進展。 ASML則相信自家突破性的技術,能延后半導體產(chǎn)業(yè)步入衰敗期的時間。主導ASML相關業(yè)務的梅靈
- 關鍵字: ASML 摩爾定律
ASML最先進EUV出貨,臺積電5納米有譜
- 全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)昨(20)日宣布,在臺積電(2330)、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下,最先進的極紫外光(EUV)已連續(xù)四周平均妥善率逾八成,本季底前將完成三臺最新的EUV系統(tǒng)出貨。 EUV堪稱半導體設備發(fā)展以來最昂貴的設備,一臺售價高達9,000 萬歐元(約新臺幣36億元),這項設備也是半導體產(chǎn)業(yè)向更先進制程發(fā)展最關鍵設備,因此發(fā)展進度,一直各界關注焦點。 臺積電共同執(zhí)行長暨劉德音表示,臺積電本季將會再增購一臺EUV設備,不過臺積電將會于5奈米制程才會導入生產(chǎn)
- 關鍵字: ASML 臺積電
ASML接獲設備大單 EUV微影商用進展邁大步
- 微影設備制造商ASML近期宣布,接獲美國一家主要客戶十五部EUV機臺訂單,并將于今年底開始陸續(xù)出貨;同時間,日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司,致力生產(chǎn)EUV微影所需的光阻劑,為EUV微影技術的商用發(fā)展揭橥新的里程碑。 極紫外光微影(EUV Lithography)技術發(fā)展大有斬獲。半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布,該公司與美國一家主要客戶已簽屬協(xié)議書,將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統(tǒng)機臺,以支援不斷增加的制程開發(fā)活動和未來世代制程的試量產(chǎn)。 雙方交易
- 關鍵字: ASML 微影系統(tǒng)
ASML:量產(chǎn)型EUV機臺2015年就位
- 極紫外光(EUV)微影技術將于2015年突破量產(chǎn)瓶頸。傳統(tǒng)浸潤式微影技術在半導體制程邁入1x奈米節(jié)點后將面臨物理極限,遂使EUV成為產(chǎn)業(yè)明日之星。設備供應商艾司摩爾(ASML)已協(xié)同比利時微電子研究中心(IMEC)和重量級晶圓廠,合力改良EUV光源功率與晶圓產(chǎn)出速度,預計2015年可發(fā)布首款量產(chǎn)型EUV機臺。 ASML亞太區(qū)技術行銷協(xié)理鄭國偉提到,ASML雖也同步投入E-Beam基礎研究,但目前對相關設備的開發(fā)計劃仍抱持觀望態(tài)度。 ASML亞太區(qū)技術行銷協(xié)理鄭國偉表示,ASML于2012年
- 關鍵字: ASML EUV
半導體設備大廠ASML上季報喜 歐芯片股慶賀
- 歐洲半導體設備大廠荷商艾司摩爾(ASML)上季營收凈利雙雙優(yōu)于預測,并且維持今年前景看法,帶動市場看好芯片業(yè)將展現(xiàn)復蘇預期,推升歐洲芯片股周四大漲。 艾司摩爾周四大漲4.85%至55.1歐元,在歐洲科技指數(shù)SX8P中表現(xiàn)居冠,德國芯片業(yè)者英飛凌(Infineon)躍升2.6%至5.58歐元,為漲幅第二大成份股。 艾司摩爾上季財報周三揭曉,營收年減29%至8.92億歐元,稅前息前凈利年減66%至1.07億歐元,盡管數(shù)據(jù)皆向下衰退,但雙雙優(yōu)于市場預期。 艾司摩爾預估本季營收約達11億歐元
- 關鍵字: ASML 半導體設備
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