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	nxe:3800e euv
          

          
	
          
    	
          
    	  	
          
              	
                                
          
                  

                                
          
                    
          Brewer Science 為領(lǐng)先制造廠商提供關(guān)鍵性的半導(dǎo)體材料
          
                                                            
            
                    	
          • 　　Brewer Science, Inc. 很榮幸宣布參加 2017 年的 SEMICON Taiwan。公司將與業(yè)界同仁交流臺灣半導(dǎo)體制造趨勢的見解，內(nèi)容涵蓋前端和后端的材料，以及次世代制造的流程步驟?！　〗袢盏南M性電子產(chǎn)品、網(wǎng)絡(luò)、高效能運算 (HPC) 和汽車應(yīng)用皆依賴封裝為小型尺寸的半導(dǎo)體裝置，其提供更多效能與功能，同時產(chǎn)熱更少且操作時更省電。透過摩爾定律推動前端流程開發(fā)，領(lǐng)先的代工和整合組件制造商(IDM
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                        晶圓  EUV                           
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          張忠謀：臺積電南京廠明年下半量產(chǎn)
          
                                                            
            
                    	
          • 　　臺積電(2330)南京廠今日上午正式舉行進機典禮，由董事長張忠謀親自主持，大陸中央及地方貴賓云集，顯示對臺積電南京投資案重視。
　　海思及聯(lián)發(fā)科將是首批客戶
　　張忠謀表示，大陸集成電路在中國制造，臺積電可助一臂之力。 南京廠預(yù)計2018年下半年量產(chǎn)，陸媒預(yù)估中國海思及聯(lián)發(fā)科(2454)將是首批客戶。
　　工程師已陸續(xù)由臺灣進駐
　　今年上半年臺積電工程師已經(jīng)陸續(xù)由臺灣進駐南京廠協(xié)助建廠事宜，8月16奈米大型機臺陸續(xù)透過華航包機，由臺灣運往南京祿口機場，而南京市政府為了迎接重量級貴賓，加快浦口
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                        臺積電  EUV                          
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          臺積30周年：半導(dǎo)體八巨頭將同臺，庫克沒來
          
                                                            
            
                    	
          • 　　晶圓代工龍頭臺積電將在今年10月23日盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，以及于國家音樂廳舉辦音樂會。 臺積電30周年慶活動將由當(dāng)天下午舉行的半導(dǎo)體論壇揭開序幕，由董事長張忠謀親自主持，將邀請包括高通、博通、輝達(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、蘋果等重量級客戶及合作伙伴， 與張忠謀一起暢談半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來10年展望。
　　臺積電今年歡度30周年，活動當(dāng)天將盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，由董事長張忠謀親自主持，與談人包括了NVIDIA執(zhí)行長黃仁勛、高通執(zhí)行長Steve Mollenko
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                        臺積電  EUV                          
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          7nm大戰(zhàn)在即 買不到EUV光刻機的大陸廠商怎么辦？
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 對于7nm制程工藝，三星和臺積電兩大晶圓代工領(lǐng)域巨頭都早已入手布局以便爭搶IC設(shè)計業(yè)者們的訂單。
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                        7nm  EUV                          
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          KLA-Tencor宣布推出針對光學(xué)和EUV 空白光罩的全新FlashScanTM產(chǎn)品線
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　今天，KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*檢測產(chǎn)品線。自從1978年公司推出第一臺檢測系統(tǒng)以來，KLA-Tencor一直是圖案光罩檢測的主要供應(yīng)商，新的FlashScan產(chǎn)品線宣告公司進入專用空白光罩的檢驗市場。光罩坯件制造商需要針對空白光罩的檢測系統(tǒng)，用于工藝開發(fā)和批量生產(chǎn)過程中的缺陷檢測，此外，光罩制造商(“光罩廠”)為了進行光罩原料檢測，設(shè)備監(jiān)控和進程控制也需要購買該檢測系統(tǒng)。 FlashScan系統(tǒng)可以檢查針對光學(xué)或極紫外(EUV)光刻的空白光罩?！?/li>
                    	                        
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                        KLA-Tencor  EUV                           
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          首先采用EUV光刻工藝 三星半導(dǎo)體代工優(yōu)劣勢分析
          
                                                            
            
                    	
          • 　　張忠謀曾比喻說：“三星是一只700磅的大猩猩”，表示它十分強悍。然而在現(xiàn)階段的代工業(yè)中三星尚是“新進者”，需要時間的積累。
　　01、引言
　　據(jù)IC Insight公布的今年Q2數(shù)據(jù)，三星半導(dǎo)體依158億美元，同比增長46.5%，超過英特爾而居首。
　　全球半導(dǎo)體三足鼎立，英特爾、臺積電、三星各霸一方，近期內(nèi)此種態(tài)勢恐怕難以有大的改變，但是一定會此消彼長，無論哪家在各自領(lǐng)域內(nèi)都面臨成長的煩惱。
　　然而在三家之中三星謀求改變的勢頭最猛，而臺積電
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          • 關(guān)鍵字：
                        三星  EUV                          
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          EUV需求看俏 ASML頻傳捷報
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財報。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機目前第二季已累積27臺訂單總計28億歐元。

　　ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。
　　ASML預(yù)估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛
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                        ASML  EUV                          
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          EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。
　　預(yù)估2017第三季營收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強勁財務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年營收成長可達25%。
　　ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻來自內(nèi)存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅(qū)動下，這部分的
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          • 關(guān)鍵字：
                        EUV  ASML                          
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          三星領(lǐng)先臺積電引入7納米EUV技術(shù)，今年代工市場欲超車聯(lián)電
          
                                                            
            
                    	
          • 　　據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道，7月11日，韓國三星電子在首爾舉行的說明會上，向客戶等各方介紹了半導(dǎo)體代工業(yè)務(wù)的技術(shù)戰(zhàn)略。新一代7納米半導(dǎo)體將采用最尖端的制造技術(shù)，從2018年開始量產(chǎn)。此次說明會上，三星展示了發(fā)展藍圖，記載了決定性能好壞的電路線寬的微細化進程。三星表示，采用“極紫外光刻(EUV光刻)”新技術(shù)的7納米產(chǎn)品計劃從2018年開始接單，5納米產(chǎn)品和4納米產(chǎn)品分別將從2019年和2020年開始接單。EUV能大幅提高電路形成工序的效率，7納米以下的產(chǎn)品曾被認(rèn)為難以實現(xiàn)商用化，而EUV是
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          • 關(guān)鍵字：
                        三星  EUV                          
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          延續(xù)摩爾定律 EUV技術(shù)角色關(guān)鍵
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　臺積電已宣布將在2018年第二代7奈米制程中開始導(dǎo)入EUV微影技術(shù)，以做為5奈米全面采用EUV的先期準(zhǔn)備。 盡管目前EUV設(shè)備曝光速度仍不如期待且價格極為高昂，但與采用雙重或多重曝光技術(shù)相比，EUV的投資對解決先進制程不斷攀升的成本問題仍是相對有力的解決方案。
　　每一季的臺積電法說會上，張忠謀董事長或是共同執(zhí)行長對于極紫外光(Extreme Ultraviolet, EUV)的發(fā)展進度必會對臺下觀眾做一專門的報告，法人代表對于EUV的導(dǎo)入時程亦表示高度興趣。 到底EUV的發(fā)展對于臺積電未來發(fā)展甚至
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          • 關(guān)鍵字：
                        摩爾定律  EUV                          
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          摩爾定律唯一規(guī)則：永遠不要說不可能
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 　　摩爾定律在過去52年中一直是“更小，更快，更便宜”的代名詞，但越來越多的人認(rèn)為它只是諸多選擇之一，芯片行業(yè)開始針對特定的市場需求進行調(diào)整。
　　這并沒有使得摩爾定律失去意義。眾多行業(yè)人士透露，從16/14nm沖擊7nm的公司數(shù)量要多于直接沖擊16/14nm finFET的公司。但是，這種遷移也需要考慮到：
　　· 當(dāng)代工廠利用16/14nm finFET進行相同度量時，節(jié)點命名在20nm之后就變得無意義。因此，對于10nm或7nm并沒有一致的定義。更有價值的數(shù)
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          • 關(guān)鍵字：
                        摩爾定律  EUV                          
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          7nm爭奪戰(zhàn)即將打響 EUV是否夠成熟？
          
                                                            
            
                    	
          • 在先進制程方面，玩得起的顯然只剩寥寥可數(shù)的那幾個大玩家，7nm是一個重要的節(jié)點。
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          • 關(guān)鍵字：
                        7nm  EUV                          
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          KLA-Tencor 快速有效解決客戶良率問題 與中國半導(dǎo)體行業(yè)一同成長
          
                                                            
            
                    	
          • 　　看好中國半導(dǎo)體行業(yè)未來持續(xù)的蓬勃發(fā)展，工藝控制與成品率管理解決方案提供商KLA-Tencor (科天)透過半導(dǎo)體檢測與量測技術(shù)，以最快的速度及最有效的方式 ，幫助客戶解決在生產(chǎn)時面對的良率問題。KLA-Tencor立志于幫助中國客戶一起提升良率，降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率，并與中國半導(dǎo)體行業(yè)一同成長?！　LA-Tencor中國區(qū)總裁張智安表示，KLA-Tencor成立至今40年，現(xiàn)于全球17國擁有6000多位員工。2016財年，KLA-Tencor營收表現(xiàn)來到30億美元。從硅片檢
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          • 關(guān)鍵字：
                        KLA-Tencor  EUV                          
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          半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計2018年可用于量產(chǎn)
          
                                                            
            
                    	
          • 　　摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進發(fā)展，過去數(shù)十年來包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破，才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進，進而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進。
　　但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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          • 關(guān)鍵字：
                        ASML  EUV                           
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          半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中重要一環(huán) EUV光刻最新進展如何
          
                                                            
            
                    	
          • 　　ASML宣稱它的Q2收到4臺EUV訂單，預(yù)期明年EUV發(fā)貨達10臺以上。
　　EUV光刻設(shè)備一再延遲，而最新消息可能在2020年時能進入量產(chǎn)，而非?？赡軕?yīng)用在5nm節(jié)點。
　　業(yè)界預(yù)測未來在1znm的存儲器生產(chǎn)中可能會有2層或者以上層會采用它，及在最先進制程節(jié)點(7 or 5nm)的邏輯器件生產(chǎn)中可能會有6-9層會使用它。
　　ASML計劃2018年時它的EUV設(shè)備的產(chǎn)能再擴大一倍達到年產(chǎn)24臺，每臺售價約1億美元，目前芯片制造商己經(jīng)安裝了8臺，正在作各種測試。
　　半導(dǎo)體顧問公司的分析師Ro
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          • 關(guān)鍵字：
                        半導(dǎo)體  EUV                          
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          nxe:3800e euv介紹
          
      			
          
		      	
          
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