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          傳聞稱蘋果M3芯片預(yù)計采用臺積電N3E工藝制造

          作者:陳玲麗編譯 時間:2023-04-13 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

          最新消息稱,除了iPhone 15系列所搭載的A17之外,新款MacBook Air、iPad Air/Pro預(yù)計將采用制造的,這些搭載新的產(chǎn)品可能會分別在今年下半年和明年上半年陸續(xù)推出。

          本文引用地址:http://www.ex-cimer.com/article/202304/445572.htm

          此前,有報道稱新款15英寸MacBook Air將采用與2022年13英寸MacBook Pro一起推出的M2。然而,據(jù)爆料稱新款MacBook Air可能會搭載處理器性能,相比于M2 Max提升24%(單核)和6%(多核),但可能無緣在6月6日的蘋果WWDC開發(fā)者大會上首秀。

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          如今,蘋果公司正在努力開發(fā)其下一代芯片 —— 芯片。此前,有傳言稱蘋果的M3芯片將采用的3nm或者N3制造。然而,新的報道表明,該芯片將采用制造。

          工藝被認(rèn)為是N3工藝的改進(jìn)迭代,是更先進(jìn)的3nm工藝。與常規(guī)的N3工藝相比,N3E工藝制造的芯片可能會有更好的功耗和性能表現(xiàn),同時也能夠?qū)崿F(xiàn)更高的晶體管密度。

          相比N5同等性能和密度下,N3E工藝能夠?qū)崿F(xiàn)功耗降低34%、同等功耗和密度下性能提升18%,同時還能將晶體管密度提升60%,從而提高芯片的集成度和性能。

          媒體指出,蘋果將是第一個使用N3E工藝節(jié)點(diǎn)的客戶,它將在下一代MacBook Air和iPad Pro搭載的M3芯片上使用該工藝節(jié)點(diǎn)。

          但是,就目前的進(jìn)度來看,M3處理器不太可能會早于A17處理器推出。這意味著,15寸MacBook Air很可能會在iPhone 15系列之后才會推出,其首秀也就無緣于即將到來的蘋果WWDC開發(fā)者大會。

          其實(shí)回顧這幾年,蘋果A系列芯片早已經(jīng)放緩性能升級的腳步,但還是在筆記本芯片領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力。繼自研的A系列芯片取代三星芯片之后,蘋果再次掏出性能震驚眾人的M系列芯片,全面替代英特爾處理器?;贏RM架構(gòu)的M系列芯片實(shí)際上并不只是一顆處理器,而是一塊系統(tǒng)級芯片。

          但對于蘋果用戶而言,今年的蘋果產(chǎn)品在硬件層面上將全面領(lǐng)先安卓陣營一年,因?yàn)楦咄ê吐?lián)發(fā)科最快將于明年開始部署3nm工藝制程。工藝制程的進(jìn)步一方面可以降低芯片功耗與發(fā)熱,另一方面也能極大提升芯片性能,尤其是目前受到用戶吐槽的M2系列芯片,性能提升過小的問題或?qū)⒃谙乱淮鶰3系列芯片中得到解決。

          據(jù)報道,蘋果已經(jīng)訂購了臺積電今年幾乎所有的3nm產(chǎn)能,預(yù)計今年第二季度末開始試生產(chǎn),第三季度開始全面生產(chǎn)。在3nm制程加強(qiáng)版上,臺積電表示其研發(fā)成果也要優(yōu)于預(yù)期。

          據(jù)科技網(wǎng)站elchapuzas報道,投行摩根斯坦利日前走訪半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,得知臺積電即將完成其改進(jìn)版3nm工藝N3E的開發(fā),最早將于本月底實(shí)現(xiàn)工藝規(guī)范凍結(jié),基于N3E工藝的產(chǎn)品大規(guī)模量產(chǎn)或?qū)⒃?023年第二季度實(shí)現(xiàn),較此前規(guī)劃提早一個季度。

          N3技術(shù)節(jié)點(diǎn)

          N3系列節(jié)點(diǎn)包括N3B、N3E、N3P、N3X和N3S,其中許多是針對特定目的優(yōu)化的小節(jié)點(diǎn),但有所不同。N3B即原來的N3,與N3E無關(guān),與其將其視為nodelet,不如將其視為一個完全不同的節(jié)點(diǎn)。

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          由于N3B未能達(dá)到臺積電的性能、功率和產(chǎn)量目標(biāo),因此開發(fā)了N3E,其目的是修復(fù)N3B的缺點(diǎn)。N3E工藝試產(chǎn)良率遠(yuǎn)高于N3B,在減少4層EUV掩膜的情況下,邏輯電路密度僅較原先的N3工藝下降8%,較5nm節(jié)點(diǎn)仍有60%的提升。

          N3E第一個重大變化是金屬間距略有放松。臺積電沒有在M0、M1和M2金屬層上使用多重圖案化EUV,而是退縮并切換到單一圖案化。

          這是在保持功率和性能數(shù)據(jù)相似的同時實(shí)現(xiàn)的,邏輯密度也略有下降。此外,使用標(biāo)準(zhǔn)單片芯片(50% 邏輯 + 30% SRAM + 20% 模擬),密度僅增加1.3倍。

          N3P將是N3E的后續(xù)節(jié)點(diǎn)。它與N5P非常相似,通過優(yōu)化提供較小的性能和功率增益,同時保持IP兼容性;N3X則與N4X類似,并針對非常高的性能進(jìn)行了優(yōu)化。到目前為止,功率、性能目標(biāo)和時間表尚未公布。

          N3S是最終公開的變體,據(jù)說是密度優(yōu)化的節(jié)點(diǎn)。目前知道的不多,但有一些謠言:Angstronomics認(rèn)為這可能是一個單鰭庫,可以讓臺積電進(jìn)一步縮小單元高度。由于金屬堆疊的限制因素,這可能會受到限制,但設(shè)計會盡可能使用它 —— N3S甚至可能實(shí)施背面供電網(wǎng)絡(luò)來緩解許多金屬堆疊問題,盡管這尚未得到證實(shí)。

          作為臺積電的最后一個FinFET節(jié)點(diǎn),N3E及其后續(xù)節(jié)點(diǎn)有機(jī)會獲得與臺積電最成功的節(jié)點(diǎn)之一N28類似的地位。鑒于其動蕩的歷史,這將是一項艱巨的任務(wù),但臺積電已經(jīng)多次證明了自己的能力,尤其是在其生態(tài)系統(tǒng)方面。



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