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          等離子處理提高65nm邏輯器件可靠性
          
						
          
				作者：
				時間：2009-05-20
				來源：網(wǎng)絡(luò)
				
				
				
				
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          等離子預(yù)處理作用

           為了了解等離子處理對Cu/SiN界面的作用，在PECVD系統(tǒng)中于淀積SiN體薄膜前有和沒有預(yù)處理情況下淀積SiN薄膜。通過用SIMS測量Cu和SiN界面污染，研究等離子預(yù)處理的作用。實驗數(shù)據(jù)說明，淀積SiN體薄膜前用NH3處理可顯著減少Cu和SiN界面處的O和C含量（圖3）。增加預(yù)處理時間也可使O和C含量減少，見圖4和圖5，這表明NH3預(yù)處理是去除有機污染和減少到Cu的Cu-O的有效方法。
           
				
            
          
                
			
							
          
                
			            
                            
              
            
          
		
          
		
          
		
          
		
          
		
          
			
            
				
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