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          ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機引入部分 High-NA 機型技術
          
                                                            
            
                    	
          • 3 月 27 日消息，據荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術，運行效率得以提升。根據IT之家之前報道，NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝，可實現 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術 High-NA（高數值孔徑） EUV 采用了更寬的光錐，這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬，會導致影響晶圓吞吐量的光損失。
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          • 關鍵字：
                        ASM  NXE:3800E EUV  光刻機  High-NA                          
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          ASML正計劃搬離荷蘭？向外擴張轉移業(yè)務成為最優(yōu)解
          
                                                            
                                        
            
                    	
          • 據路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內陸網絡，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經濟高度依賴國際貿易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
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          • 關鍵字：
                        ASML  荷蘭  EUV  佳能  光刻機                          
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          韓國芯片巨頭SK海力士計劃升級在華工廠
          
                                                            
            
                    	
          • 據韓媒報道，韓國芯片巨頭SK海力士準備打破美國對華極紫外（EUV）光刻機出口相關限制，對其中國半導體工廠進行技術提升改造。這被外界解讀為，隨著半導體市場的復蘇以及中國高性能半導體制造能力提升，一些韓國芯片企業(yè)準備采取一切可以使用的方法來提高在華工廠制造工藝水平。韓國《首爾經濟》13日的報道援引韓國業(yè)內人士的話稱，SK海力士計劃今年將其中國無錫工廠的部分動態(tài)隨機存取存儲器（DRAM）生產設備提升至第四代10納米工藝。對于“無錫工廠將技術升級”的消息，SK海力士方面表示“無法確認工廠的具體運營計劃”。無錫工廠
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          • 關鍵字：
                        SK海力士  芯片  EUV                          
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          英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機？
          
                                                            
                    
          
                
          
                                
          
                    
          英特爾拿下首套High-NA EUV，臺積電如何應對？
          
                                                            
            
                    	
          • 英特爾（intel）近日宣布，已經接收市場首套具有0.55數值孔徑（High-NA）的ASML極紫外（EUV）光刻機，預計在未來兩到三年內用于 intel 18A 工藝技術之后的制程節(jié)點。 相較之下，臺積電則采取更加謹慎的策略，業(yè)界預計臺積電可能要到A1.4制程，或者是2030年之后才會采用High-NA EUV光刻機。業(yè)界指出，至少在初期，High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA 
EUV，這也是臺積電暫時觀望的原因，臺積電更傾向于采用成本更低的成熟技術，以確保產品競爭力。Hig
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          • 關鍵字：
                        英特爾  High-NA EUV  臺積電                          
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          ASML兩款光刻機出口許可被撤銷
          
                                                            
            
                    	
          • 1月2日，全球光刻機龍頭ASML在官網發(fā)布聲明稱，荷蘭政府最近撤銷了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證，這將對ASML在中國內地的個別客戶產生影響。在聲明中，ASML表示：“在新的出口管制條例下，今年（指2023年）年底前ASML仍能履行已簽訂的合同，發(fā)運這些光刻設備?？蛻粢惨阎こ隹诠苤茥l例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發(fā)運這些設備的出口許可證?！鳖A計此次出口許可證撤銷及最新的美國出口管制限制不會對公司2023
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          • 關鍵字：
                        ASML  光刻機  DUV  EUV                          
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          ?ASML被禁止向中國運送其部分關鍵的芯片制造工具
          
                                                            
            
                    	
          • 半導體設備制造商ASML表示，荷蘭政府禁止其向中國出口部分工具。ASML表示，荷蘭政府最近部分撤銷了其NXT：2050i和NXT：2100i光刻系統(tǒng)在2023年裝運的許可證。在撤銷船舶許可證之前，美國政府在10月份加強了對中國先進半導體和芯片制造工具的出口管制，并在此前的規(guī)定基礎上進行了進一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進芯片所需的最重要機器之一。美國的芯片限制使包括ASML在內的公司爭先恐后地弄清楚這些規(guī)則在實踐中的含義。ASML公司該公司表示，荷蘭政府禁止其制造最先進半導體的關鍵機器向中
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          • 關鍵字：
                        ASML  DUV  EUV                          
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          英特爾拿到首臺2nm光刻機 重回領先地位？
          
                                                            
            
                    	
          • 12月21日，荷蘭光刻機巨頭ASML通過社交媒體宣布，其首套高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻機正從荷蘭Veldhoven總部開始裝車發(fā)貨，將向英特爾進行交付。數值孔徑（NA）是光刻機光學系統(tǒng)的重要指標，直接決定了光刻的實際分辨率和最高能達到的工藝節(jié)點。
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          • 關鍵字：
                        英特爾  2nm  光刻機  EUV  ASML  臺積電                          
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          韓國總統(tǒng)到訪之際，ASML與三星達成7.52億美元的芯片廠協(xié)議
          
                                                            
            
                    	
          • 周二，荷蘭科技巨頭ASML和三星（Samsung）簽署了一項價值約7億歐元的協(xié)議，將在韓國建設一家半導體研究廠。與此同時，韓國總統(tǒng)尹錫悅（Yoon Suk Yeol）結束了這次以科技為重點的訪問的第一天。尹錫悅是第一位到訪ASML高度安全的“無塵室”的外國領導人，這次到訪荷蘭的目的是在這兩個全球半導體大國之間結成“芯片聯(lián)盟”。他參觀了ASML的城市規(guī)模設施，該公司制造先進的機器來制造半導體芯片，為從智能手機到汽車的一切提供動力。ASML和三星后來同意“未來共同”投資該設施，該設施將“使用下一代EUV（極紫
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          • 關鍵字：
                        三星  ASML  EUV                          
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          紐約州宣布聯(lián)合IBM、美光等公司，斥資100億美元建立研發(fā)中心
          
                                                            
            
                    	
          • 據IBM官網消息，美國紐約州州長宣布與IBM、美光以及其他行業(yè)參與者合作，投資100億美元在紐約州 Albany NanoTech Complex 建設下一代 High-NA EUV 半導體研發(fā)中心。IBM稱，這將是北美第一個也是唯一一個擁有高數值孔徑極紫外光刻(高NA EUV)系統(tǒng)的公共研發(fā)中心，可為開發(fā)和生產小于2nm的節(jié)點芯片鋪平道路。
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          • 關鍵字：
                        IBM  美光  EUV                          
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          佳能押注納米壓印技術 價格比阿斯麥EUV光刻機“少一位數”
          
                                                            
            
                    	
          • 11月6日消息，日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并計劃將新型芯片制造設備的價格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分，從而在光刻機領域取得進展。納米壓印技術是極紫外光刻（EUV）技術的低成本替代品。佳能首席執(zhí)行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的納米壓印技術將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條道路?！斑@款產品的價格將比阿斯麥的EUV少一位數，”現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退
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          • 關鍵字：
                        佳能  納米  壓印技術  阿斯麥  EUV  光刻機                          
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          納米壓印：一個「備胎」走向「臺前」的故事
          
                                                            
            
                    	
          • 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導體制造設備。對于 2004 年就開始探索納米壓印技術的佳能來說，新設備的推出無疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個設備型號是 FPA-1200NZ2C，目前可以實現最小線寬 14nm 的圖案化，相當于生產目前最先進的邏輯半導體所需的 5 納米節(jié)點。佳能表示當天開始接受訂單，目前已經向東芝供貨。半導體行業(yè)可謂是「苦光刻機久已」，納米壓印設備的到來，讓期盼已久的半導體迎來一線曙光。那么什么是納米壓印技術？這種技術距離真的能夠取代光刻機嗎？納米壓印走向臺前想要
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          • 關鍵字：
                        納米壓印  EUV  光刻機                          
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          EUV光刻技術仍需克服的三個缺點
          
                                                            
            
                    	
          • 光刻技術是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。其主要過程為：首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面，引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學反應；再通過顯影技術溶解去除曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域的光刻膠（前者稱正性光刻膠，后者稱負性光刻膠），使掩膜版上的圖形被復制到光刻膠薄膜上；最后利用刻蝕技術將圖形轉移到基片上。想要了解光刻技術對半導體供需穩(wěn)定將會產生什么樣的影響，首先要了解的是大家經常聽到的 14 納米 DRAM、4 納米應用處理器等用語，要先說明納米是什么意
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          • 關鍵字：
                        EUV                          
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          英特爾首次采用EUV技術的Intel 4制程節(jié)點已大規(guī)模量產
          
                                                            
            
                    	
          • 近日，英特爾宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術大規(guī)模量產（HVM）Intel 4制程節(jié)點。據英特爾中國官微獲悉，近日，英特爾宣布已開始采用極紫外光刻（EUV）技術大規(guī)模量產（HVM）Intel 4制程節(jié)點。據悉，作為英特爾首個采用極紫外光刻技術生產的制程節(jié)點，Intel 4與先前的節(jié)點相比，在性能、能效和晶體管密度方面均實現了顯著提升。極紫外光刻技術正在驅動著算力需求最高的應用，如AI、先進移動網絡、自動駕駛及新型數據中心和云應用。英特爾“四年五個制程節(jié)點”計劃正在順利推進中。目前，Intel 7和I
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          • 關鍵字：
                        英特爾  EUV  Intel4                          
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