high-na euv 文章 進入high-na euv技術社區(qū)
財經(jīng)專家揭秘臺積電「抗震神器」：1鈴聲預告出大事
- 花蓮外海3日上午發(fā)生規(guī)模7.2大地震，臺積電昨晚間發(fā)聲明，震后10小時內，晶圓廠設備的復原率已超過70％，雖少數(shù)設備受損并影響部分產線生產，但主要機臺包含所有極紫外（EUV）光刻設備皆無受損。對此，財經(jīng)專家黃世聰表示，臺積電晶圓廠的機臺，使用的是美國航天等級、連美軍都在用的阻尼器，且下方還有抗震減壓的機臺，把地震影響降到最小，且臺積電工程師訓練有素，只要發(fā)生地震、聽到公司手機響起臺積電之歌的鈴聲，就知道出大事、要趕回公司。臺積電產能牽動全球科技業(yè)，強震后外界關注影響。臺積電昨晚發(fā)布聲明，在3日地震發(fā)生后僅
- 關鍵字： 臺積電 抗震神器 EUV 強震
臺積電曝EUV主要機臺沒受損 美媒示警：強震后面臨考驗
- 昨日花蓮發(fā)生規(guī)模7.2地震，外媒高度關注是否對中國臺灣護國神山臺積電造成影響，臺積電表示，部分廠區(qū)的少數(shù)設備受損，但所有極紫外（EUV）光刻設備等主要機臺皆無受損。《華爾街日報》撰文指出，臺積電坐落在世界上最大地震熱點之一的中國臺灣，在昨日強震后將受到考驗。報導指出，在此次地震中臺積電是幸運的，因為其主要設施地點位在北、中、南部，與東部的震央距離相對較遠，這次臺積電新竹、龍?zhí)逗椭衲系瓤茖W園區(qū)的最大震度為5級 ，臺中和臺南科學園區(qū)的最大震度4級。雖然臺積電工廠建筑物完好無損，但用于制造半導體的設備和材料非常
- 關鍵字： 臺積電 EUV 強震
中國臺灣地震影響全球半導體業(yè) 一文看懂如何撼動芯片供應鏈
- 3日早上7點58分左右，中國臺灣花蓮發(fā)生規(guī)模7.2地震，擾亂臺積電在內的公司營運，臺積電對此表示，雖然部分廠區(qū)的少數(shù)設備受損并影響部分產線生產，但主要機臺包含所有極紫外（EUV）光刻設備皆無受損。許多外媒則示警，這凸顯了臺積電和全球芯片供應鏈處在地震的風險與威脅之中。 根據(jù)《商業(yè)內幕》報導，這場7.2強震凸顯了全球芯片供應鏈和臺積電的脆弱性，臺積電是世界上最大的芯片制造商，全球大約90%的最先進處理器芯片都是臺積電生產，而且中國臺灣也是小型芯片生產商的所在地。報導示警，如果大地震能夠擾亂臺積電，那么更具破
- 關鍵字： 半導體 芯片供應鏈 臺積電 EUV
High-NA EUV光刻機入場，究竟有多強？
- 光刻機一直是半導體領域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導體產業(yè)的發(fā)展奠定了堅實基礎；再到后來的極紫外光刻機（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機（High-NA）正式登上歷史舞臺，進一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。ASML 官網(wǎng)顯示，其組裝了兩個 TWINSCAN EXE:5000 高數(shù)值孔徑光刻系統(tǒng)。其中一個由 ASM 與 imec 合作開發(fā)，將于 2024 年安裝在 A
- 關鍵字： High-NA EUV
ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻機引入部分 High-NA 機型技術
- 3 月 27 日消息，據(jù)荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術，運行效率得以提升。根據(jù)IT之家之前報道，NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝，可實現(xiàn) 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術 High-NA（高數(shù)值孔徑） EUV 采用了更寬的光錐，這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬，會導致影響晶圓吞吐量的光損失。
- 關鍵字： ASM NXE:3800E EUV 光刻機 High-NA
ASML正計劃搬離荷蘭？向外擴張轉移業(yè)務成為最優(yōu)解
- 據(jù)路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內陸網(wǎng)絡，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經(jīng)濟高度依賴國際貿易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
- 關鍵字： ASML 荷蘭 EUV 佳能 光刻機
英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機？
- HIGH NA 無疑是打贏下一場比賽的重要籌碼。
- 關鍵字： 英特爾 ASML HIGH NA光刻機
英特爾拿下首套High-NA EUV，臺積電如何應對？
- 英特爾（intel）近日宣布，已經(jīng)接收市場首套具有0.55數(shù)值孔徑（High-NA）的ASML極紫外（EUV）光刻機，預計在未來兩到三年內用于 intel 18A 工藝技術之后的制程節(jié)點。 相較之下，臺積電則采取更加謹慎的策略，業(yè)界預計臺積電可能要到A1.4制程，或者是2030年之后才會采用High-NA EUV光刻機。業(yè)界指出，至少在初期，High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA EUV，這也是臺積電暫時觀望的原因，臺積電更傾向于采用成本更低的成熟技術，以確保產品競爭力。Hig
- 關鍵字： 英特爾 High-NA EUV 臺積電
ASML兩款光刻機出口許可被撤銷
- 1月2日，全球光刻機龍頭ASML在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱，荷蘭政府最近撤銷了此前頒發(fā)給其2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證，這將對ASML在中國內地的個別客戶產生影響。在聲明中，ASML表示：“在新的出口管制條例下，今年（指2023年）年底前ASML仍能履行已簽訂的合同，發(fā)運這些光刻設備。客戶也已知悉出口管制條例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發(fā)運這些設備的出口許可證?！鳖A計此次出口許可證撤銷及最新的美國出口管制限制不會對公司2023
- 關鍵字： ASML 光刻機 DUV EUV
high-na euv介紹
您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條high-na euv!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對high-na euv的理解，并與今后在此搜索high-na euv的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對high-na euv的理解，并與今后在此搜索high-na euv的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
high-na euv電路
high-na euv相關帖子
high-na euv資料下載
high-na euv專欄文章
關于我們 -
廣告服務 -
企業(yè)會員服務 -
網(wǎng)站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網(wǎng)安備11010802012473