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high-na euv 文章 進(jìn)入high-na euv技術(shù)社區(qū)
阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī) 70%賣給了臺(tái)積電
- 本周一,外媒援引韓國(guó)產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報(bào)道稱,光刻機(jī)制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心。在報(bào)道阿斯麥將在華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心時(shí),外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),但他們獲得的數(shù)量同臺(tái)積電相比,有不小的差距?! ⊥饷皆趫?bào)道中提到,阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),70%是賣給了臺(tái)積電,留給其他廠商的就只有30%?! “⑺果?zhǔn)悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機(jī)的廠商,他們已推出了TWIN
- 關(guān)鍵字: 阿斯麥 極紫光刻機(jī) EUV 臺(tái)積電
不用EUV光刻機(jī)就搞定類7nm工藝?中芯國(guó)際回應(yīng)
- 做為國(guó)內(nèi)最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造公司,中芯國(guó)際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注,其中7nm及以下節(jié)點(diǎn)非常重要,這還牽涉到EUV光刻機(jī)?! ∪涨坝泄擅裨诨?dòng)平臺(tái)上詢問(wèn),稱有報(bào)道指出中芯國(guó)際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝,要求中芯國(guó)際澄清?! ?duì)此,中芯國(guó)際表示,公司不針對(duì)傳言進(jìn)行評(píng)論。 從中芯國(guó)際官網(wǎng)的介紹來(lái)看,該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm,接下來(lái)的是N+1、N+2工藝,但沒(méi)有指明具體的工藝節(jié)點(diǎn)?! ≈行緡?guó)際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示,經(jīng)過(guò)三年的積累,F(xiàn)inFET工藝已經(jīng)取得了不錯(cuò)的成績(jī),N+1已經(jīng)
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里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片
- 藍(lán)色巨人出手就是王炸。 5月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片?! 『诵闹笜?biāo)方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬(wàn)顆晶體管)為333.33,幾乎是臺(tái)積電5nm的兩倍,也比外界預(yù)估臺(tái)積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高?! ?nm晶圓近照 換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內(nèi),就能容納500億顆晶體管?! ⊥瑫r(shí),IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當(dāng)前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗?! ?shí)際上,I
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ASML澄清與中芯國(guó)際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同
- 近日,中芯國(guó)際與ASML達(dá)成12億美元交易購(gòu)買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對(duì)雙方此次合作,有媒體報(bào)道稱“除了EUV光刻機(jī),中芯國(guó)際幾乎可以買到其他所有型號(hào)的光刻機(jī)?!钡沁@一說(shuō)法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)。 可能很多網(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來(lái)繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個(gè)小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過(guò)字面就知道EUV看上去就比DUV高級(jí),實(shí)際上也是如此?! SML澄清與中
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中國(guó)芯片業(yè)為什么搞不過(guò)一家荷蘭公司
- 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財(cái)報(bào),這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺(tái)EUV光刻機(jī),中國(guó)大陸由于種種原因沒(méi)有買到其中任何一臺(tái)。 有人說(shuō)阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€(gè)能讓臺(tái)積電折腰的公司,這一點(diǎn)也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒(méi)有刀,再好的師傅也雕不出來(lái)花?! ∪绻腥魏螐S商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時(shí)計(jì)的美金。 曾經(jīng),某上市公司的光刻機(jī)出問(wèn)題后,排了3年隊(duì)才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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全球最大光刻機(jī)廠CEO:拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢(shì)
- 拜登上任在即,他會(huì)緩解緊張的中美科技局勢(shì)嗎?近期,全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國(guó)在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域,仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對(duì)抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開(kāi)源指令集架構(gòu)RISC-V可能會(huì)讓中國(guó)芯片自主「彎道超車」? 離美國(guó)新任總統(tǒng)拜登的上任越來(lái)越近了?! ≡谶^(guò)去川普任職期內(nèi),中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一?! ∮捎诿绹?guó)政府的壓力,其最新價(jià)值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國(guó)銷售?! ∮捎诖ㄆ盏呐e動(dòng)常常出其不意而且瘋狂
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在EUV光刻技術(shù)上,日本公司壟斷了光刻膠的供應(yīng)
- 雖然將會(huì)有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個(gè)市場(chǎng)是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導(dǎo)體光刻技術(shù),但是毫無(wú)疑問(wèn),這就是光刻技術(shù)的未來(lái)。與任何未來(lái)一樣,它為一些光刻材料市場(chǎng)開(kāi)拓者提供了在新市場(chǎng)中建立自己的機(jī)會(huì)。尤其是目前由兩家日本公司生產(chǎn)使用EUV光刻機(jī)所使用的技術(shù)處理材料,而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學(xué)將在2021年開(kāi)始為下一代芯片提供光刻材料,這可能有助于減小智能手機(jī)和其他設(shè)備的芯片尺寸,并使它們更加節(jié)能。這
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斥資440億元采購(gòu)EUV光刻機(jī)?臺(tái)積電:不評(píng)論傳聞
- 9月30日訊,此前有媒體報(bào)道,由于先進(jìn)制程推進(jìn)順利和訂單量擴(kuò)大,臺(tái)積電將加大EUV光刻機(jī)的采購(gòu)力度,預(yù)計(jì)到2021年底采購(gòu)量為55臺(tái)左右。臺(tái)積電方面回復(fù)稱:公司不評(píng)論市場(chǎng)傳聞。據(jù)了解,一臺(tái)EUV光刻機(jī)售價(jià)近8億元,55臺(tái)EUV光刻機(jī)價(jià)值約440億元。相關(guān)閱讀:臺(tái)積電明年底前將累計(jì)采購(gòu)55臺(tái)EUV光刻機(jī):花費(fèi)超440億元出處:快科技 作者:萬(wàn)南芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下,這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了,目前全世界只有荷蘭ASML(阿斯麥)可以制造。來(lái)自Digitimes的報(bào)道稱,臺(tái)積電打算在
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華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)?ASML華裔工程師:天方夜譚
- 9月16日,中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱,“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局,集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。白春禮稱,從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此,首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱,目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu),目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評(píng)價(jià)、分類資源配置?!斑@個(gè)工作還沒(méi)有完,只是進(jìn)行了一部分,所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完,
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10億元一臺(tái)EUV光刻機(jī)!芯片產(chǎn)能數(shù)量曝光:夠華為手機(jī)用嗎?
- 相信大家都知道,在前幾天,ASML重磅官宣了一條大新聞,正式在中國(guó)寶島臺(tái)灣建設(shè)了第一家海外培訓(xùn)中心—亞洲培訓(xùn)中心,這家培訓(xùn)中心標(biāo)配了14名培訓(xùn)技師,一年大約可以培養(yǎng)超過(guò)360名EUV光刻機(jī)操作工程師,能夠讓芯片生產(chǎn)加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機(jī),從而可以進(jìn)一步提高5nm/3nm芯片的良品率,其實(shí)ASML在臺(tái)灣建設(shè)這座亞洲培訓(xùn)中心,最大的目的就是為了直接幫助臺(tái)積電培養(yǎng)更多的光刻機(jī)操作工程師,因?yàn)樵谶^(guò)去兩年時(shí)間里,ASML一共售賣了57臺(tái)EUV光刻機(jī)產(chǎn)品,其中臺(tái)積電就購(gòu)得了30臺(tái),占據(jù)著絕大部分的份額,
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臺(tái)積電:5nm EUV工藝已在量產(chǎn)、明年推出增強(qiáng)版
- 24日,臺(tái)積電舉辦了第26屆技術(shù)研討會(huì),并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺(tái)積電的說(shuō)法,5nm工藝規(guī)劃了兩代,分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV(極紫外光刻)技術(shù),并且已經(jīng)在大規(guī)模量產(chǎn)之中。相較于N7,N5的功耗降低了30%、性能提升了15%,邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版,仍在開(kāi)發(fā)中,規(guī)劃2021年量產(chǎn),相較于第一代5nm,功耗進(jìn)一步降低10%、性能提升5%,據(jù)稱面向高性能計(jì)算平臺(tái)做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料,臺(tái)積電的5nm有望應(yīng)用在蘋果A14芯片(包括Apple Silicon PC處
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臺(tái)積電采購(gòu)30臺(tái)EUV光刻機(jī)沖刺7/5nm,ASML就近設(shè)立培訓(xùn)中心
- 臺(tái)積電在高端制程技術(shù)上沖鋒陷陣,已經(jīng)成為光刻機(jī)龍頭 ASML 在 EUV 機(jī)臺(tái)上的最大采購(gòu)客戶,累計(jì)已經(jīng)購(gòu)買了 30 臺(tái) EUV 設(shè)備。日前,ASML 繼在韓國(guó)成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心后,也在臺(tái)積電先進(jìn)制程的重鎮(zhèn)臺(tái)灣臺(tái)南,成立 EUV 技術(shù)培訓(xùn)中心。一臺(tái)EUV系統(tǒng)需要50個(gè)工程師操作一臺(tái)造價(jià)逾一億歐元的精密 EUV 系統(tǒng),重量高達(dá) 180&nbs
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Intel/臺(tái)積電/ASML齊捧EUV光刻:捍衛(wèi)摩爾定律
- 日前,中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)(CSTIC)在上海開(kāi)幕,為期19天,本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進(jìn)工藝的設(shè)備,EUV技術(shù)已經(jīng)被廣泛認(rèn)為是突破摩爾定律瓶頸的關(guān)鍵因素之一。Yen援引統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,截至2019年第四季度,ASML當(dāng)年共售出53臺(tái)EUV NXE:3400系列EUV光刻機(jī),使用EUV機(jī)器制造的芯片產(chǎn)量已經(jīng)達(dá)到1000萬(wàn)片。他說(shuō),EUV已經(jīng)成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
- 關(guān)鍵字: Intel 臺(tái)積電 ASML EUV 光刻 摩爾定律
華為、蘋果7/5nm需求大 臺(tái)積電狂加EUV訂單
- 2020年因?yàn)槿蚪?jīng)濟(jì)的問(wèn)題,本來(lái)電子行業(yè)會(huì)下滑,但是晶圓代工場(chǎng)合不降反升,臺(tái)積電Q1季度營(yíng)收大漲了30%,牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大,臺(tái)積電目前正在瘋狂增加EUV產(chǎn)能。臺(tái)積電2018年量產(chǎn)了7nm工藝,不過(guò)第一代7nm沒(méi)有EUV工藝加持,2019年的7nm EUV工藝才由華為的麒麟990 5G處理器首發(fā),而今年的5nm工藝則會(huì)全面上馬EUV工藝。根據(jù)臺(tái)積電之前公布的數(shù)據(jù),7nm及7nm EUV工藝目前每月的產(chǎn)能達(dá)到了11萬(wàn)片晶圓/月,而5nm工藝的月
- 關(guān)鍵字: 華為 蘋果 5nm 臺(tái)積電 EUV
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歡迎您創(chuàng)建該詞條,闡述對(duì)high-na euv的理解,并與今后在此搜索high-na euv的朋友們分享。 創(chuàng)建詞條
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