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          中國(guó)真的對(duì)FD-SOI制程技術(shù)有興趣?

          •   身為一位記者,我發(fā)現(xiàn)撰寫(xiě)有關(guān)于“熱門(mén)”公司、技術(shù)與人物的報(bào)導(dǎo),要比我通常負(fù)責(zé)的技術(shù)主題容易得多;一旦我寫(xiě)了那些“時(shí)髦”的標(biāo)題,我會(huì)確實(shí)感受到人氣飆漲。   因 為幾乎每家媒體都窮追不舍,我不需要向讀者解釋為何我要寫(xiě)那些,以及那些新聞為何對(duì)他們重要;我馬上想到的是美國(guó)總統(tǒng)候選人川普(Donald Trump)、蘋(píng)果(Apple)還有FinFET。而相反的,要寫(xiě)冷門(mén)題材、比較少人討論的話題,挑戰(zhàn)性就高得多;部分讀者會(huì)有先入為主的看法,認(rèn)為那 些題目不關(guān)他們
          • 關(guān)鍵字: FD-SOI  FinFET  

          FD-SOI與FinFET互補(bǔ),是中國(guó)芯片業(yè)彎道超車(chē)機(jī)會(huì)

          • 本文介紹了Soitec半導(dǎo)體公司的全耗盡絕緣硅(FD-SOI)的特點(diǎn)、最新進(jìn)展及其生態(tài)系統(tǒng),并將FD-SOI與FinFET作比較,分析了各自的優(yōu)勢(shì)、應(yīng)用領(lǐng)域和應(yīng)用前景。
          • 關(guān)鍵字: FD-SOI  FinFET  制造  201604  

          “中國(guó)芯”入資法國(guó)半導(dǎo)體公司

          • 中國(guó)芯片企業(yè)起步較晚,在發(fā)展中屢屢遭受?chē)?guó)際巨頭的“專(zhuān)利圍剿”,通過(guò)支持重點(diǎn)企業(yè)的兼并重組及海外收購(gòu),培育具有核心競(jìng)爭(zhēng)力的大型企業(yè),無(wú)疑是明智的手段,也是最有效的手段。
          • 關(guān)鍵字: Soitec  FD-SOI  

          Soitec半導(dǎo)體公司和FD-SOI技術(shù):選擇理想的企業(yè)和技術(shù),助力中國(guó)創(chuàng)新藍(lán)圖

          •   全球領(lǐng)先的絕緣硅(SOI)晶圓制造商法國(guó)Soitec半導(dǎo)體公司今日在北京舉辦的新聞發(fā)布會(huì)中介紹了該公司在中國(guó)市場(chǎng)的發(fā)展歷史、全耗盡絕緣硅(FD-SOI)基板的成熟性和生產(chǎn)及準(zhǔn)備狀態(tài)、FD-SOI的最新進(jìn)展及其生態(tài)系統(tǒng)。與會(huì)發(fā)言人包括Soitec公司市場(chǎng)和業(yè)務(wù)拓展部高級(jí)副總裁Thomas Piliszczuk, 以及Soitec公司數(shù)字電子商務(wù)部高級(jí)副總裁Christophe Maleville。會(huì)上主要討論的問(wèn)題包括該技術(shù)是否適合各代工廠及應(yīng)用設(shè)計(jì)師廣泛使用,更重要的是,該技術(shù)如何解決中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)及
          • 關(guān)鍵字: Soitec  FD-SOI  

          三星發(fā)飆:半導(dǎo)體28nm FD-SOI投片 功耗暴降一半

          •   蘋(píng)果(Apple)宣布以182萬(wàn)美元從美信半導(dǎo)體(Maxim Integrated)買(mǎi)下位于加州圣荷西的一座8吋晶圓廠。專(zhuān)家分析認(rèn)為,此舉并不會(huì)影響與蘋(píng)果合作的晶圓代工廠生意。   據(jù)SemiWiki報(bào)導(dǎo)指出,SEMI World Fab Watch Database資料顯示,蘋(píng)果買(mǎi)下的晶圓廠于1987年建立,即使全面開(kāi)工每月也只能生產(chǎn)1萬(wàn)片晶圓,規(guī)模相對(duì)小且老舊,無(wú)法生產(chǎn)蘋(píng)果所需的應(yīng)用處理器(AP)。   蘋(píng)果最新AP采16/14納米FinFET制程,而10納米制程也正在開(kāi)發(fā)中。8吋晶圓近日才微
          • 關(guān)鍵字: 三星  FD-SOI  

          手機(jī)鏈考量?技術(shù)分水嶺抉擇?大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展FD-SOI

          •   DIGITIMES Research觀察,大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近期積極擁抱全空乏絕緣上覆矽(Fully Depleted Silicon-on-Insulator;FD-SOI,有時(shí)也稱(chēng)Ultra-Thin Body;UTB)制程技術(shù),包含拜會(huì)關(guān)鍵晶圓片底材供應(yīng)商、簽署相關(guān)合作協(xié)議、于相關(guān)高峰論壇上表態(tài)等。大陸選擇FD-SOI路線,而非臺(tái)積電(Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.;TSMC)、英特爾(Intel)的FinFET(鰭式場(chǎng)效電晶體)路線,估與手
          • 關(guān)鍵字: 半導(dǎo)體  FD-SOI  

          Leti從FD-SOI學(xué)到的一課:打造生態(tài)系統(tǒng)

          •   今年由歐洲兩大主要研發(fā)中心——法國(guó)CEA-Leti和比利時(shí)IMEC舉辦的年度開(kāi)放日活動(dòng)剛好都在六月的同一時(shí)期舉行。但這種時(shí)程的沖突并不是有意的,至少Leti是這么認(rèn)為。Leti的一位官方代表指出,“在過(guò)去七年來(lái)我們一直是在六月的同一周舉行年度活動(dòng)。對(duì)他們來(lái)說(shuō),我們的排程應(yīng)該不是什么秘密。”        Leti位于法國(guó)格勒諾布爾市創(chuàng)新園區(qū)的核心地帶   不過(guò),位于格勒諾布爾的Leti Days和位于布魯塞爾的IMEC技術(shù)論壇這兩大
          • 關(guān)鍵字: FD-SOI  物聯(lián)網(wǎng)  

          中國(guó)石墨烯技術(shù)重大突破——石墨烯層數(shù)可調(diào)控

          • 可控石墨烯薄膜制備方面取得新進(jìn)展:設(shè)計(jì)了Ni/Cu體系,利用離子注入技術(shù)引入碳源,通過(guò)精確控制注入碳的劑量,成功實(shí)現(xiàn)了對(duì)石墨烯層數(shù)的調(diào)控,有助于實(shí)現(xiàn)石墨烯作為電子材料在半導(dǎo)體器件領(lǐng)域真正的應(yīng)用。  
          • 關(guān)鍵字: 石墨烯  SOI  

          哪些半導(dǎo)體公司會(huì)成為22nm FD-SOI的嘗鮮者?

          •   美國(guó)時(shí)間7月13日GlobalFoundries宣布推出其全新的“22FDX”工藝平臺(tái),成為全球第一家實(shí)現(xiàn)22nm FD-SOI(全耗盡絕緣硅),專(zhuān)為超低功耗芯片打造。        FD- SOI技術(shù)仍然采用平面型晶體管,目前并不為業(yè)內(nèi)看好,因?yàn)闊o(wú)論Intel還是三星、臺(tái)積電,22n時(shí)代起就紛紛轉(zhuǎn)入了立體晶體管,也就是FinFET。GlobalFoundries技術(shù)實(shí)力欠佳,自己搞不出足夠好的立體晶體管技術(shù),22nm上只能繼續(xù)改進(jìn)平面型,20nm上努力了一
          • 關(guān)鍵字: FD- SOI  FinFET  

          格羅方德半導(dǎo)體推出業(yè)內(nèi)首個(gè)22nm FD-SOI工藝平臺(tái)

          •   格羅方德半導(dǎo)體(GLOBAL FOUNDRIES)今日發(fā)布一種全新的半導(dǎo)體工藝,以滿足新一代聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的超低功耗要求。“22FDX™”平臺(tái)提供的性能和功耗媲美FinFET,而成本則與28nm平面晶體管工藝相當(dāng),為迅速發(fā)展的移動(dòng)、物聯(lián)網(wǎng)、RF連接和網(wǎng)絡(luò)市場(chǎng)提供了一個(gè)最佳解決方案。   雖然某些設(shè)備對(duì)三維FinFet晶體管的終極性能有要求,但大多數(shù)無(wú)線設(shè)備需要在性能、功耗和成本之間實(shí)現(xiàn)更好的平衡。22FDX 采用業(yè)內(nèi)首個(gè)22nm二維全耗盡平面晶體管技術(shù)(FD-SOI)工
          • 關(guān)鍵字: 格羅方德  FD-SOI  

          GlobalFoundries全球首發(fā)22nm FD-SOI工藝

          •   GlobalFoundries今天宣布推出全新的“22FDX”工藝平臺(tái),全球第一家實(shí)現(xiàn)22nm FD-SOI(全耗盡絕緣硅),專(zhuān)為超低功耗芯片打造。 FD-SOI技術(shù)仍然采用平面型晶體管, 目前并不為業(yè)內(nèi)看好,因?yàn)闊o(wú)論Intel還是三星、臺(tái)積電,22n時(shí)代起就紛紛轉(zhuǎn)入了立體晶體管,也就是FinFET。GlobalFoundries技 術(shù)實(shí)力欠佳,自己搞不出足夠好的立體晶體管技術(shù),22nm上只能繼續(xù)改進(jìn)平面型,20nm上努力了一陣放棄了,14nm索性直接借用三星的。   
          • 關(guān)鍵字: GlobalFoundries  FD-SOI  

          只能FinFET或FD-SOI?二合一也行!

          •   在我們大多數(shù)人“非黑即白”、“非此即彼”的觀念里,半導(dǎo)體業(yè)者應(yīng)該不是選擇FinFET就是FD-SOI制程技術(shù);不過(guò)既然像是臺(tái)積電(TSMC)、GlobalFoundrie或三星(Samsung)等晶圓代工廠,必須要同時(shí)提供以上兩種制程產(chǎn)能服務(wù)客戶,有越來(lái)越多半導(dǎo)體制造商也正在考慮也致力提供“兩全其美”的制程技術(shù)。   例如飛思卡爾半導(dǎo)體(Freescale Semiconductor)最近就透露,該公司正在14至16奈米節(jié)點(diǎn)采用
          • 關(guān)鍵字: FinFET  FD-SOI  

          FD-SOI制程技術(shù)已到引爆點(diǎn)?

          •   身為記者,我有時(shí)候會(huì)需要經(jīng)過(guò)一系列的資料收集──通常包含非正式評(píng)論、隨機(jī)事實(shí)(random facts)、推特文章、研討會(huì)/座談會(huì)資料或是公關(guān)宣傳稿,然后才能把許多線索串聯(lián)在一起;全空乏絕緣上覆矽(Fully depleted silicon-on-insulator,F(xiàn)D-SOI)就是一個(gè)例子。   我從美國(guó)旅行到中國(guó)接著又到歐洲,在與電子產(chǎn)業(yè)人士討論技術(shù)的過(guò)程中,發(fā)現(xiàn)FD-SOI從一個(gè)不容易了解的名詞,逐漸變得越來(lái)越“有形”。關(guān)于這個(gè)技術(shù),我在最近這幾個(gè)星期所收集到的隨機(jī)
          • 關(guān)鍵字: 晶圓  FD-SOI  

          華虹半導(dǎo)體新一代700V BCD工藝解決方案成功量產(chǎn),助力LED照明騰飛

          •   華虹半導(dǎo)體有限公司(「華虹半導(dǎo)體」或「公司」,連同其附屬公司,統(tǒng)稱(chēng)「集團(tuán)」)今日宣布,其新一代超高壓0.5微米700V BCD系列工藝平臺(tái)已經(jīng)成功實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),良率超過(guò)98%,達(dá)到國(guó)際一流水平。該工藝平臺(tái)主要針對(duì)諸如AC-DC轉(zhuǎn)換器和LED照明等綠色能源的應(yīng)用,具有業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的低導(dǎo)通電阻、高可靠性、低成本和流片周期短等特點(diǎn),可為客戶提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的單芯片解決方案。目前,已有多家客戶在該平臺(tái)量產(chǎn),各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到或超過(guò)客戶要求。   在全球節(jié)能環(huán)保的大趨勢(shì)下,LED綠色照明已經(jīng)進(jìn)入快速發(fā)展期。據(jù)相關(guān)機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì),
          • 關(guān)鍵字: 華虹半導(dǎo)體  BCD  

          華虹半導(dǎo)體新一代700V BCD工藝解決方案成功量產(chǎn) 助力LED照明騰飛

          •   香港, 2015年4月22日 - (亞太商訊) - 全球領(lǐng)先的200mm純晶圓代工廠── 華虹半導(dǎo)體有限公司(「華虹半導(dǎo)體」或「公司」,連同其附屬公司,統(tǒng)稱(chēng)「集團(tuán)」)今日宣布,其新一代超高壓0.5微米700V BCD系列工藝平臺(tái)已經(jīng)成功實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),良率超過(guò)98%,達(dá)到國(guó)際一流水平。該工藝平臺(tái)主要針對(duì)諸如AC-DC轉(zhuǎn)換器和LED照明等綠色能源的應(yīng)用,具有業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的低導(dǎo)通電阻、高可靠性、低成本和流片周期短等特點(diǎn),可為客戶提供極具競(jìng)爭(zhēng)力的單芯片解決方案。目前,已有多家客戶在該平臺(tái)量產(chǎn),各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到或超過(guò)客戶
          • 關(guān)鍵字: 華虹  BCD  
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